多量 SSD array 管理技術
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技術名稱-中文多量 SSD array 管理技術的執行單位是工研院雲端中心, 產出年度是100, 計畫名稱是雲端運算系統及應用服務技術發展計畫, 技術規格是1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路, 潛力預估是1.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品。 2.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品。.

序號4989
產出年度100
技術名稱-中文多量 SSD array 管理技術
執行單位工研院雲端中心
產出單位(空)
計畫名稱雲端運算系統及應用服務技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文工研院規劃開發多量 SSD array 管理技術,特色為高 throughput 與低成本。多量 SSD array 管理技術可作為PCIe卡, SSD伺候機, 或 與硬碟儲存系統結合。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路
技術成熟度雛型
可應用範圍1. 資料中心(Data Center) 2. 企業內部雲端系統建置(Private Cloud) 3. 運算系統加速(performance acceleration)
潛力預估1.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品。 2.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品。
聯絡人員阮耀飛
電話03-5916173
傳真03-530229
電子信箱yf.juan@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備Server Racks / Data Center
需具備之專業人才系統整合專業團隊(System integration (SI) team) 大型系統軟體開發相關經

序號

4989

產出年度

100

技術名稱-中文

多量 SSD array 管理技術

執行單位

工研院雲端中心

產出單位

(空)

計畫名稱

雲端運算系統及應用服務技術發展計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

工研院規劃開發多量 SSD array 管理技術,特色為高 throughput 與低成本。多量 SSD array 管理技術可作為PCIe卡, SSD伺候機, 或 與硬碟儲存系統結合。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路

技術成熟度

雛型

可應用範圍

1. 資料中心(Data Center) 2. 企業內部雲端系統建置(Private Cloud) 3. 運算系統加速(performance acceleration)

潛力預估

1.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品。 2.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品。

聯絡人員

阮耀飛

電話

03-5916173

傳真

03-530229

電子信箱

yf.juan@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

所須軟硬體設備

Server Racks / Data Center

需具備之專業人才

系統整合專業團隊(System integration (SI) team) 大型系統軟體開發相關經

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多量 SSD Array 管理技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路 | 潛力預估: 1.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品。 2.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品。

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多量 SSD array 管理技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路 | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品 2. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品

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快閃記憶體儲存陣列技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.1 百萬 random IOPS | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品 2. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品

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多量 SSD Array 管理技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路 | 潛力預估: 1.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品。 2.搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品。

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多量 SSD array 管理技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.快捷外設互聯標準 3.10G 乙太網路 | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品 2. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品

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快閃記憶體儲存陣列技術

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1.單層式儲存/多層式儲存 2.1 百萬 random IOPS | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展資料中心與企業雲的雲端系統加速產品 2. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,發展存儲系統加速產品

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VLAN based data center SDN技術 (基於VLAN之資料中心軟體定義網路技術)

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 可支援4094個虛擬網路 | 潛力預估: 資料中心與企業網路,或其他有使用VLAN的網路環境

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雲端運算作業系統

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1. 虛擬機管理 2. 儲存管理 3. 安全防護 4. 耗電管理 5. 伺服器、網路管理 6. 實體資源分配 7. 多面向負載平衡功能 8. 虛擬資料中心管理 9. 實體資料中心管理 10. 相容Op... | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,提供資料中心整案輸出(Data Center Total Solution)2. 發展軟體供應服務或系統整合(SI)廠商,提供資料中心或企業雲(Private...

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VLAN based data center SDN技術 (基於VLAN之資料中心軟體定義網路技術)

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 可支援4094個虛擬網路 | 潛力預估: 資料中心與企業網路,或其他有使用VLAN的網路環境

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雲端運算作業系統

執行單位: 工研院雲端中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 雲端運算系統及軟體技術研發計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1. 虛擬機管理 2. 儲存管理 3. 安全防護 4. 耗電管理 5. 伺服器、網路管理 6. 實體資源分配 7. 多面向負載平衡功能 8. 虛擬資料中心管理 9. 實體資料中心管理 10. 相容Op... | 潛力預估: 1. 搭配國內IT硬體OEM/ODM廠商,提供資料中心整案輸出(Data Center Total Solution)2. 發展軟體供應服務或系統整合(SI)廠商,提供資料中心或企業雲(Private...

