印刷式CIGS太陽電池之漿料製備塗佈技術
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技術名稱-中文印刷式CIGS太陽電池之漿料製備塗佈技術的執行單位是工研院綠能所, 產出年度是99, 計畫名稱是冶金級多晶矽及新型太陽能電池三年計畫, 技術規格是1. 第二代薄膜太陽電池。 2. 漿料製備與塗佈。, 潛力預估是漿料製備塗佈技術可運用在卷對卷製程，具有可大量生產之優勢。.

序號	4795
產出年度	99
技術名稱-中文	印刷式CIGS太陽電池之漿料製備塗佈技術
執行單位	工研院綠能所
產出單位	(空)
計畫名稱	冶金級多晶矽及新型太陽能電池三年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	薄膜太陽能電池的主要材料有銅銦鎵硒(CIGS)、碲化鎘、矽薄膜，其中以CIGS為材料的電池無論在電池效率及模組效率都有最佳的表現，印刷式製程具有製程簡單、快速、可控制膜厚以及大面積塗佈與捲繞傳輸(roll-to-roll)技術相容之特性，與低成本的優勢，本技術著重於新穎材料硒化銅銦鎵奈米粉末之漿料調製與塗佈製備該薄膜型太陽能電池吸收層技術。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	1. 第二代薄膜太陽電池。 2. 漿料製備與塗佈。
技術成熟度	概念
可應用範圍	可應用範圍: 1.太陽能電廠 2.屋頂電池 3.BIPV 4.可撓曲電池 5.攜帶型充電設備。應用市場潛力: 太陽能電廠、屋頂或整合建築之太陽能系統、電子產品充電器。
潛力預估	漿料製備塗佈技術可運用在卷對卷製程，具有可大量生產之優勢。
聯絡人員	蔡松雨
電話	03-5917789
傳真	03-5828403
電子信箱	SongTsai@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/04.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&id=3878
所須軟硬體設備	材料、化工及太陽光電基礎
需具備之專業人才	材料、化工及太陽光電基礎

序號

4795

產出年度

技術名稱-中文

印刷式CIGS太陽電池之漿料製備塗佈技術

執行單位

工研院綠能所

產出單位

(空)

計畫名稱

冶金級多晶矽及新型太陽能電池三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

薄膜太陽能電池的主要材料有銅銦鎵硒(CIGS)、碲化鎘、矽薄膜，其中以CIGS為材料的電池無論在電池效率及模組效率都有最佳的表現，印刷式製程具有製程簡單、快速、可控制膜厚以及大面積塗佈與捲繞傳輸(roll-to-roll)技術相容之特性，與低成本的優勢，本技術著重於新穎材料硒化銅銦鎵奈米粉末之漿料調製與塗佈製備該薄膜型太陽能電池吸收層技術。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1. 第二代薄膜太陽電池。 2. 漿料製備與塗佈。

技術成熟度

概念

可應用範圍

可應用範圍: 1.太陽能電廠 2.屋頂電池 3.BIPV 4.可撓曲電池 5.攜帶型充電設備。應用市場潛力: 太陽能電廠、屋頂或整合建築之太陽能系統、電子產品充電器。

潛力預估

漿料製備塗佈技術可運用在卷對卷製程，具有可大量生產之優勢。

聯絡人員

蔡松雨

電話

03-5917789

傳真

03-5828403

電子信箱

SongTsai@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/04.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&id=3878

所須軟硬體設備

材料、化工及太陽光電基礎

需具備之專業人才

材料、化工及太陽光電基礎

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漿料與硒化技術製作CIGS太陽電池	執行單位: 工研院綠能所 \| 產出年度: 99 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 冶金級多晶矽及新型太陽能電池三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米級(~100 nm)漿料製備、硒化(面積10 cm x 10cm)製程、元件製作技術(效率> 7%)。 \| 潛力預估: 印刷式製程具有低成本的優勢，漿料製備與硒化為其關鍵技術。 @ 技術司可移轉技術資料集
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CIGS太陽電池之前驅物硒化技術	執行單位: 工研院綠能所 \| 產出年度: 99 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 冶金級多晶矽及新型太陽能電池三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.第二代薄膜太陽電池。 2. 前驅物硒化製程。 \| 潛力預估: 本技術為目前可大面積量產硒化技術之ㄧ,可用於濺鍍,電鍍,塗佈等不同前驅物硒化製程。 @ 技術司可移轉技術資料集
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超高解析度可錄式光碟片	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220834 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐偉智 \| 蔡松雨 \| 曾美榕 \| 許世朋 \| 洪添燦 \| 郭博成 @ 技術司專利資料集
高密度可錄式光碟片用之新型記錄層染料	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 204070 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 蔡松雨 \| 洪添燦 \| 許世朋 \| 姜皞先 @ 技術司專利資料集
全光域、高密度、高解析度、高倍速及高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6811948 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐文泰 \| 張育嘉 \| 鄭竹軒 \| 周瑞崇 \| 柯文揚 @ 技術司專利資料集
光資訊記錄媒體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6713148 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐偉智 \| 程順德 \| 蔡松雨 \| 曾美榕 @ 技術司專利資料集

