Micro crack 二維缺陷檢測系統
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技術名稱-中文Micro crack 二維缺陷檢測系統的執行單位是金屬中心, 產出年度是97, 計畫名稱是平面顯示器設備技術開發三年計畫, 技術規格是待測物型態:下層基板: PET or PC; 上層薄膜:ITO or IZO; 待測物尺寸:37cm x 30cm; 缺陷型態:open/short/particle/crack; 缺陷偵測能力:>1 um; 檢測速度:100M bytes/s, 潛力預估是可應用於軟性顯示器、薄膜太陽能電池.

序號2725
產出年度97
技術名稱-中文Micro crack 二維缺陷檢測系統
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱平面顯示器設備技術開發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術是利用高速線型掃描的方式,取得透明薄膜電極圖案的影像,並利用影像處理的方式,自動判別出缺陷,配合高解析、高對比度的光學取像模組,以及自行開發的演算法,可檢出1 um的micro crack 缺陷。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格待測物型態:下層基板: PET or PC; 上層薄膜:ITO or IZO; 待測物尺寸:37cm x 30cm; 缺陷型態:open/short/particle/crack; 缺陷偵測能力:>1 um; 檢測速度:100M bytes/s
技術成熟度雛型
可應用範圍光學平板膜質以及軟性顯示器TCO pattern的Micro crack檢測
潛力預估可應用於軟性顯示器、薄膜太陽能電池
聯絡人員劉定坤
電話03-5743827
傳真03-5722383
電子信箱teicon@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備試片乘載/移動平台
需具備之專業人才軟體工程師(C++)
同步更新日期2024-09-03

序號

2725

產出年度

97

技術名稱-中文

Micro crack 二維缺陷檢測系統

執行單位

金屬中心

產出單位

(空)

計畫名稱

平面顯示器設備技術開發三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本技術是利用高速線型掃描的方式,取得透明薄膜電極圖案的影像,並利用影像處理的方式,自動判別出缺陷,配合高解析、高對比度的光學取像模組,以及自行開發的演算法,可檢出1 um的micro crack 缺陷。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

待測物型態:下層基板: PET or PC; 上層薄膜:ITO or IZO; 待測物尺寸:37cm x 30cm; 缺陷型態:open/short/particle/crack; 缺陷偵測能力:>1 um; 檢測速度:100M bytes/s

技術成熟度

雛型

可應用範圍

光學平板膜質以及軟性顯示器TCO pattern的Micro crack檢測

潛力預估

可應用於軟性顯示器、薄膜太陽能電池

聯絡人員

劉定坤

電話

03-5743827

傳真

03-5722383

電子信箱

teicon@itri.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

試片乘載/移動平台

需具備之專業人才

軟體工程師(C++)

同步更新日期

2024-09-03

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PCB/FPC自動光學缺陷檢測系統

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 最小線寬/線距:3mil/3mil;偵測缺陷:短路、 斷路、 側蝕、缺角、雜質、殘留等;掃描範圍:250 mm × 400 mm;檢測時間: 約50秒;檢測設定: Golden image, Gerb... | 潛力預估: 以機器檢測取代現有之人工檢測

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透明材質缺陷與精微形貌檢測技術(量測中心產出)

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)三維深度量測範圍:20μm (2)三維深度量測解析度:5 nm (3)三維深度量測速率:4 sec/point | 潛力預估: 對於需要高速/高精確度線上品質監控之產品, 本技術皆能提供有效之solution, 進而提升產品之品質.