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高精細金屬精密蝕刻技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: OLED用金屬罩規格為具有最小孔距0.03mm與0.225mm×0.070mm開口之超高精細度網罩。 | 潛力預估: 開發出獨特並具有專利智權的Dynode強化場發射照明或顯示系統元件與其相關材料技術,並建立自主之CDT網罩製作技術、OLED熱蒸鍍Metal Mask製作技術、平面顯示器高精度電子增益零件製作技術等...

塑膠光纖單芯雙向連接器設計

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 單蕊雙向塑膠光纖連接器收發模組,中心主波長為650nm,傳輸量在200Mbps。包括收發電路、光學機構及整合等工作。 | 潛力預估: 在國內寬頻產業逐漸萌芽之際,連接器產業若能藉由此計劃建立產業之塑膠光纖連接器之設計技術,適時切入市場技術,對產業在未來寬頻光纖連接器產品之發開技術上,將大有助益。

高導熱碳纖維強化鋁基複合材料成形技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 碳纖維強化碳基複合材料, 熱傳導率可達654 W/m.K(纖維方向)以上高於純銅, 密度在1.75 g/cm3左右,熱膨脹係數則在6.65 ppm/K(纖維方向),其中碳纖維強化的體積分率達63%。利... | 潛力預估: 高導熱碳纖維複合材料可解決未來熱管理產業對高導熱散熱材料的需求, 同時達到輕量化小型化及構裝上低熱膨脹係數的設計需求,協助國內散熱產業切入中高階的散熱模組市場,擴大市場規模。

多元高熵合金熔鑄與鍛壓技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.設計5-7元高熵合金組成配方,以大氣感應熔煉(IF)開發10kg級鑄胚。 2.以Gleeble熱加工模擬研究最佳固熔化與熱鍛溫度(RA%>40) 3.開模鍛造可鍛造量>50% 4.冷壓可壓延量>... | 潛力預估: 可製成高強度、耐磨、耐溫、耐蝕之刀工具、模具、機件等所用新一代合金材料。

駐極體材料技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 直徑:< 50mm, Response Frequency:>10kHz, Response Sensitivity :>80dB | 潛力預估: 建立駐電型複合材料結構相關製程加工技術及駐極体材料評估分析方法,以提昇電聲產品之性能以增加產品附加價值,促使我國產業能深入3C產品領域。

超高機能表面材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 基板尺寸24”x24” | 潛力預估: 增加廠商相關技術之進步,並提昇其產品之良率與國際競爭力。

輕量化高分子複材先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 塗佈技術規格:模厚40 mm ± 10%,預浸材規格:FAW = 100 g/m2,樹脂含量35~37%,耐衝擊性提升10 % | 潛力預估: 預估國內複合材料在運動器材之應用需求超過 5000噸 / 年,可增加複材相關產業產值20億台幣以上。輕量化高分子複材,可提升複材之材料性能,提高產品設計之自由度。對應用產品之輕量化及提高附加價值均有...

高應答速度液晶材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 其他液晶參數:Δn = 0.1561,γ1 /κ11 =7.8 ,κ11 =1.15 e-11,γ1 = 90,FOM = 3.1,Vth = 1.74 V | 潛力預估: 建立我國液晶材料配製、光電特性量測、評估技術能力;促成國內液晶顯示器產業垂直整合的完整性、技術開發完成攻佔市場後可搶佔數10億元以上之的收益。

新型配向材料技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 水平pre-tilt photo-tuned 0~10度,垂直pre-tilt photo-tuned 80~90度 | 潛力預估: 可促進產值達50億元以上

低溫硬化互連導電材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 1.高性能要求之電子構裝材料 2.需要特定加工操作溫度之熱硬化塗裝材料

電容去離子奈米複合碳電極材料開發

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米複合碳電極材料具高放電電容量> 100 F/g;CDI去除率> 250 ppm/次 | 潛力預估: 以商品化電化學電容器碳材為例,其最大放電電容量僅約100 F/g,目前材料所針對商用碳材以奈米一維材料表面修飾,可得一中孔性奈米結構碳材,其電容量可增加25~40%,預期其市場接受性高,且目前並無相...

