WLAN SOC 技術
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技術名稱-中文WLAN SOC 技術的執行單位是工研院晶片中心, 產出年度是93, 計畫名稱是晶片系統關鍵技術發展四年計畫, 技術規格是1. Clock 40MHz, Data Rate 6, 9, 12, 18, 24, 36, 48, or 54 Mbps 2. Customize MAC layer Interface 3. Customize RF/ADC/DAC/RSSI Interface, 潛力預估是可與 SOC 整合,有更多獲利空間.

序號338
產出年度93
技術名稱-中文WLAN SOC 技術
執行單位工研院晶片中心
產出單位(空)
計畫名稱晶片系統關鍵技術發展四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文利用 OFDM 技術,建構 802.11a/g Wireless Baseband 傳輸模組,經 FPGA 實驗可達到正確資料傳送接收,並容易搭配客製類比前端及 RF
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1. Clock 40MHz, Data Rate 6, 9, 12, 18, 24, 36, 48, or 54 Mbps 2. Customize MAC layer Interface 3. Customize RF/ADC/DAC/RSSI Interface
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍Digital home WLAN SOC
潛力預估可與 SOC 整合,有更多獲利空間
聯絡人員朱元華
電話03-5919032
傳真(空)
電子信箱yhchu@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備高頻模擬軟體,高頻訊號產生器,頻譜儀,網路分析儀
需具備之專業人才無線通訊理論及設計

序號

338

產出年度

93

技術名稱-中文

WLAN SOC 技術

執行單位

工研院晶片中心

產出單位

(空)

計畫名稱

晶片系統關鍵技術發展四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

利用 OFDM 技術,建構 802.11a/g Wireless Baseband 傳輸模組,經 FPGA 實驗可達到正確資料傳送接收,並容易搭配客製類比前端及 RF

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1. Clock 40MHz, Data Rate 6, 9, 12, 18, 24, 36, 48, or 54 Mbps 2. Customize MAC layer Interface 3. Customize RF/ADC/DAC/RSSI Interface

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

Digital home WLAN SOC

潛力預估

可與 SOC 整合,有更多獲利空間

聯絡人員

朱元華

電話

03-5919032

傳真

(空)

電子信箱

yhchu@itri.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

高頻模擬軟體,高頻訊號產生器,頻譜儀,網路分析儀

需具備之專業人才

無線通訊理論及設計

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WCDMA IP Verification Platform

執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: Porting資策會開發之WCDMA R4 L2/L3 Protocol於CCL ARM target board、整合WCDMA R4 L2/L3 Protocol+L1 Software+第一版符... | 潛力預估: 建立Layer 1 軟體與上層protocol軟體整合驗證之技術、建立TTCN Test Cases 開發之技術

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CMOS功率放大器

執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻無線通訊關鍵技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: CMOS功率電晶體大訊號與可靠度量測資料庫 2).新型CMOS功率放大器功率結合匹配電路 3).CMOS功率放大器可靠度保護電路 | 潛力預估: CMOS PA 設計符合國際RF FEM整合趨勢,應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

ADS應用於射頻功率放大器設計與模擬

出版日期: 2014-05 | 出版單位: 國立清華大學 | 作者資訊: 邱煥凱 | 林貴城編著 | ISBN: 9789866116438 | 語言: 中文 | 適用對象: 成人(學術性) | 主題分類: 科學技術 | 書籍介紹: 射頻積體電路 (RF IC) 晶片主要可分為功率放大器 (power amplifier)、收發器 (transceiver)、鎖相迴路 (phase lock loop) 三大部分。目前鎖相迴路與收... | 授權資訊: 聯絡處室:國立清華大學出版社;姓名:范師豪;電話:03-5715131-34552;地址:30013新竹市東區光復路二段101號