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Bank 缺陷檢測技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)檢測寬度:300 mm (2)連續檢測速率:6 m/min (3)Bank & TCO對位精度:3μm (4)檢測高度範圍:100 μm (5)Bank高度檢測解析度:0.3μm (6)Bank... | 潛力預估: 關鍵技術可以應用於軟性基板捲對捲製程中之檢測,如觸控面板、軟性顯示器、軟性電子、軟性太陽能等新興產品,可以建立國內關鍵自主技術,預估每年可有數億以上的衍生效益。

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Roll to Roll線上缺陷檢測整合技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 檢測寬度:300 mm -連續檢測速率:6 m/min -缺陷檢測解析度:1 μm -高度檢測解析度:10 nm -高度檢測速率:2.5 sec/point -檢測高度範圍:<100 μm | 潛力預估: 預估未來3~5年捲對捲製程將逐漸成熟

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透明導電膜電性檢測模組技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 1、ITO檢測最小線寬20μm 2、檢測幅寬最大300mm 3、ITO 刮傷、短、斷路等缺陷之即時影像檢測 | 潛力預估: 關鍵技術可應用於透明導電膜片

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PCB/FPC自動光學缺陷檢測系統

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 最小線寬/線距:3mil/3mil;偵測缺陷:短路、 斷路、 側蝕、缺角、雜質、殘留等;掃描範圍:250 mm × 400 mm;檢測時間: 約50秒;檢測設定: Golden image, Gerb... | 潛力預估: 以機器檢測取代現有之人工檢測

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透明材質缺陷與精微形貌檢測技術(量測中心產出)

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)三維深度量測範圍:20μm (2)三維深度量測解析度:5 nm (3)三維深度量測速率:4 sec/point | 潛力預估: 對於需要高速/高精確度線上品質監控之產品, 本技術皆能提供有效之solution, 進而提升產品之品質.

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Bank 缺陷檢測技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)檢測寬度:300 mm (2)連續檢測速率:6 m/min (3)Bank & TCO對位精度:3μm (4)檢測高度範圍:100 μm (5)Bank高度檢測解析度:0.3μm (6)Bank... | 潛力預估: 關鍵技術可以應用於軟性基板捲對捲製程中之檢測,如觸控面板、軟性顯示器、軟性電子、軟性太陽能等新興產品,可以建立國內關鍵自主技術,預估每年可有數億以上的衍生效益。

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Roll to Roll線上缺陷檢測整合技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 檢測寬度:300 mm -連續檢測速率:6 m/min -缺陷檢測解析度:1 μm -高度檢測解析度:10 nm -高度檢測速率:2.5 sec/point -檢測高度範圍:<100 μm | 潛力預估: 預估未來3~5年捲對捲製程將逐漸成熟

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透明導電膜電性檢測模組技術

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 1、ITO檢測最小線寬20μm 2、檢測幅寬最大300mm 3、ITO 刮傷、短、斷路等缺陷之即時影像檢測 | 潛力預估: 關鍵技術可應用於透明導電膜片

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環境相容奈米無鹵難燃ABS材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米無鹵難燃劑均勻分散於ABS樹脂,摻混調配環境相容奈米無鹵難燃ABS材料。 | 潛力預估: 因應歐盟依法規RoHS限令,非鹵素系難燃塑膠材料切入適宜時機,防火ABS材料主要應用於各3C資訊及家電產品外殼,國內廠商年用量達12萬噸,材料產值約計60億元/年,而市面上並無鹵難燃ABS產品,因而值...

高耐刷超疏水表面處理塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.接觸角>150° 2.百格測試 100/100 3.耐刷洗>5000次 | 潛力預估: 臺灣的塗料工業是市場規模大的特用化學品,以產值而言,在特用化學品中佔第二位,僅次於醫藥工業。92年高達266.5億元的產值,其中建築塗料佔40%左右約100億的產值。目前國內使用自潔塗料甚少,因此極具...

室內一氧化碳去除技術/奈米金觸媒

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.金觸媒粒徑<5nm 2.CO去除效率: 在室溫下每一克觸媒每分鐘 3.可將8公升1%CO/Air, 99%去除 | 潛力預估: 1.奈米金觸媒於室溫氧化一氧化碳的去除相關應用 2.室溫高濃度氫氣流中氧化一氧化碳相關應用 3.工業氫化觸媒的保護裝置

顯示面板用高純度化學品製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 實驗室純化技術及微量不純物分析,各別金屬不純物小於10 ppm。 | 潛力預估: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。

低折射率奈米孔洞光學塗裝

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 反射率≦1.5%、穿透度≧93%、表面硬度≧2H | 潛力預估: 平面顯示器用抗反射光學薄膜為平面顯示器之重要關鍵零組件,且相關需求急遽增加,其產業關連性大,市場潛力大,附加價值高,然國內廠商仍無生產能力需仰賴國外進口,該產品2003年全球市場達新台幣95億元,平均...

