300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台的執行單位是中科院飛彈所, 產出年度是94, 計畫名稱是新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫, 技術規格是蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線；蝕刻速率為2,500 A /min ；蝕刻均勻度小於3 %, 潛力預估是我國半導體製造已耀居全球第四位，所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三，於民國91年市場達34.6億美元，預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機.

序號730
產出年度94
技術名稱-中文300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文300mm電子迴旋共振電槳機台為高密度大面積電漿源，已安裝於清華大學之半導體中心進行合作研究，本機台所產生電漿為高密度、低能量較適合製作精密次微米溝槽蝕刻或大型微電子電路製作
技術現況敘述-英文(空)
技術規格蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線；蝕刻速率為2,500 A /min ；蝕刻均勻度小於3 %
技術成熟度試量產
可應用範圍300mm 晶圓之精密蝕刻、清洗; TFT-LCD之蝕刻、清洗
潛力預估我國半導體製造已耀居全球第四位，所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三，於民國91年市場達34.6億美元，預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機
聯絡人員戴涪
電話03-4452098
傳真03-4711605
電子信箱(空)
參考網址(空)
所須軟硬體設備‧2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才電機、電子、機械、物理、化學
同步更新日期2023-07-22

序號

730

產出年度

94

技術名稱-中文

300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台

執行單位

中科院飛彈所

產出單位

(空)

計畫名稱

新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

300mm電子迴旋共振電槳機台為高密度大面積電漿源，已安裝於清華大學之半導體中心進行合作研究，本機台所產生電漿為高密度、低能量較適合製作精密次微米溝槽蝕刻或大型微電子電路製作

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線；蝕刻速率為2,500 A /min ；蝕刻均勻度小於3 %

技術成熟度

試量產

可應用範圍

300mm 晶圓之精密蝕刻、清洗; TFT-LCD之蝕刻、清洗

潛力預估

我國半導體製造已耀居全球第四位，所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三，於民國91年市場達34.6億美元，預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機

聯絡人員

戴涪

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所須軟硬體設備

‧2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統

需具備之專業人才

電機、電子、機械、物理、化學

同步更新日期

2023-07-22

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# 300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

序號424
產出年度93
技術名稱-中文300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文300mm電子迴旋共振電槳機台為高密度大面積電漿源，已安裝於清華大學之半導體中心進行合作研究，本機台所產生電漿為高密度、低能量較適合製作精密次微米溝槽蝕刻或大型微電子電路製作
技術現況敘述-英文(空)
技術規格．蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線．蝕刻速率為2,500 A /min ．蝕刻均勻度小於3 %
技術成熟度試量產
可應用範圍300mm 晶圓之精密蝕刻、清洗; TFT-LCD之蝕刻、清洗
潛力預估我國半導體製造已耀居全球第四位，所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三，於民國91年市場達34.6億美元，預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機
聯絡人員戴涪
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所須軟硬體設備‧2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才電機、電子、機械、物理、化學
序號: 424
產出年度: 93
技術名稱-中文: 300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 300mm電子迴旋共振電槳機台為高密度大面積電漿源，已安裝於清華大學之半導體中心進行合作研究，本機台所產生電漿為高密度、低能量較適合製作精密次微米溝槽蝕刻或大型微電子電路製作
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: ．蝕刻300mm 晶圓之0.25μ細線．蝕刻速率為2,500 A /min ．蝕刻均勻度小於3 %
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 300mm 晶圓之精密蝕刻、清洗; TFT-LCD之蝕刻、清洗
潛力預估: 我國半導體製造已耀居全球第四位，所需求之半導體前段設備投資規格已居全球第三，於民國91年市場達34.6億美元，預計至95年我國半導體製程達56.2億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機
聯絡人員: 戴涪
電話: 03-4452098
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所須軟硬體設備: ‧2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才: 電機、電子、機械、物理、化學
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# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號423
產出年度93
技術名稱-中文300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文300mm 電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中，進行合作Poly-si及SiO2薄膜製程之研究，本機台所產生之電漿為高密度、低能量適合精密薄膜沉積製程。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格沉積率:2,500A/min，沉積溫度低於350℃，沉積均勻度為3%
技術成熟度試量產
可應用範圍300mm 晶圓之精密薄膜沉積、TFT-LCD之薄膜沉積。
潛力預估為我國從民國87年起，投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元，LCD全球市場在民國94年將達390億美元，而全球設備產業將達61億美元，其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機。
聯絡人員戴涪
電話03-4452098
傳真03-4711605
電子信箱(空)
參考網址(空)
所須軟硬體設備2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才電機、電子、機械、物理、化學
序號: 423
產出年度: 93
技術名稱-中文: 300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 300mm 電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中，進行合作Poly-si及SiO2薄膜製程之研究，本機台所產生之電漿為高密度、低能量適合精密薄膜沉積製程。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 沉積率:2,500A/min，沉積溫度低於350℃，沉積均勻度為3%
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 300mm 晶圓之精密薄膜沉積、TFT-LCD之薄膜沉積。
潛力預估: 為我國從民國87年起，投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元，LCD全球市場在民國94年將達390億美元，而全球設備產業將達61億美元，其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機。
聯絡人員: 戴涪
電話: 03-4452098
傳真: 03-4711605
電子信箱: (空)
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所須軟硬體設備: 2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才: 電機、電子、機械、物理、化學

# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號728
產出年度94
技術名稱-中文300mm×300mm電子迴旋共振高密度電漿奈米碳管機台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文300mm×300mm電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中心，進行奈米碳管成長製程之合作研究，本機台所產生之電漿為高密度、低溫奈米碳管成長製程。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格基板大小:300mm×300mm，製程溫度低於450℃，均勻度為3%
技術成熟度試量產
可應用範圍300mm×300mm大面積玻璃基板之奈米碳管成長
潛力預估奈米碳管可用於場發射元件、奈米導線、奈米探針、儲能材料、結構複合材料等領域，為本世紀最具應用潛力的新材料，世界先進國家均積極投入研發，並列為各該國家奈米計畫研究重點項目。因此，開發大面積、高密度電漿源設備及奈米碳管低溫製程技術，一方面較具量產經濟規模，另一方面可直接在玻璃甚至塑膠基板上合成奈米碳管，提供未來光電產業應用。
聯絡人員戴涪
電話03-4452098
傳真03-4711605
電子信箱(空)
參考網址(空)
所須軟硬體設備．2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．自動閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才電機、電子、機械、物理、化學
序號: 728
產出年度: 94
技術名稱-中文: 300mm×300mm電子迴旋共振高密度電漿奈米碳管機台
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 300mm×300mm電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中心，進行奈米碳管成長製程之合作研究，本機台所產生之電漿為高密度、低溫奈米碳管成長製程。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 基板大小:300mm×300mm，製程溫度低於450℃，均勻度為3%
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 300mm×300mm大面積玻璃基板之奈米碳管成長
潛力預估: 奈米碳管可用於場發射元件、奈米導線、奈米探針、儲能材料、結構複合材料等領域，為本世紀最具應用潛力的新材料，世界先進國家均積極投入研發，並列為各該國家奈米計畫研究重點項目。因此，開發大面積、高密度電漿源設備及奈米碳管低溫製程技術，一方面較具量產經濟規模，另一方面可直接在玻璃甚至塑膠基板上合成奈米碳管，提供未來光電產業應用。
聯絡人員: 戴涪
電話: 03-4452098
傳真: 03-4711605
電子信箱: (空)
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: ．2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．自動閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才: 電機、電子、機械、物理、化學

# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號729
產出年度94
技術名稱-中文300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文300mm 電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中，進行合作Poly-si及SiO2薄膜製程之研究，本機台所產生之電漿為高密度、低能量適合精密薄膜沉積製程。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格沉積率:2,500A/min，沉積溫度低於350℃，沉積均勻度為3%
技術成熟度試量產
可應用範圍300mm 晶圓之精密薄膜沉積、TFT-LCD之薄膜沉積。
潛力預估為我國從民國87年起，投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元，LCD全球市場在民國94年將達390億美元，而全球設備產業將達61億美元，其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機。
聯絡人員戴涪
電話03-4452098
傳真03-4711605
電子信箱(空)
參考網址(空)
所須軟硬體設備2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才電機、電子、機械、物理、化學
序號: 729
產出年度: 94
技術名稱-中文: 300mm電子迴旋共振高密度電漿化學氣相沉積機台
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新興產業精密機械系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 300mm 電子迴旋共振電漿機台，為一高密度大面積電漿源，已安裝於交通大學之半導體中，進行合作Poly-si及SiO2薄膜製程之研究，本機台所產生之電漿為高密度、低能量適合精密薄膜沉積製程。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 沉積率:2,500A/min，沉積溫度低於350℃，沉積均勻度為3%
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 300mm 晶圓之精密薄膜沉積、TFT-LCD之薄膜沉積。
潛力預估: 為我國從民國87年起，投資LCD相關產業約新台幣 2,000億元，LCD全球市場在民國94年將達390億美元，而全球設備產業將達61億美元，其中LCD前段製程設備則佔33億美元。本機台可應用在半導體前段製程及LCD製程，預估未來每年至少有新台幣50億元之商機。
聯絡人員: 戴涪
電話: 03-4452098
傳真: 03-4711605
電子信箱: (空)
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 2.45GHz、2.5KW、高功率微波輸送系統。 ．500Φ、873高斯中空電磁場，10KW、50V、直流電源供應器。 ．多組電漿反應氣體，質流量穩流供應控制器。 ．Barotron高真空感應，自動大閥門，分子渦輪幫浦真空控制系統 ．電漿化學氣相沉積製程，程序自動化控制系統
需具備之專業人才: 電機、電子、機械、物理、化學

# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號1742
產出年度95
技術名稱-中文大尺寸長方型高真空閘閥
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大尺寸長方型高真空閘閥」製造技術精密度高，檢修、維修金額龐大；加上進口手續複雜，時效與成本都難以控制，產業的競爭優勢正急劇的流失中。目前國內一年進口國內平面顯示器與半導體設備約1200億元，其中，真空控制系統設備約120億元，而真空控制閘閥組件約占10﹪以上（即12億/年）。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Leak rate: body, valve seat< 1×10^-9 mbar Pressure range1×10^-9 mbar to 3.0 bar (abs)Differential pressure on the gate3.0 bar in either directionDifferential pressure at opening≦ 40 mbarTemperatureStainless steel body≦ 200 ℃Pneumatic actuator ≦ 150 ℃Position indicator≦ 80 ℃Solenoid≦ 50 ℃
技術成熟度試量產
可應用範圍大面積真空製程機台。
潛力預估從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員戴涪
電話03-4452098
傳真03-4713318
電子信箱(空)
參考網址(空)
所須軟硬體設備真空計
需具備之專業人才機械控制相關背景
序號: 1742
產出年度: 95
技術名稱-中文: 大尺寸長方型高真空閘閥
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大尺寸長方型高真空閘閥」製造技術精密度高，檢修、維修金額龐大；加上進口手續複雜，時效與成本都難以控制，產業的競爭優勢正急劇的流失中。目前國內一年進口國內平面顯示器與半導體設備約1200億元，其中，真空控制系統設備約120億元，而真空控制閘閥組件約占10﹪以上（即12億/年）。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: Leak rate: body, valve seat< 1×10^-9 mbar Pressure range1×10^-9 mbar to 3.0 bar (abs)Differential pressure on the gate3.0 bar in either directionDifferential pressure at opening≦ 40 mbarTemperatureStainless steel body≦ 200 ℃Pneumatic actuator ≦ 150 ℃Position indicator≦ 80 ℃Solenoid≦ 50 ℃
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 大面積真空製程機台。
潛力預估: 從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員: 戴涪
電話: 03-4452098
傳真: 03-4713318
電子信箱: (空)
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 真空計
需具備之專業人才: 機械控制相關背景

# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號2177
產出年度96
技術名稱-中文大面積加熱靜電吸附承載平台
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大面積加熱靜電吸附承載平台」製造技術精密度高，檢修、維修金額龐大；加上進口手續複雜，時效與成本都難以控制，產業的競爭優勢正急劇的流失中。目前國內一年進口國內平面顯示器與半導體設備約1200億元，其中，真空控制系統設備約120億元，而真空控制閘閥組件約占10﹪以上（即12億/年）。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格承載台加熱尺寸：1220X1400mm；材料：5083鋁合金；輸入功率：16KW；加熱方式：電熱管。
技術成熟度試量產
可應用範圍大面積真空製程機台。
潛力預估從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員黃重鈞
電話03-4452098
傳真03-4713318
電子信箱SHEU352015@yahoo.com.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備紅外線熱影像量測系統、熱對流軟體分析軟體、AUTOCAD繪圖軟體。
需具備之專業人才機械控制相關背景
序號: 2177
產出年度: 96
技術名稱-中文: 大面積加熱靜電吸附承載平台
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大面積加熱靜電吸附承載平台」製造技術精密度高，檢修、維修金額龐大；加上進口手續複雜，時效與成本都難以控制，產業的競爭優勢正急劇的流失中。目前國內一年進口國內平面顯示器與半導體設備約1200億元，其中，真空控制系統設備約120億元，而真空控制閘閥組件約占10﹪以上（即12億/年）。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 承載台加熱尺寸：1220X1400mm；材料：5083鋁合金；輸入功率：16KW；加熱方式：電熱管。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 大面積真空製程機台。
潛力預估: 從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員: 黃重鈞
電話: 03-4452098
傳真: 03-4713318
電子信箱: SHEU352015@yahoo.com.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 紅外線熱影像量測系統、熱對流軟體分析軟體、AUTOCAD繪圖軟體。
需具備之專業人才: 機械控制相關背景

