平面基板狹縫塗佈設備技術
- 經濟部產業技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文平面基板狹縫塗佈設備技術的執行單位是工研院機械所, 產出年度是100, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 技術規格是基板尺寸： 370mm x 470mm 膜厚範圍：0.2µ, 潛力預估是試量產.

序號	5233
產出年度	100
技術名稱-中文	平面基板狹縫塗佈設備技術
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	機械與系統領域環境建構計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	完成精密狹縫塗佈設備開發，該設備用於平面基板高均勻度溼式塗佈製程。此設備採用龍門移動式設計，強化製程可靠度。已驗證之塗料包括光阻、導電高分子、硬化塗層、光學膠、銅銦鎵氧化物漿料等。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	基板尺寸： 370mm x 470mm 膜厚範圍：0.2µ
技術成熟度	m~200µ
可應用範圍	m 最佳膜厚均勻度：±3% 最大塗速：10m/min
潛力預估	試量產
聯絡人員	舉凡須在平面基板完成高品質塗膜之製程，皆可適用，包括平面顯示器製程、觸控面板製程、背光模組、透明導電基板，太陽能製程等產業
電話	建立塗佈模具設計分析技術、整合精密機械設計開發能力及製程設計分析工具，提升國內平面基板狹縫塗佈設備技術能力，使塗膜品質達國際級水準。
傳真	謝志瑋
電子信箱	03-5913904
參考網址	http://03-5820043
所須軟硬體設備	cwhsieh@itri.org.tw
需具備之專業人才	無
同步更新日期	2024-09-03

序號

5233

產出年度

100

技術名稱-中文

平面基板狹縫塗佈設備技術

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

完成精密狹縫塗佈設備開發，該設備用於平面基板高均勻度溼式塗佈製程。此設備採用龍門移動式設計，強化製程可靠度。已驗證之塗料包括光阻、導電高分子、硬化塗層、光學膠、銅銦鎵氧化物漿料等。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

基板尺寸： 370mm x 470mm 膜厚範圍：0.2µ

技術成熟度

m~200µ

可應用範圍

m 最佳膜厚均勻度：±3% 最大塗速：10m/min

潛力預估

試量產

聯絡人員

舉凡須在平面基板完成高品質塗膜之製程，皆可適用，包括平面顯示器製程、觸控面板製程、背光模組、透明導電基板，太陽能製程等產業

電話

建立塗佈模具設計分析技術、整合精密機械設計開發能力及製程設計分析工具，提升國內平面基板狹縫塗佈設備技術能力，使塗膜品質達國際級水準。

傳真

謝志瑋

電子信箱

03-5913904

參考網址

http://03-5820043

所須軟硬體設備

cwhsieh@itri.org.tw

需具備之專業人才

無

同步更新日期

2024-09-03

根據名稱平面基板狹縫塗佈設備技術找到的相關資料

(以下顯示 3 筆) (或要:直接搜尋所有 平面基板狹縫塗佈設備技術 ...)

平面基板狹縫塗佈設備技術	執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 \| 領域: 智慧科技 \| 技術規格: 基板尺寸：370mm x 470mm, 膜厚範圍：0.2μm ~ 200μm, 膜厚變異量：±3% (最佳值), 最大塗速：10m/min \| 潛力預估: 應用於光電產業包括平面顯示器及太陽能電池，全球年產值預估10億。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
平面基板狹縫塗佈設備技術	執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 \| 領域: \| 技術規格: 基板尺寸：370mm x 470mm, 膜厚範圍：0.2?m ~ 200?m, 膜厚變異量：±3% (最佳值), 最大塗速：10m/min \| 潛力預估: 應用於光電產業包括平面顯示器及太陽能電池，全球年產值預估10億 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
平面基板狹縫塗佈設備技術	執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 102 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 \| 領域: \| 技術規格: 基板尺寸：370mm x 470mm, 膜厚範圍：0.2?m ~ 200?m, 膜厚變異量：±3% (最佳值), 最大塗速：10m/min \| 潛力預估: 應用於光電產業包括平面顯示器及太陽能電池，全球年產值預估10億 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

根據電話建立塗佈模具設計分析技術整合精密機械設計開發能力及製程設計分析工具提升國內平面基板狹縫塗佈設備技術能力使塗膜品質達國際級水準找到的相關資料

無其他建立塗佈模具設計分析技術整合精密機械設計開發能力及製程設計分析工具提升國內平面基板狹縫塗佈設備技術能力使塗膜品質達國際級水準資料。

[ 搜尋所有 建立塗佈模具設計分析技術整合精密機械設計開發能力及製程設計分析工具提升國內平面基板狹縫塗佈設備技術能力使塗膜品質達國際級水準 ... ]

在『經濟部產業技術司可移轉技術資料集』資料集內搜尋:

