微型雷射投影系統
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技術名稱-中文微型雷射投影系統的執行單位是工研院南分院, 產出年度是101, 計畫名稱是南部新興產業發展關鍵技術計畫, 技術規格是投影解析度：720P (1280x720pixels)，投影亮度：> 25 lm，色彩灰階：> 24bits，投影畫面：10~30吋，微型光機體積：< 2.5cm3，光機散熱容量：> 2W，元件掃描頻率：27~29kHz，元件耗能：< 50mW，傾斜失真補償角度：±20度，實體雛型品：適應性微型..., 潛力預估是主要合作廠商如3C相關產業，手機市場將是應用潛力最大的載具平台，其次為數位相機、DV攝影機、個人遊戲機等內嵌式產品；新興產品如平板電腦、智慧機器人等。.

序號	5872
產出年度	101
技術名稱-中文	微型雷射投影系統
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	微型雷射投影模組包含三項關鍵技術：一、MEMS掃描元件：成功開發出創新的壓電式雙軸驅動振鏡，頻率高達27~29kHz，可支援720P HD等級投影解析度，並具有薄型化設計與低耗能等特點；二、超微型光機引擎：成功開發出世界最小的微投影光機，小於2.5cm3之體積已可突破目前嵌入手機所遭遇的體積障礙，亦可嵌入於數位相機、平板電腦等行動電子產品；三、雷射投影系統：成功實現目前國際間最高的720P HD等級投影解析度、>25流明輸出亮度、> 24bits Full Color全彩灰階等規格，並具備±20度傾斜投影失真時之估測與補償能力，此補償技術目前國際間尚未有相關成果，將可讓行動投影更具適應性能力。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	投影解析度：720P (1280x720pixels)，投影亮度：> 25 lm，色彩灰階：> 24bits，投影畫面：10~30吋，微型光機體積：< 2.5cm3，光機散熱容量：> 2W，元件掃描頻率：27~29kHz，元件耗能：< 50mW，傾斜失真補償角度：±20度，實體雛型品：適應性微型雷射投影模組、嵌入式超微型光學引擎、高頻壓電式掃描面鏡等。
技術成熟度	雛型
可應用範圍	手機、數位相機、平板電腦、NB、i-Pod Video、PDA、隨身遊戲機等；微型車用資訊抬頭顯示器(Head-Up Diplsay)、車內娛樂投影、數位化儀表板等。
潛力預估	主要合作廠商如3C相關產業，手機市場將是應用潛力最大的載具平台，其次為數位相機、DV攝影機、個人遊戲機等內嵌式產品；新興產品如平板電腦、智慧機器人等。
聯絡人員	蘇修璋
電話	06-3847194
傳真	06-3847294
電子信箱	ian.su@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720
所須軟硬體設備	軟體： FPGA邏輯開發平台，Quartus II，RealView RMDK，Matlab，Borland C++ Builder。硬體： Power Meter光功率計，Beam Profile光形測量器，三軸/六軸組裝平台，照度計，Polytec MSA-400 Micro System Analyzer，曝光機。
需具備之專業人才	FPGA邏輯程式開發、硬體電路設計、光機電系統整合、微機電元件設計與製程整合、光學與結構設計。

序號

5872

產出年度

101

技術名稱-中文

微型雷射投影系統

執行單位

工研院南分院

產出單位

(空)

計畫名稱

南部新興產業發展關鍵技術計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

微型雷射投影模組包含三項關鍵技術：一、MEMS掃描元件：成功開發出創新的壓電式雙軸驅動振鏡，頻率高達27~29kHz，可支援720P HD等級投影解析度，並具有薄型化設計與低耗能等特點；二、超微型光機引擎：成功開發出世界最小的微投影光機，小於2.5cm3之體積已可突破目前嵌入手機所遭遇的體積障礙，亦可嵌入於數位相機、平板電腦等行動電子產品；三、雷射投影系統：成功實現目前國際間最高的720P HD等級投影解析度、>25流明輸出亮度、> 24bits Full Color全彩灰階等規格，並具備±20度傾斜投影失真時之估測與補償能力，此補償技術目前國際間尚未有相關成果，將可讓行動投影更具適應性能力。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