# 03-4452098 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號2737
產出年度97
技術名稱-中文大面積均勻微波場形技術
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大面積電漿設備」製造技術難度高，其中微波電漿源是大面積電漿設備的一種，本技術開發出大面積微波均勻場形產生技術，應用於電漿機台，以增進電漿解離度與均勻度。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格頻率：2.45GHz；材料：6061鋁合金；輸入功率：6KW。
技術成熟度試量產
可應用範圍大面積電漿製程機台。
潛力預估從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員黃重鈞
電話03-4452098
傳真03-4713318
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備HFSS (High Frequency Structure Simulator)軟體、AUTOCAD繪圖軟體。
需具備之專業人才物理、機械相關背景
序號: 2737
產出年度: 97
技術名稱-中文: 大面積均勻微波場形技術
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 國內平面顯示器設備仰賴歐、美、日輸入進口，其中「大面積電漿設備」製造技術難度高，其中微波電漿源是大面積電漿設備的一種，本技術開發出大面積微波均勻場形產生技術，應用於電漿機台，以增進電漿解離度與均勻度。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 頻率：2.45GHz；材料：6061鋁合金；輸入功率：6KW。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 大面積電漿製程機台。
潛力預估: 從半導體、平面顯示器到薄膜太陽能電池製程設備。
聯絡人員: 黃重鈞
電話: 03-4452098
傳真: 03-4713318
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: HFSS (High Frequency Structure Simulator)軟體、AUTOCAD繪圖軟體。
需具備之專業人才: 物理、機械相關背景
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與300mm電子迴旋共振高密度電漿蝕刻機台同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

WCDMA軟體整合技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 本技術遵循 3GPP 國際標準，提供 WCDMA L2/L3 協定軟體在與特定L1晶片及上層應用整合所需之必要模組，同時並協助完成相關的 L1/L2/L3 整合測試。主要技術規格如下：提供 USIM、... | 潛力預估: 本技術可用於協助我國廠商發展 3G 晶片與多媒體手機系統，已成功協助威盛電子發展 3G 晶片及協助英華達發展 WCDMA 手機產品，提升競爭力，有效鞏固我國手機產業優勢。

航空資料鏈路通訊處理軟體(V2.0)

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: 陸陸通訊處理功能：Load Sheet 信息產生/分解處理、OOOI 信息產生/分解處理。航空資料處理功能：OOOI資料自動輸入處理、OOOI資料人工輸入處理、航機班表資料庫介面處理、OOOI資料圖形... | 潛力預估: 帶領廠商共同進行航空資料鏈路通訊系統開發，奠定核心技術之研發能力，並提昇廠商數位通訊技術能量，以爭取航空通訊、交通資訊服務及相關應用系統之市場機會。

車用語音對話技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: 具口語的理解技術;多模式的對話管理技術;車上語音辨識技術。 | 潛力預估: 此技術可以大大減少人力的花費，此外設計不同的VXML語音對話模式即可提供不同的服務給使用者，減少開發新服務的費用，也大大的加速服務的開發時程。

即時路況動態導航技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: | 潛力預估: 2005年預測全球車機市場為790萬台；2006年預測全球車機市場為870萬台；2007年預測全球車機市場為950萬台

Web GIS路況顯示圖形引擎

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: | 潛力預估: 因應未來市場LBS的應用成熟，搭配整體GIS地理資訊的完整，將有充分發揮之空間

