高介電塗層噴覆製作技術
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技術名稱-中文高介電塗層噴覆製作技術的執行單位是中科院材料所, 產出年度是93, 計畫名稱是功能性材料應用研究發展四年計畫, 技術規格是下電極為TFT生產設備中重要之零組件，需具有高絕緣質常數、高崩解電壓、高絕緣阻抗等特性，並需能耐酸之腐蝕，以往下電極板表層僅以陽極處理，使用壽命僅有三個月，文獻顯示，若再將陽極模上噴塗一層氧化鋁，壽命將可達一年以上。, 潛力預估是完成國內自製取代國外進口，創造產值超過1億元衍生產值超過5億元。.

序號	453
產出年度	93
技術名稱-中文	高介電塗層噴覆製作技術
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	功能性材料應用研究發展四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	建立高介電塗層噴覆技術，目前已完成TFT-LCD製程設備不電極板製作開發，除光電產業外，未來可應用於通訊業，半導體、生醫材料、航空材料等產業，更可配合開發高附加價值之產品，可協助國內業界達成材料自主化之目標。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	下電極為TFT生產設備中重要之零組件，需具有高絕緣質常數、高崩解電壓、高絕緣阻抗等特性，並需能耐酸之腐蝕，以往下電極板表層僅以陽極處理，使用壽命僅有三個月，文獻顯示，若再將陽極模上噴塗一層氧化鋁，壽命將可達一年以上。
技術成熟度	試量產
可應用範圍	光電產業、半導體產業、紡織業、鋼鐵業、運動器材、生醫材料、噴覆業及特殊加工機具之用。
潛力預估	完成國內自製取代國外進口，創造產值超過1億元衍生產值超過5億元。
聯絡人員	楊振
電話	03-4712201轉357050
傳真	03-4111334
電子信箱	(空)
參考網址	(空)
所須軟硬體設備	電漿噴覆系統
需具備之專業人才	材料、機械相關背景

序號

453

產出年度

技術名稱-中文

高介電塗層噴覆製作技術

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

功能性材料應用研究發展四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

建立高介電塗層噴覆技術，目前已完成TFT-LCD製程設備不電極板製作開發，除光電產業外，未來可應用於通訊業，半導體、生醫材料、航空材料等產業，更可配合開發高附加價值之產品，可協助國內業界達成材料自主化之目標。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

下電極為TFT生產設備中重要之零組件，需具有高絕緣質常數、高崩解電壓、高絕緣阻抗等特性，並需能耐酸之腐蝕，以往下電極板表層僅以陽極處理，使用壽命僅有三個月，文獻顯示，若再將陽極模上噴塗一層氧化鋁，壽命將可達一年以上。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

光電產業、半導體產業、紡織業、鋼鐵業、運動器材、生醫材料、噴覆業及特殊加工機具之用。

潛力預估

完成國內自製取代國外進口，創造產值超過1億元衍生產值超過5億元。

聯絡人員

楊振

電話

03-4712201轉357050

傳真

03-4111334

電子信箱

(空)

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

電漿噴覆系統

需具備之專業人才

材料、機械相關背景

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