奈米可見光光觸媒材料技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)摻有奈米氧化鋅粉(0.2wt.%)之大腸桿菌培養液在可見光(波長543nm/強度1500Lux)照射6小時後,細菌數目減少至原來之0.1%以下;(2)根據ASTM G21-96測試對黑麴黴菌(A... | 潛力預估: 根據日本工業新聞的統計,2000年時日本光觸媒的年產值為70億日圓。預估到2005年時,日本的光觸媒產值將達100億日圓,約有新台幣28億元。 使用光觸媒作為殺菌、消臭、防污的觀念,在日本已經十分普...

超薄型塗佈技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度£0.5μm、厚度均勻度395%, 塗佈寬度3300mm | 潛力預估: 本技術可增進國內廠商建立上游材料的製作技術,建立如觸控面板、增亮膜、廣試角膜、抗反射膜、抗炫膜與其他光學補償膜等等,如果本土材料產業成功的話,可提供下游就近的材料提供與成本競爭力,預期可以有很大的產業...

計量式精密塗佈技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395% | 潛力預估: 舉凡各種光學膜,如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作,皆與「精密塗佈技術」為核心之關鍵技術互相牽連在一起,如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全

奈米纖維材料製造與應用技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 複合奈米金屬線/纖維寬徑≦100nm,線/纖維長度≧20μm,長度/寬徑比(aspect ratio)> 200 | 潛力預估: 開發複合奈米纖維材料製造技術及應用評估,以應用於儲能、微感測器、場發射平面顯示器上的材料使用,本技術包括奈米中空管、奈米金屬纖維、複合奈米金屬纖維之製造技術

高精細金屬精密蝕刻技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: OLED用金屬罩規格為具有最小孔距0.03mm與0.225mm×0.070mm開口之超高精細度網罩。 | 潛力預估: 開發出獨特並具有專利智權的Dynode強化場發射照明或顯示系統元件與其相關材料技術,並建立自主之CDT網罩製作技術、OLED熱蒸鍍Metal Mask製作技術、平面顯示器高精度電子增益零件製作技術等...

塑膠光纖單芯雙向連接器設計

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 單蕊雙向塑膠光纖連接器收發模組,中心主波長為650nm,傳輸量在200Mbps。包括收發電路、光學機構及整合等工作。 | 潛力預估: 在國內寬頻產業逐漸萌芽之際,連接器產業若能藉由此計劃建立產業之塑膠光纖連接器之設計技術,適時切入市場技術,對產業在未來寬頻光纖連接器產品之發開技術上,將大有助益。

高導熱碳纖維強化鋁基複合材料成形技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 碳纖維強化碳基複合材料, 熱傳導率可達654 W/m.K(纖維方向)以上高於純銅, 密度在1.75 g/cm3左右,熱膨脹係數則在6.65 ppm/K(纖維方向),其中碳纖維強化的體積分率達63%。利... | 潛力預估: 高導熱碳纖維複合材料可解決未來熱管理產業對高導熱散熱材料的需求, 同時達到輕量化小型化及構裝上低熱膨脹係數的設計需求,協助國內散熱產業切入中高階的散熱模組市場,擴大市場規模。

多元高熵合金熔鑄與鍛壓技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.設計5-7元高熵合金組成配方,以大氣感應熔煉(IF)開發10kg級鑄胚。 2.以Gleeble熱加工模擬研究最佳固熔化與熱鍛溫度(RA%>40) 3.開模鍛造可鍛造量>50% 4.冷壓可壓延量>... | 潛力預估: 可製成高強度、耐磨、耐溫、耐蝕之刀工具、模具、機件等所用新一代合金材料。