數位學習內容保護技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 擴充行動學習載具呈現數學教材的功能符合MathML規範。防盜拷技術符合USB2.0，可避免行動端數位學習教材遭受無限制散佈。提供行動載具端與教學元件交易平台數位版權管理技術相容之解決方案。 | 潛力預估: 可以提升行動學習終端產品系統技術，透過技術移轉提供業者具彈性化設計能力及普及性價位之解決方案，極具市場淺力

分散式多媒體互動學習工具

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: BIFS Decoder、MP4 Visual Decoder、MP4 Advanced Audio Decoder、Rich Media Rendering Engine、MP4 Streaming... | 潛力預估: 本項成果潛在商機無限，除了可以用於互動教材之播放，未來還可以發展成為MP4-over ip數位電視之互動技術。進而往TV-learing, TV-shopping 之方向延伸。

教材製作及交易管理技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 交易平台提供數位內容權限的控管，教材元件被交易後會依據使用者的資訊(使用的裝置等資訊)做權限處理，使得教材元件不易被非法使用，而被控管在特定裝置、網域、期限內使用。特別是針對學校集體採購的行為，平台設... | 潛力預估: 教育市場

專利文件模板式自動摘要技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 領域: 創新前瞻 | 技術規格: 提出一種專利摘要方法，包括：接收一份電子文件；取得電子文件中之申請權利範圍；從申請權利範圍取得複數個組成要素；從申請權利範圍產生組成要素間之包含關係架構；從申請權利範圍取得組成要素所擁有之下位用語；從... | 潛力預估: 本技術可應用在專利導讀上，節省專利閱讀上的時間、人力成本;以及應用在侵權判定服務，撤銷他人專利，以利企業專利訴訟;及應用在專利價值圖分析，節省企業專利維護成本，所以極具市場淺力。

人與物體追蹤技術評估版

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 對於物體產生移動後所需之反應時間約為1秒，其準確度可達80%，整個系統之佈建規模達60個感應點(包括50個beacon node，10個router)，可同時追蹤至少10個移動物體。 | 潛力預估: 定位系統可用於各種環境感知應用中，如：辦公室、導覽、保全…

即時多媒體串流作業系統平台技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 提供dynamic voltage/frequency scaling(DVS)調變機制之處理器(如transmeta Cruaoe)而言可以節省至多70%之功率消耗。以一台Pentium 300M... | 潛力預估: 使用於手持式系統以及多媒體系統中，可搶攻行動通訊與智慧家庭市場

智慧型影像強化技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 支援JPEG影像格式，程式語言必須使用C語言。可提升人臉辨識率約至95%。 | 潛力預估: 使用於手持式系統以及多媒體系統中，可搶攻行動通訊市場

Context Information Service

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: P2P security 支援access control preferences, obfuscation preferences, disruption preferences 3種偏好設定，容... | 潛力預估: Location base之系統將有50%會具備此項功能

Semantic Web Rule Engine

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: Semantic rule engine 可同時處理6種context資訊(Rule, Exhibition, visitor, Time, Space, Privacy setting)，支援bac... | 潛力預估: 預測Web service發展成熟之後,將朝向Semantic Web Rule Engine發展

微小化 無線通訊模組

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 生醫檢測技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 2Mbps, UHF | 潛力預估: 可提供生醫檢測之資料傳訊技術，極具市場潛力

WCDMA軟體整合技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 本技術遵循 3GPP 國際標準，提供 WCDMA L2/L3 協定軟體在與特定L1晶片及上層應用整合所需之必要模組，同時並協助完成相關的 L1/L2/L3 整合測試。主要技術規格如下：提供 USIM、... | 潛力預估: 本技術可用於協助我國廠商發展 3G 晶片與多媒體手機系統，已成功協助威盛電子發展 3G 晶片及協助英華達發展 WCDMA 手機產品，提升競爭力，有效鞏固我國手機產業優勢。

航空資料鏈路通訊處理軟體(V2.0)

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發四年計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: 陸陸通訊處理功能：Load Sheet 信息產生/分解處理、OOOI 信息產生/分解處理。航空資料處理功能：OOOI資料自動輸入處理、OOOI資料人工輸入處理、航機班表資料庫介面處理、OOOI資料圖形... | 潛力預估: 帶領廠商共同進行航空資料鏈路通訊系統開發，奠定核心技術之研發能力，並提昇廠商數位通訊技術能量，以爭取航空通訊、交通資訊服務及相關應用系統之市場機會。