@ 出版書目資料

WCDMA IP Verification Platform

執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: Porting資策會開發之WCDMA R4 L2/L3 Protocol於CCL ARM target board、整合WCDMA R4 L2/L3 Protocol+L1 Software+第一版符... | 潛力預估: 建立Layer 1 軟體與上層protocol軟體整合驗證之技術、建立TTCN Test Cases 開發之技術

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CMOS功率放大器

執行單位: 工研院資通所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻無線通訊關鍵技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: CMOS功率電晶體大訊號與可靠度量測資料庫 2).新型CMOS功率放大器功率結合匹配電路 3).CMOS功率放大器可靠度保護電路 | 潛力預估: CMOS PA 設計符合國際RF FEM整合趨勢,應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

ADS應用於射頻功率放大器設計與模擬

出版日期: 2014-05 | 出版單位: 國立清華大學 | 作者資訊: 邱煥凱 | 林貴城編著 | ISBN: 9789866116438 | 語言: 中文 | 適用對象: 成人(學術性) | 主題分類: 科學技術 | 書籍介紹: 射頻積體電路 (RF IC) 晶片主要可分為功率放大器 (power amplifier)、收發器 (transceiver)、鎖相迴路 (phase lock loop) 三大部分。目前鎖相迴路與收... | 授權資訊: 聯絡處室:國立清華大學出版社;姓名:范師豪;電話:03-5715131-34552;地址:30013新竹市東區光復路二段101號

@ 出版書目資料

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Low Power Circuit Design技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: PLL:12MHz in, 456MHz out, 24Mhz Stepping, RMS Jitter 35ps, P-P Jitter 150ps. MAC: Two 16 bit 2's com... | 潛力預估: 可應用於各種時脈產生,及數位濾波器,及資料暫存設計

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Low Power Circuit Design技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: PLL:12MHz in, 456MHz out, 24Mhz Stepping, RMS Jitter 35ps, P-P Jitter 150ps. MAC: Two 16 bit 2's com... | 潛力預估: 可應用於各種時脈產生,及數位濾波器,及資料暫存設計

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抗菌中草藥(台灣產藥材)臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

止咳中草藥(台灣產藥材)臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

抗精神病藥物臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

中草藥活性指標分離及品管技術建立技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥安全性評估模式之建立

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助廠商進行藥物案全性評估,節省廠商之開發成本增加成功機率。

藥材化學品管技術開發

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥國際形象網

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

顯示器塑膠基材高硬度薄膜處理技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 光學薄膜其表面硬度≧3H‧ 穿透度≧90%。 接著強度符合JIS K5400 | 潛力預估: 顯示器用塑膠基材所需之光學塗裝其相關研究成果與專利於1980陸續被提出,且其全球市場產值預估於2005達到36億元新台幣,且預計至2008年市場產值將達到100億元新台幣。

高分子奈微米結構光學膜板加工應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ feature size between 100-300nm,‧ deviation | 潛力預估: 高分子微光學膜片佔顯示器成本10-15%,隨著平面顯示器的需求,其產值不斷攀升,每年有數百億的市場規模

顯示器用封裝材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 硬度(shore D) ≧50‧ 接著強度(Lap-Shear) ≧40kgf/cm2‧ 透光率 (製樣厚度1mm) ≧90% | 潛力預估: 10億新台幣

軟板用高性能接著劑技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可進行大面積Roll to Roll塗佈 | 潛力預估:

紅外線遮蔽奈米粉體與膠體製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Sb/Sn = 5~15%‧ 晶粒大小 < 10nm‧ 膠體固含量: 30%‧ 粒徑大小D50 | 潛力預估: 在亞熱帶地區越來越多大樓的玻璃窗與汽車玻璃都會加裝一層具有阻絕紫外線與紅外線射進室內的透明薄層濾光物質,以便達到抗UV與隔熱效果。台灣地區的汽車數量已超過2千萬五千輛,而其中會在車窗玻璃加裝隔熱紙的車...