投影解析度：720P (1280x720pixels)，投影亮度：> 25 lm，色彩灰階：> 24bits，投影畫面：10~30吋，微型光機體積：< 2.5cm3，光機散熱容量：> 2W，元件掃描頻率：27~29kHz，元件耗能：< 50mW，傾斜失真補償角度：±20度，實體雛型品：適應性微型雷射投影模組、嵌入式超微型光學引擎、高頻壓電式掃描面鏡等。

技術成熟度

雛型

可應用範圍

手機、數位相機、平板電腦、NB、i-Pod Video、PDA、隨身遊戲機等；微型車用資訊抬頭顯示器(Head-Up Diplsay)、車內娛樂投影、數位化儀表板等。

潛力預估

主要合作廠商如3C相關產業，手機市場將是應用潛力最大的載具平台，其次為數位相機、DV攝影機、個人遊戲機等內嵌式產品；新興產品如平板電腦、智慧機器人等。

聯絡人員

蘇修璋

電話

06-3847194

傳真

06-3847294

電子信箱

ian.su@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720

所須軟硬體設備

軟體： FPGA邏輯開發平台，Quartus II，RealView RMDK，Matlab，Borland C++ Builder。硬體： Power Meter光功率計，Beam Profile光形測量器，三軸/六軸組裝平台，照度計，Polytec MSA-400 Micro System Analyzer，曝光機。

需具備之專業人才

FPGA邏輯程式開發、硬體電路設計、光機電系統整合、微機電元件設計與製程整合、光學與結構設計。

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空間手勢辨識與追跡模組	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 空間操作自由度：6 DOF，可感測軸數：9軸，可辨識動作種類：>13種。 \| 潛力預估: 主要合作廠商如數位遊戲、互動與數位電視之相關廠商。 @ 技術司可移轉技術資料集
微型三軸加速度計	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: Range：±2g / ±8g , Non-Linearity (%of FS)：±0.5 , Cross Axis Sensitivity (%)：±1 , Noise Floor (μg/√Hz)... \| 潛力預估: 主要合作廠商如3C電子廠商、ASIC 設計廠商、微機電代工廠商。 @ 技術司可移轉技術資料集
MEMS振盪器	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 頻率: 50MHz-400MHz，Q值: 30,000@400MHz，溫度係數: \| 潛力預估: 挾帶體積小、低成本等優勢，可望隨著技術進步，在振盪器市場，由低至高精準度規格，逐漸取代石英晶體。 @ 技術司可移轉技術資料集
慣性量測模組(IMU)	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: Angular Rate Range：±300deg/sec，Angular Rate Noise：0.02°/sec/√Hz，Acc. Range：±2g，Acc. Noise：30μg/√Hz，O... \| 潛力預估: 主要合作廠商如3C電子廠商、ASIC 設計廠商、微機電代工廠商。 @ 技術司可移轉技術資料集
MEMS麥克風	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 頻率響應：100Hz ~ 10k Hz，靈敏度：-38 ± 3 dB，訊噪比：62 dB (Typical). \| 潛力預估: 主要合作廠商如3C消費電子與醫療產品廠商。 @ 技術司可移轉技術資料集
隨身動態心電監控判讀技術	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 心電圖：單導程/三導程心電圖，支援藍牙2.0及PDA/PC顯示省電模式，貼片尺寸 (mm)：單導程貼片 : 135 x 35 x 4.5,三導程貼片 : 120 x 199 x 6，特徵值PQRST偵... \| 潛力預估: 可應用於居家保健、醫療產業，可協助業界拓展居家照護、微型健康照護、無線個人網路通訊應用加值新興市場。 @ 技術司可移轉技術資料集
光學防手振模組	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: DSC Anti-shaking , 12X Tele, Shutter 1/2”, ISO100, Compen. vibration: 4Hz~12Hz@ ±0.15°, Tremor resi... \| 潛力預估: 主要合作廠商如手機、相機業者、精密光學業、3C消費電子業。 @ 技術司可移轉技術資料集
影像深度辨識技術	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 適用距離：1.5~5M ，深度影像正確率：>90%，Z軸解析度：12mm @ 2m，手部追蹤誤差 < 20mm @ 2m，運算速度：75 FPS，FPGA資源：200 Logic element。 \| 潛力預估: 下一代智慧電視、智慧車輛、智慧機械、智慧安控等產品的直覺化介面。 @ 技術司可移轉技術資料集