高分子奈微米結構成型技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: feature size between 200-300nm,deviation<±10%,patterning size about 4-5’’ (full size) | 潛力預估: 在高容量光儲存媒體上到2008年具有十億美金的市場,微光學元件與平面顯示器光學模組

高結晶性PE於PPTC之應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.合成HDPE材料10Kg或同等級商品規格(混練後Delta H需達165 J/g) 2.押出平板(12*12 cm)* 5 m與金屬片貼合技術之建立,所試作之元件其PTC值大於3.5 | 潛力預估: 美金五億產值

介孔二氧化矽表面改質技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 比表面積:151~661m2/g,孔徑:4.6~8.2nm | 潛力預估: 本計畫將改質的介孔二氧化矽作為軟板(Polyimides)的填充材料,使得高頻通訊用軟板的介電常數值小於2.8(測試頻率為1MHz),且其介電常數值可藉由低介電填充材料的添加量加以控制,此結果優於美國...

透濕防水TPU樹脂合成技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 樹脂之延伸率:500%、耐水壓:8000 mmH2O、透濕度:6000 g/m2/D。 | 潛力預估: 本技術所開發的透濕防水TPU材料,兼具環保、技術升級與自主性之特色,連結上(樹脂廠)/中(薄膜加工廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力,加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用,預估可促進投...

抗靜電織物應用技術開發

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 織物之表面電阻可達到2.0x108W/cm2,。水洗染色堅牢度可達4至5級。 | 潛力預估: 本技術所開發的新型抗靜電效果之織物,兼具環保、技術升級與自主性之特色,連結上(樹脂廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力,加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用開發,預估可具有7億元以上之市...

聚合型旋光性液晶化學品開發

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: HTP=30.44mm-1之旋光性液晶單體,純度>98% | 潛力預估: 聚合型高螺旋扭轉力液晶單體全球市場4億日元,市場佔有率若以5%計算約為新台幣500萬元/年,增亮膜市場約新台幣3000萬/年

12吋晶圓廠製程排水回收計畫

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% | 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗,不僅可提升回收水質與水回率,且因機台排管分流資料庫的建立,大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。

大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 玻璃基板經 UV 光照射清洗後,基板上五點接觸角平均 < 10度 | 潛力預估: 應映2008年LCD設備國產化需達50%之目標,故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備,此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。

晶圓表面有機污染檢測技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 完成Trinton-X-100 1 ppm及50 ppm的檢量線 | 潛力預估: 高科技業中微污染控制是很重要的議題,任何的微量有機殘留都會影響製程與良率,因此有機物殘留檢測技術的建立,除了可以驗證清洗效率外,並能確保substrate表面之潔淨度。

奈米用水系統微量有機物質氧化去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格:TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格,科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。

環境相容奈米無鹵難燃ABS材料技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米無鹵難燃劑均勻分散於ABS樹脂,摻混調配環境相容奈米無鹵難燃ABS材料。 | 潛力預估: 因應歐盟依法規RoHS限令,非鹵素系難燃塑膠材料切入適宜時機,防火ABS材料主要應用於各3C資訊及家電產品外殼,國內廠商年用量達12萬噸,材料產值約計60億元/年,而市面上並無鹵難燃ABS產品,因而值...

高耐刷超疏水表面處理塗料

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.接觸角>150° 2.百格測試 100/100 3.耐刷洗>5000次 | 潛力預估: 臺灣的塗料工業是市場規模大的特用化學品,以產值而言,在特用化學品中佔第二位,僅次於醫藥工業。92年高達266.5億元的產值,其中建築塗料佔40%左右約100億的產值。目前國內使用自潔塗料甚少,因此極具...