駐極體材料技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 直徑:< 50mm, Response Frequency:>10kHz, Response Sensitivity :>80dB | 潛力預估: 建立駐電型複合材料結構相關製程加工技術及駐極体材料評估分析方法,以提昇電聲產品之性能以增加產品附加價值,促使我國產業能深入3C產品領域。

超高機能表面材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 基板尺寸24”x24” | 潛力預估: 增加廠商相關技術之進步,並提昇其產品之良率與國際競爭力。

輕量化高分子複材先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 塗佈技術規格:模厚40 mm ± 10%,預浸材規格:FAW = 100 g/m2,樹脂含量35~37%,耐衝擊性提升10 % | 潛力預估: 預估國內複合材料在運動器材之應用需求超過 5000噸 / 年,可增加複材相關產業產值20億台幣以上。輕量化高分子複材,可提升複材之材料性能,提高產品設計之自由度。對應用產品之輕量化及提高附加價值均有...

高應答速度液晶材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 其他液晶參數:Δn = 0.1561,γ1 /κ11 =7.8 ,κ11 =1.15 e-11,γ1 = 90,FOM = 3.1,Vth = 1.74 V | 潛力預估: 建立我國液晶材料配製、光電特性量測、評估技術能力;促成國內液晶顯示器產業垂直整合的完整性、技術開發完成攻佔市場後可搶佔數10億元以上之的收益。

新型配向材料技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 水平pre-tilt photo-tuned 0~10度,垂直pre-tilt photo-tuned 80~90度 | 潛力預估: 可促進產值達50億元以上

低溫硬化互連導電材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 1.高性能要求之電子構裝材料 2.需要特定加工操作溫度之熱硬化塗裝材料

電容去離子奈米複合碳電極材料開發

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 奈米複合碳電極材料具高放電電容量> 100 F/g;CDI去除率> 250 ppm/次 | 潛力預估: 以商品化電化學電容器碳材為例,其最大放電電容量僅約100 F/g,目前材料所針對商用碳材以奈米一維材料表面修飾,可得一中孔性奈米結構碳材,其電容量可增加25~40%,預期其市場接受性高,且目前並無相...

奈米可見光光觸媒材料技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)摻有奈米氧化鋅粉(0.2wt.%)之大腸桿菌培養液在可見光(波長543nm/強度1500Lux)照射6小時後,細菌數目減少至原來之0.1%以下;(2)根據ASTM G21-96測試對黑麴黴菌(A... | 潛力預估: 根據日本工業新聞的統計,2000年時日本光觸媒的年產值為70億日圓。預估到2005年時,日本的光觸媒產值將達100億日圓,約有新台幣28億元。 使用光觸媒作為殺菌、消臭、防污的觀念,在日本已經十分普...

超薄型塗佈技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度£0.5μm、厚度均勻度395%, 塗佈寬度3300mm | 潛力預估: 本技術可增進國內廠商建立上游材料的製作技術,建立如觸控面板、增亮膜、廣試角膜、抗反射膜、抗炫膜與其他光學補償膜等等,如果本土材料產業成功的話,可提供下游就近的材料提供與成本競爭力,預期可以有很大的產業...

計量式精密塗佈技術

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 乾膜厚度介於1~100μm之間、厚度均勻度395% | 潛力預估: 舉凡各種光學膜,如彩色光阻、廣視角膜、增亮膜、偏光膜、補償膜、擴散片、塑膠基板及電池極板之製作,皆與「精密塗佈技術」為核心之關鍵技術互相牽連在一起,如有相關技術之建立,可促成工業供應鏈的齊全

奈米纖維材料製造與應用技術先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 複合奈米金屬線/纖維寬徑≦100nm,線/纖維長度≧20μm,長度/寬徑比(aspect ratio)> 200 | 潛力預估: 開發複合奈米纖維材料製造技術及應用評估,以應用於儲能、微感測器、場發射平面顯示器上的材料使用,本技術包括奈米中空管、奈米金屬纖維、複合奈米金屬纖維之製造技術

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