與平面基板狹縫塗佈設備技術同分類的經濟部產業技術司可移轉技術資料集

精密慣導系統研製技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 馬達啟動時間<2sec，扭矩器扭轉率250°/sec，零亂漂移率≦0.2°/hr。 \| 潛力預估: 可取代外貨，極具市場潛力
伺服閥系統研製技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 12cis、3000psi \| 潛力預估: 可取代外貨，極具市場潛力
鈦合金進氣道技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: AMS-STD-2219A級 \| 潛力預估: 可強攻航太工業、醫療用品、3C產業、精密機械產業、工業用品、汽車產業、自行車產業
推進與伺服系統研製技術	執行單位: 中科院飛彈所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 噴嘴前段外殼：SAE4130鍛造後材質滿足AMS6370K規範，晶粒依ASTM E112B No.5或更細，強度≧100Kg/mm2，噴嘴後段外殼：6061-T6鋁合金材質符合AMS4079C規範，屈... \| 潛力預估: 可取代外貨，極具市場潛力
小型軍用無人遙控靶機系統產製	執行單位: 中科院資通所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 翼展2.5米、全長2.8米、高度0.6米空重≦75公斤、最大總重≦90公斤、最大飛行速度150節飛行升限≦10,000英呎、續航時間≦1.5小時、導控距離≦50公里，採彈射及滑行起飛等需求規格設計 \| 潛力預估: 1、可輔導國內從休閒娛樂遙控模型傳統產業，轉型國防軍用靶機產業，進行無人靶機開發，以爭取美國FCT等小靶機銷售商機，搶攻小型軍用靶機銷售市場，極具市場潛力。2、以往國軍每年數億元靶訓消耗件，皆是外購所...
數位飛控電腦設計製造技術研製	執行單位: 中科院資通所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 震動符合MIL-HDBK-5400 PARA.4.6.2.5.1，儲存溫度：-55 ~ +85℃，操作環境：-40 ~ +55℃；+70℃至少30分鐘可靠度 MTBF 5000小時，輸入電壓：+22 ... \| 潛力預估: 藉由「數位飛控電腦」等軍品關鍵技術，可使合作廠商投入開發高附加價值之軍用等級量測儀器、自動化測試設備(ATE)及電力電子等產品，提升從事高附加價值無人遙控產業之整體形象，有極大效益，可增加國際衍生訂單...
數位驅動控制器研製	執行單位: 中科院航空所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.迴授精度線性：± 0.5%。2.機械行程：50 ± 2 Degrees。3.電氣行程：45±2 Degrees。4..操作電壓：18 ~ 32V。5.標準操作電壓值：24V。6.無載速度：130 ... \| 潛力預估: 可進入軍品市場，取代進口。
無人載具機體關鍵組件研製技術開發	執行單位: 中科院航空所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1．低成本、複合式零件貼製與組裝檢驗模具型架開發研製技術。2．載具結構輕量化製造及組裝整合技術。機體結構輕量化規格：尺寸:翼展:約342吋，機身長:約210吋。材料:碳纖維複合材料。重量:全重不超... \| 潛力預估: 可進入軍品及民生市場，應用於航太工業、醫療用品、3C產業、汽車產業、自行車產業，進而爭取國際相關系統件承製之機會
共用型軍用發射箱架裝備研製技術開發	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1．符合1553B Bus傳輸介面規格研製技術，傳輸率1Mbits/S。2．機電系統整合技術，自測度達90%，故障隔離度達85%。3．建立軍用發射架開發技術，可在6級海象下工作。 \| 潛力預估: 可進入軍品市場，進而以整個供應鏈爭取國際相關系統件承製之機會
共用型軍用發射箱架操作控制器研製技術開發	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與航太領域軍品釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1．單一元件失效不可導致誤激發安全事故的射控介面控制電路研製技術。2．機電系統整合技術，自測度達90%，故障隔離度達85%。3．電子裝備模組承受4吋/小時雨淋水密等環境規格研製技術。 \| 潛力預估: 可進入軍品市場，進而以整個供應鏈爭取國際相關系統件承製之機會
氮化鋁鎵紫外線偵檢器磊晶技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: AlGaN 偵檢元件鋁含量可達26%,響應波長<325nm \| 潛力預估: 極具軍民通用技術特性，並具創新產品與國內產業應用性
氮化鋁鎵紫外線偵檢器製程技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: responsivity >0.05A/W；response time <10ms；cutoff wavelength <325nm \| 潛力預估: 極具軍民通用技術特性，並具創新產品與國內產業應用性
太陽光紫外線強度量測技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 搭配氮化鎵紫外線偵檢元件，UVI可量測0-10 \| 潛力預估: 極具軍民通用技術特性，並具創新產品與國內產業應用性
焦平面紅外線模組製程技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 128x128、256x256、320x240三規格中紅外波段感測模組製程與光電驗證 \| 潛力預估: 極具軍民通用技術特性，並具創新產品與國內產業應用性
繞射光學鏡片設計與製程技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 最小環距13μm；深度1.1μm。 \| 潛力預估: 數位相機與照相手機為資訊時代熱門光電影像產品，本技術提供塑膠繞射鏡片設計與量產製程技術，有助於提升成像品質、縮小產品尺寸及降低成本。