多功能面光源照明燈具
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文多功能面光源照明燈具的執行單位是中科院航空所, 產出年度是99, 計畫名稱是傳統產業高值化應用計畫, 技術規格是(1).可使用單一光源或兩種發光元件。 (2).照度均勻性:偏差小於50%。 (3).低眩光:角度大於70度區域的照度低於5%中心照度。, 潛力預估是可配合各種照明燈具規格需求,調整發光元件種類、二次光學、及電控系統之設計,以提升光的使用效率。.

序號4155
產出年度99
技術名稱-中文多功能面光源照明燈具
執行單位中科院航空所
產出單位(空)
計畫名稱傳統產業高值化應用計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文多功能照明燈具採用面光源設計,具有一般白光照明與色彩情境調光功能。面光源照明燈具有高均勻、低陰影、低眩光、以及可調亮暗、色溫與顏色等特色。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格(1).可使用單一光源或兩種發光元件。 (2).照度均勻性:偏差小於50%。 (3).低眩光:角度大於70度區域的照度低於5%中心照度。
技術成熟度雛形
可應用範圍可廣泛應用於一般照明燈具,包括室內照明、櫥窗照明、情境照明、及廣告照明等。
潛力預估可配合各種照明燈具規格需求,調整發光元件種類、二次光學、及電控系統之設計,以提升光的使用效率。
聯絡人員葉茂勳
電話03-4712201#357177
傳真03-4713069
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址http://www.csistdup.org.tw
所須軟硬體設備光學照明設計軟體
需具備之專業人才光電、電子相關背景

序號

4155

產出年度

99

技術名稱-中文

多功能面光源照明燈具

執行單位

中科院航空所

產出單位

(空)

計畫名稱

傳統產業高值化應用計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

多功能照明燈具採用面光源設計,具有一般白光照明與色彩情境調光功能。面光源照明燈具有高均勻、低陰影、低眩光、以及可調亮暗、色溫與顏色等特色。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

(1).可使用單一光源或兩種發光元件。 (2).照度均勻性:偏差小於50%。 (3).低眩光:角度大於70度區域的照度低於5%中心照度。

技術成熟度

雛形

可應用範圍

可廣泛應用於一般照明燈具,包括室內照明、櫥窗照明、情境照明、及廣告照明等。

潛力預估

可配合各種照明燈具規格需求,調整發光元件種類、二次光學、及電控系統之設計,以提升光的使用效率。

聯絡人員

葉茂勳

電話

03-4712201#357177

傳真

03-4713069

電子信箱

csist@csistdup.org.tw

參考網址

http://www.csistdup.org.tw

所須軟硬體設備

光學照明設計軟體

需具備之專業人才

光電、電子相關背景

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多功能面光源照明燈具

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 第I405934號 | 專利期間起: 102/08/21 | 專利期間訖: 117/11/23 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 葉茂勳、周永芳、宋福生

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MULTI-FUNCTIONPLANARLIGHTSOURCEILLUMINATIONLAMP

核准國家: 美國 | 證書號碼: US8,092,065B2 | 專利期間起: 1998/7/31 | 專利期間訖: 120/07/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 葉茂勳、周永芳、宋福生

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多功能面光源照明燈具

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 第I405934號 | 專利期間起: 102/08/21 | 專利期間訖: 117/11/23 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 葉茂勳、周永芳、宋福生

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MULTI-FUNCTIONPLANARLIGHTSOURCEILLUMINATIONLAMP

核准國家: 美國 | 證書號碼: US8,092,065B2 | 專利期間起: 1998/7/31 | 專利期間訖: 120/07/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 葉茂勳、周永芳、宋福生

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智慧型室內照明燈具

執行單位: 中科院航空所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 傳統產業高值化應用計畫 | 領域: | 技術規格: "(1).照明燈具包括投射燈具與面光源燈具。 (2).投射燈具:二次光學採用微透鏡設計方式,張角45度,光效率≧80%,照度均勻性≧50%。 (3).面光源燈具:具有亮度均勻性與低眩光特性。" | 潛力預估: 可配合各種照明燈具規格需求,調整發光元件種類、二次光學、及電控系統之設計,以符合使用照明環境需求。