車用語音對話技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: 具口語的理解技術;多模式的對話管理技術;車上語音辨識技術。 | 潛力預估: 此技術可以大大減少人力的花費，此外設計不同的VXML語音對話模式即可提供不同的服務給使用者，減少開發新服務的費用，也大大的加速服務的開發時程。

即時路況動態導航技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: | 潛力預估: 2005年預測全球車機市場為790萬台；2006年預測全球車機市場為870萬台；2007年預測全球車機市場為950萬台

Web GIS路況顯示圖形引擎

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 航空資料鏈路通訊系統技術研發計畫 | 領域: 機械與航太 | 技術規格: | 潛力預估: 因應未來市場LBS的應用成熟，搭配整體GIS地理資訊的完整，將有充分發揮之空間

數位學習內容保護技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 擴充行動學習載具呈現數學教材的功能符合MathML規範。防盜拷技術符合USB2.0，可避免行動端數位學習教材遭受無限制散佈。提供行動載具端與教學元件交易平台數位版權管理技術相容之解決方案。 | 潛力預估: 可以提升行動學習終端產品系統技術，透過技術移轉提供業者具彈性化設計能力及普及性價位之解決方案，極具市場淺力

分散式多媒體互動學習工具

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: BIFS Decoder、MP4 Visual Decoder、MP4 Advanced Audio Decoder、Rich Media Rendering Engine、MP4 Streaming... | 潛力預估: 本項成果潛在商機無限，除了可以用於互動教材之播放，未來還可以發展成為MP4-over ip數位電視之互動技術。進而往TV-learing, TV-shopping 之方向延伸。

教材製作及交易管理技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 新世代數位學習環境技術研發計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 交易平台提供數位內容權限的控管，教材元件被交易後會依據使用者的資訊(使用的裝置等資訊)做權限處理，使得教材元件不易被非法使用，而被控管在特定裝置、網域、期限內使用。特別是針對學校集體採購的行為，平台設... | 潛力預估: 教育市場

專利文件模板式自動摘要技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術計畫 | 領域: 創新前瞻 | 技術規格: 提出一種專利摘要方法，包括：接收一份電子文件；取得電子文件中之申請權利範圍；從申請權利範圍取得複數個組成要素；從申請權利範圍產生組成要素間之包含關係架構；從申請權利範圍取得組成要素所擁有之下位用語；從... | 潛力預估: 本技術可應用在專利導讀上，節省專利閱讀上的時間、人力成本;以及應用在侵權判定服務，撤銷他人專利，以利企業專利訴訟;及應用在專利價值圖分析，節省企業專利維護成本，所以極具市場淺力。

人與物體追蹤技術評估版

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 對於物體產生移動後所需之反應時間約為1秒，其準確度可達80%，整個系統之佈建規模達60個感應點(包括50個beacon node，10個router)，可同時追蹤至少10個移動物體。 | 潛力預估: 定位系統可用於各種環境感知應用中，如：辦公室、導覽、保全…

即時多媒體串流作業系統平台技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 提供dynamic voltage/frequency scaling(DVS)調變機制之處理器(如transmeta Cruaoe)而言可以節省至多70%之功率消耗。以一台Pentium 300M... | 潛力預估: 使用於手持式系統以及多媒體系統中，可搶攻行動通訊與智慧家庭市場

智慧型影像強化技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: 支援JPEG影像格式，程式語言必須使用C語言。可提升人臉辨識率約至95%。 | 潛力預估: 使用於手持式系統以及多媒體系統中，可搶攻行動通訊市場

Context Information Service

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: P2P security 支援access control preferences, obfuscation preferences, disruption preferences 3種偏好設定，容... | 潛力預估: Location base之系統將有50%會具備此項功能

Semantic Web Rule Engine

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 環境感知建構與普及運算技術引進計畫 | 領域: 共通 | 技術規格: Semantic rule engine 可同時處理6種context資訊(Rule, Exhibition, visitor, Time, Space, Privacy setting)，支援bac... | 潛力預估: 預測Web service發展成熟之後,將朝向Semantic Web Rule Engine發展

微小化 無線通訊模組

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 生醫檢測技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 2Mbps, UHF | 潛力預估: 可提供生醫檢測之資料傳訊技術，極具市場潛力

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