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材料高頻電磁特性量測技術開發先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 高頻測試治具與測試標準評估與開發，其電氣特性符合:測試頻率：< 65 GHz, K Value：1 \| 潛力預估: 可提升廠商之高頻量測技術能力，強化對產品設計及特性之掌握度，加速產品進入市場的速度，提高競爭力
多元合金細晶及成形技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 鎂鋁合金材料晶粒尺寸﹤1mm、鎂鋁合金材料伸長率> 300%、多元合金塗層具有﹤5w /m. k之熱傳導率及Hv500以上之硬度 \| 潛力預估: 3C產品鎂鋁合金外殼產值目前有80億, 預估每年有20-30%之成長率
奈米一維材料製造技術-垂直氧化鋅奈米線技術先期技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 一維氧化鋅奈米線材料之垂直有序排列的技術：氧化鋅奈米線/纖維材料之成長於Si基板角度為70o~90o；氧化鋅奈米線/纖維材料之寬徑30~300nm；氧化鋅奈米線/纖維材料長度≧2.5μm \| 潛力預估: 本研究初期成果已克服了垂直氧化鋅奈米線在矽基板成長之障礙，並且成功驗證垂直氧化鋅奈米線在場發射功能，在此有利之基礎上,提高控制性與大面積之成長技術建立強化,並對於多種性質之其它光電元件用基板材之實施,...
微波材料測試治具開發技術授權	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 材料K,Q量測, 測試頻率＜65GHz, 1＜K＜100,10＜Q＜1’10000,誤差￡±0.5% \| 潛力預估: 建立壓電膜材之壓電參數量測技術，支援相關應用產品開發。提供確認壓電膜材製作技術與產品設計開發可行性評估。可以利用已有的技術開發國內還沒有的量測系統，提供壓電薄膜在wafer level階段時的定量量...
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化學鍍活化液與其化學鍍技術	執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧化學鍍速率>0.25 ug/cm2.S ‧粒子平均粒徑12個月 \| 潛力預估: 化學鍍活化液及其化學鍍技術，為一針對未來實行化學鍍進行超薄薄膜製程與習用化學鍍活化液缺點所設計，是以金屬奈米粒子觀念為出發點，當隨粒子粒徑越小時，比表面積越高，催化活性也越強，再加上粒子表面有有機穩定...
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O-PET光學膜配方及研製技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 薄膜透光率≧85﹪、吸水率0.4、耐熱溫度≧150℃，且延伸倍率可達3倍以上。 \| 潛力預估: 目前既有產品多為國外日本進口，價格昂貴，且都已鍍好ITO膜，售價達2500元 NT/m2。本技術為自行開發O-PET光學級酯粒材料及其雙軸製膜技術，自製膜材料＜100元 NT/m2，而二次加工處理導電...
有機無機混成耐磨耗材料與製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 水性系統材料硬度可達: H 溶劑系統材料硬度可達: 塑膠基材可達2~3 H，玻璃基材可達5~7 H \| 潛力預估: 有機無機混成材料相關技術之建立可開發具有尺寸安定、低膨脹係數、高阻水氣及氧氣、高接著性、高耐熱、高透明性及可變折射率之特性，此材料相關產品可衍生應用於於耐磨耗、抗反射之薄膜塗層開發，以及高經濟價值之多...
平面光波導製程技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 傳遞損失TE (TransverseElectric)：0.47dB TM (Transverse Magnetic) ： 0.51 dB/cm 極化損失(PDL): 0.03 dB(1.31) ... \| 潛力預估: 此技術成果的最大效益在於發展低成本、高品質且易於大量生產製造的光通訊被動元件。有別於以往成本較高、製作過程繁瑣的傳統光通訊元件，如能以旋轉塗佈與黃光製程的製造方式取代以往的FHD+RIE製程，不僅可大...
無鹵無磷難燃複合材料技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 燃劑開發奈米混成複材基板，達到所需規格，Tg 3 150℃，Z軸膨脹率α1 ￡ 70 ppm/ oC, α2￡ 300ppm/ oC, UL94V-0以及copper peel strength≧8 ... \| 潛力預估: ‧難燃機電應用：如絕緣礙子、筆記型電腦外殼、印刷電路板，OA產品外殼等等 ‧高級建材產品：如捷運第三軌，機電工程等等
無鹵無磷高尺寸安定性奈米基板材料開發	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: - 難燃性UL94-V0 - Tg 3 G6 - Z軸膨脹率( 50→260℃) ￡ 3.5 % - Solderability( 288℃) > 5min - peel strength : 8~1... \| 潛力預估: 高尺寸安定性奈米FR-4：高尺寸安定奈米FR-4之市場切入點在於取代目前high Tg基板（目前約佔FR-4之5~10%，大中華地區約30~50億NT，未來可能成長至20%，超過100億NT）。無...
新型OLED藍色發光材料及其合成技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 最終材料產品，產率 > 45 %。光激發與電激發光譜範圍：380 ~ 470nm。玻璃轉移溫度 > 120 ℃。裂解溫度 > 430 ℃。 \| 潛力預估: 本產品可應用於低成本FPD與平面光源，相關材料技術亦可應用於一般有機光電元件，如：太陽能電池、塑膠IC、感測元件…等。預估技術衍生之相關應用產品產值可達新台幣 50 億以上。
Y, M, C,K紫外線交聯顏料微粒化分散技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 顏料種類：Y, M, C, K 顏料分散粒徑(D50)≦80nm 顏料含量≧20wt% 通過安定性測試，40℃，三天 \| 潛力預估: 可應用於噴印在金屬、塑膠、橡膠、陶瓷、木材等不吸墨基材。
高耐磨/保健機能性PU奈米樹脂與合成皮革技術	執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密與機能性化學技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧固成分330wt% ‧儲存安定性(室溫)390days ‧PU樹脂乾膜抗張強度200-600kg/cm2 ‧PU樹脂乾膜延展性200-600% \| 潛力預估: ‧高加工性機能性奈米黏土分散液 ‧高附加複合機能性PU樹脂與合成皮革