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動態影像之自動化偵測方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I369898 | 專利期間起: 101/08/01 | 專利期間訖: 119/06/29 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 林宸生、葉茂勳、吳俊旻、陳佳澤

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智慧型室內照明燈具

執行單位: 中科院航空所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 傳統產業高值化應用計畫 | 領域: | 技術規格: "(1).照明燈具包括投射燈具與面光源燈具。 (2).投射燈具:二次光學採用微透鏡設計方式,張角45度,光效率≧80%,照度均勻性≧50%。 (3).面光源燈具:具有亮度均勻性與低眩光特性。" | 潛力預估: 可配合各種照明燈具規格需求,調整發光元件種類、二次光學、及電控系統之設計,以符合使用照明環境需求。

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動態影像之自動化偵測方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I369898 | 專利期間起: 101/08/01 | 專利期間訖: 119/06/29 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 林宸生、葉茂勳、吳俊旻、陳佳澤

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微霧化器

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發,將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展,同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立,以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。

微均熱片

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 均熱片尺寸:30x30x2 mm 可耐熱通密度:100w/cm2 可耐熱功率:>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握,規格達國際水準,具市場競爭力。

TFT ARRAY製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 定位精度:±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。

TFT CELL製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧電漿源: 500mm ‧ 錨定能 : >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢,在國外亦正研發中,市場需求殷切。

前瞻性顯示器設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 捲繞速度:15~30m/min ‧ 張力誤差: ± 10% ‧ 速度誤差:± 10% | 潛力預估: 軟性顯示器是未來顯示器發展之趨勢,本技術可整合應用於軟板製程設備中,未來市場應用範圍極為廣泛。

平面顯示器瑕疵檢測系統整合應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1. 檢測物: TFT-LCD彩色濾光片、素玻璃 2. 元件大小: 680 mm X 880 mm 3. 檢測速率: 15000 mm2/秒 4. 最小瑕疵: 20μm | 潛力預估: 技術應用領域可擴大至LCD其他元件的瑕疵檢測

線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工,為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動,配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術,2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台,年產值達18億元以上,在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機,並且...

放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案,應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求,使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。

先進構裝機電控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶片堆疊控制,底部充填自動校正控制 | 潛力預估: 1.晶片堆疊控制增加設備性能及提高設備附加價值。2.底部充填自動校正控制,適用於覆晶製程點膠製程設備。

精密PCB鑽孔控制技術系統整合應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 鑽孔速度:400孔/分鐘 ‧ 檔案管理 ‧ 座標顯示 ‧ 加工路徑顯示 ‧ 翻、排版指令 ‧ 多次鑽孔功能 ‧ 擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令 ‧ 運轉/切削時間顯示 ‧ 從中斷點重新啟動功能 ‧ 斷針... | 潛力預估: 具備畫面瀏覽器功能,可由機器製造商自由編輯設定顯示畫面以增加系統專有特色功能,提高市場競爭力。

即時運動控制模組應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Windows CE 作業平台,具6軸脈波輸出,6軸硬體閉迴路控制,384點輸入/384點輸出,9軸32位元(Bits)位置計數器,8 CHANNEL串列式A/D 界面,8 CHANNEL串列式D/A... | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器,CNC控制器,半導體設備控制器等。

運動控制組件應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 整合式定位及輸出入控制晶片(EPCIO)將工業控制中定位與輸出入控制所需之界面電路整合於單一控制模組內,可大幅提升工業控制器硬體控制模組的穩定度,降低成本。 | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器,CNC控制器,半導體設備控制器等。

線型馬達控制及配機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 線型馬達推力最高到3000~5000牛頓、解析度到0.5μm、有效行程最大370~650mm、可以控制於電流、速度和位置迴路、具有各項伺服馬達安全保護。 | 潛力預估: 目前已開始搭配WEDM進給軸配機與系統整合

永磁同步線型馬達分析設計技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 3000~5000N中重型馬達,600N輕型背向有鐵心線型馬達。 | 潛力預估: 目前已開始搭配WEDM進給軸配機與系統整合