室內一氧化碳去除技術/奈米金觸媒

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.金觸媒粒徑<5nm 2.CO去除效率: 在室溫下每一克觸媒每分鐘 3.可將8公升1%CO/Air, 99%去除 | 潛力預估: 1.奈米金觸媒於室溫氧化一氧化碳的去除相關應用 2.室溫高濃度氫氣流中氧化一氧化碳相關應用 3.工業氫化觸媒的保護裝置

顯示面板用高純度化學品製程技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 實驗室純化技術及微量不純物分析,各別金屬不純物小於10 ppm。 | 潛力預估: 本技術預期將可應用於有機電激發光平面顯示器元件材料、市場產品潛力預估可達2億元。

低折射率奈米孔洞光學塗裝

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 反射率≦1.5%、穿透度≧93%、表面硬度≧2H | 潛力預估: 平面顯示器用抗反射光學薄膜為平面顯示器之重要關鍵零組件,且相關需求急遽增加,其產業關連性大,市場潛力大,附加價值高,然國內廠商仍無生產能力需仰賴國外進口,該產品2003年全球市場達新台幣95億元,平均...

高分子奈微米結構成型技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: feature size between 200-300nm,deviation<±10%,patterning size about 4-5’’ (full size) | 潛力預估: 在高容量光儲存媒體上到2008年具有十億美金的市場,微光學元件與平面顯示器光學模組

高結晶性PE於PPTC之應用技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.合成HDPE材料10Kg或同等級商品規格(混練後Delta H需達165 J/g) 2.押出平板(12*12 cm)* 5 m與金屬片貼合技術之建立,所試作之元件其PTC值大於3.5 | 潛力預估: 美金五億產值

介孔二氧化矽表面改質技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高分子奈米材料與光電應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 比表面積:151~661m2/g,孔徑:4.6~8.2nm | 潛力預估: 本計畫將改質的介孔二氧化矽作為軟板(Polyimides)的填充材料,使得高頻通訊用軟板的介電常數值小於2.8(測試頻率為1MHz),且其介電常數值可藉由低介電填充材料的添加量加以控制,此結果優於美國...

透濕防水TPU樹脂合成技術

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 樹脂之延伸率:500%、耐水壓:8000 mmH2O、透濕度:6000 g/m2/D。 | 潛力預估: 本技術所開發的透濕防水TPU材料,兼具環保、技術升級與自主性之特色,連結上(樹脂廠)/中(薄膜加工廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力,加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用,預估可促進投...

抗靜電織物應用技術開發

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 纖維研製及應用技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 織物之表面電阻可達到2.0x108W/cm2,。水洗染色堅牢度可達4至5級。 | 潛力預估: 本技術所開發的新型抗靜電效果之織物,兼具環保、技術升級與自主性之特色,連結上(樹脂廠)/下游(織物處理廠)應用可提升國家產業競爭力,加速傳統產業拓展機能性織物及薄膜之應用開發,預估可具有7億元以上之市...

聚合型旋光性液晶化學品開發

執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: HTP=30.44mm-1之旋光性液晶單體,純度>98% | 潛力預估: 聚合型高螺旋扭轉力液晶單體全球市場4億日元,市場佔有率若以5%計算約為新台幣500萬元/年,增亮膜市場約新台幣3000萬/年

12吋晶圓廠製程排水回收計畫

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 協助廠商提升水回收率10~15% | 潛力預估: 根據力晶12吋廠實際推動的經驗,不僅可提升回收水質與水回率,且因機台排管分流資料庫的建立,大幅提升污染事故的處置效率與經濟效益。

大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 玻璃基板經 UV 光照射清洗後,基板上五點接觸角平均 < 10度 | 潛力預估: 應映2008年LCD設備國產化需達50%之目標,故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備,此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。

晶圓表面有機污染檢測技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 永續資源技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 完成Trinton-X-100 1 ppm及50 ppm的檢量線 | 潛力預估: 高科技業中微污染控制是很重要的議題,任何的微量有機殘留都會影響製程與良率,因此有機物殘留檢測技術的建立,除了可以驗證清洗效率外,並能確保substrate表面之潔淨度。

奈米用水系統微量有機物質氧化去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格:TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格,科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。

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