液晶純化回收技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% | 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。

UV交聯型顏料微粒化分散技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 顏料分散液顏料平均粒徑(D50):洋紅、黃色、藍色≦100 nm,黑色≦120 nm‧ 顏料分散液顏料含量≧15 wt%‧ 顏料分散液黏度≦70 cps‧ 經40℃、30天後,顏料粒徑變化小於30... | 潛力預估: Non-Volatile UV curable 顏料分散沒含溶劑,黏度低、高安定分散,微粒化分散粒徑

奈米混成高硬度塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 通過百格試驗、‧ 耐酒精擦拭、‧ 鉛筆硬度達3H、‧ 透光度>90%、Haze | 潛力預估: 應 用在光電薄膜、塑膠地磚、地板、木器、金屬及3C產業的耐磨高硬度塗料市場,估計超過50億元。

抗菌中草藥(台灣產藥材)臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

止咳中草藥(台灣產藥材)臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

抗精神病藥物臨床前研發技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可將公司產品延伸至相關之藥品、食品及生技醫療領域,極具市場潛力對於異業投入或公司轉型有相當之助力。

中草藥活性指標分離及品管技術建立技術

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥安全性評估模式之建立

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助廠商進行藥物案全性評估,節省廠商之開發成本增加成功機率。

藥材化學品管技術開發

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

中草藥國際形象網

執行單位: 藥技中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 呼吸道及抗關節炎植物藥與科學技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可協助業者建立符合國際級之品管規格,以利日國產品之外銷。

顯示器塑膠基材高硬度薄膜處理技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 光學薄膜其表面硬度≧3H‧ 穿透度≧90%。 接著強度符合JIS K5400 | 潛力預估: 顯示器用塑膠基材所需之光學塗裝其相關研究成果與專利於1980陸續被提出,且其全球市場產值預估於2005達到36億元新台幣,且預計至2008年市場產值將達到100億元新台幣。

高分子奈微米結構光學膜板加工應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ feature size between 100-300nm,‧ deviation | 潛力預估: 高分子微光學膜片佔顯示器成本10-15%,隨著平面顯示器的需求,其產值不斷攀升,每年有數百億的市場規模

顯示器用封裝材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 硬度(shore D) ≧50‧ 接著強度(Lap-Shear) ≧40kgf/cm2‧ 透光率 (製樣厚度1mm) ≧90% | 潛力預估: 10億新台幣

軟板用高性能接著劑技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可進行大面積Roll to Roll塗佈 | 潛力預估:

紅外線遮蔽奈米粉體與膠體製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Sb/Sn = 5~15%‧ 晶粒大小 < 10nm‧ 膠體固含量: 30%‧ 粒徑大小D50 | 潛力預估: 在亞熱帶地區越來越多大樓的玻璃窗與汽車玻璃都會加裝一層具有阻絕紫外線與紅外線射進室內的透明薄層濾光物質,以便達到抗UV與隔熱效果。台灣地區的汽車數量已超過2千萬五千輛,而其中會在車窗玻璃加裝隔熱紙的車...

液晶純化回收技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 比阻值:>1013 W Cm‧ 水份:95% | 潛力預估: 本技術用於TFT-LCD液晶回收純化之產值預估可達新台幣5~10億元。

UV交聯型顏料微粒化分散技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 顏料分散液顏料平均粒徑(D50):洋紅、黃色、藍色≦100 nm,黑色≦120 nm‧ 顏料分散液顏料含量≧15 wt%‧ 顏料分散液黏度≦70 cps‧ 經40℃、30天後,顏料粒徑變化小於30... | 潛力預估: Non-Volatile UV curable 顏料分散沒含溶劑,黏度低、高安定分散,微粒化分散粒徑

奈米混成高硬度塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 特化與奈米化工技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 通過百格試驗、‧ 耐酒精擦拭、‧ 鉛筆硬度達3H、‧ 透光度>90%、Haze | 潛力預估: 應 用在光電薄膜、塑膠地磚、地板、木器、金屬及3C產業的耐磨高硬度塗料市場,估計超過50億元。

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