創新研發社群與智庫技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧以.Net應用XML及Web Services等跨平台整合方案 ‧ 本技術成果為網際網路協同作業平台 ‧ 採Module Based與Role Based積木式建構技術 ‧ 採Web Based及U... | 潛力預估: 適合用在技術社群建構、知識管理網站、企業入口網站建立…等市場領域。

微霧化器

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 霧化粒徑SMD | 潛力預估: 本技術的研發,將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展,同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立,以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。

微均熱片

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 均熱片尺寸:30x30x2 mm 可耐熱通密度:100w/cm2 可耐熱功率:>50W | 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握,規格達國際水準,具市場競爭力。

TFT ARRAY製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 定位精度:±20mm | 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。

TFT CELL製造設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧電漿源: 500mm ‧ 錨定能 : >10-5 J/m2 | 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢,在國外亦正研發中,市場需求殷切。

前瞻性顯示器設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 捲繞速度:15~30m/min ‧ 張力誤差: ± 10% ‧ 速度誤差:± 10% | 潛力預估: 軟性顯示器是未來顯示器發展之趨勢,本技術可整合應用於軟板製程設備中,未來市場應用範圍極為廣泛。

平面顯示器瑕疵檢測系統整合應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1. 檢測物: TFT-LCD彩色濾光片、素玻璃 2. 元件大小: 680 mm X 880 mm 3. 檢測速率: 15000 mm2/秒 4. 最小瑕疵: 20μm | 潛力預估: 技術應用領域可擴大至LCD其他元件的瑕疵檢測

線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工,為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動,配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術,2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台,年產值達18億元以上,在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機,並且...

放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案,應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求,使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。

先進構裝機電控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶片堆疊控制,底部充填自動校正控制 | 潛力預估: 1.晶片堆疊控制增加設備性能及提高設備附加價值。2.底部充填自動校正控制,適用於覆晶製程點膠製程設備。

精密PCB鑽孔控制技術系統整合應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 鑽孔速度:400孔/分鐘 ‧ 檔案管理 ‧ 座標顯示 ‧ 加工路徑顯示 ‧ 翻、排版指令 ‧ 多次鑽孔功能 ‧ 擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令 ‧ 運轉/切削時間顯示 ‧ 從中斷點重新啟動功能 ‧ 斷針... | 潛力預估: 具備畫面瀏覽器功能,可由機器製造商自由編輯設定顯示畫面以增加系統專有特色功能,提高市場競爭力。

即時運動控制模組應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Windows CE 作業平台,具6軸脈波輸出,6軸硬體閉迴路控制,384點輸入/384點輸出,9軸32位元(Bits)位置計數器,8 CHANNEL串列式A/D 界面,8 CHANNEL串列式D/A... | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器,CNC控制器,半導體設備控制器等。

運動控制組件應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 整合式定位及輸出入控制晶片(EPCIO)將工業控制中定位與輸出入控制所需之界面電路整合於單一控制模組內,可大幅提升工業控制器硬體控制模組的穩定度,降低成本。 | 潛力預估: 本技術可應用於九成以上之產業控制器,CNC控制器,半導體設備控制器等。

線型馬達控制及配機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 線型馬達推力最高到3000~5000牛頓、解析度到0.5μm、有效行程最大370~650mm、可以控制於電流、速度和位置迴路、具有各項伺服馬達安全保護。 | 潛力預估: 目前已開始搭配WEDM進給軸配機與系統整合

永磁同步線型馬達分析設計技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 3000~5000N中重型馬達,600N輕型背向有鐵心線型馬達。 | 潛力預估: 目前已開始搭配WEDM進給軸配機與系統整合

創新研發社群與智庫技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧以.Net應用XML及Web Services等跨平台整合方案 ‧ 本技術成果為網際網路協同作業平台 ‧ 採Module Based與Role Based積木式建構技術 ‧ 採Web Based及U... | 潛力預估: 適合用在技術社群建構、知識管理網站、企業入口網站建立…等市場領域。

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