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微型三軸加速度計

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車載資訊系統	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 構裝:1 DIN或更小尺吋、最大消耗功率:小於3瓦、休眠消耗電流:小於20mA@12V DC、作業系統:Windows CE 4.2 core version、CPU: ARM Based 200MH... \| 潛力預估: ITS/Telematics數位內容服務整合技術、先進安全車輛整合技術
自動離合手排變速箱(AcMT)技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 本技術可使用於300Nm以下之手排車。 \| 潛力預估: 無
兩軸旋轉主軸頭	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 主軸：功率：15 kW、最大扭力：48 Nm、最高轉速：20,000 rpm、主軸振動：3μm以內；C軸：最大扭力：1,000Nm、行程：±200°；A軸：最大扭力：800 Nm、行程：±95° \| 潛力預估: 直接驅動技術結合兩軸旋轉模組技術、智能型主軸技術等關鍵技術，更進一步提昇高速與複合切削加工技術，領導業界邁向直接驅動高速五軸關聯技術領域，提昇五軸機台品級及其附加價值，增加國際競爭力
精密微量射出成型模組技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 成型位置潔淨度：Class 1,000 (U.S. Federal Standard) 、最大射速1000mm/sec、鎖模力200噸 \| 潛力預估: 替代全潔淨室的局部潔淨艙設計、大功率、高射速的電氣驅動射出成型、WinCE視窗系統的PC-Based控制器設計
電子束加工及模具製造技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1. Mold size: 4 and 6 inches 2. Mold material: metal, silicon and glass 3. Minimum line width≦20nm 4... \| 潛力預估: 奈米技術被喻為第四波的工業革命，其重要性不言而喻。其中，奈米模仁的製造技術對於是否能將產品商業化扮演一重要角色。而電子束微影技術與乾蝕刻是奈米模仁最重要的加工技術之一。舉凡電子、光電、生醫等領域都有其...
奈米轉印設備技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 領域: \| 技術規格: H.E./UV Module； Imprinting size：6”； Max. pressure：60 Bar； Max. temperature：250℃； Microwave rapid hea... \| 潛力預估: 奈米轉印技術應用領域相當廣泛，包括生醫元件、光電顯示器、資料儲存媒體以及奈米電子等領域；國際半導體技術藍圖（ITRS）已於2003年正式將轉印微影技術（Imprint Lithography）列為下...
微慣性感測技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 自由度：3維解析度：400CPI \| 潛力預估: 若能達成高解析度的滑鼠開發，將有機會成為電腦輸入裝置的另一種選擇。
微霧化器	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 霧化粒徑SMD \| 潛力預估: 本技術的研發，將有助於國內吸入式藥物傳輸系統的發展，同時也促使國內在微機電相關產業之週邊技術的建立，以提高我國在生技與醫療器材領域的競爭力。
微均熱片	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 均熱片尺寸：30x30x2 mm 可耐熱通密度：100w/cm2 可耐熱功率：>50W \| 潛力預估: 製造技術可完全自行掌握，規格達國際水準，具市場競爭力。
TFT ARRAY製造設備技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 定位精度：±20mm \| 潛力預估: 未來若完成電極圖案新製程設備，可大幅節省設備投資，市場需求大。
TFT CELL製造設備技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能： >10-5 J/m2 \| 潛力預估: 非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。
前瞻性顯示器設備技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 捲繞速度：15~30m/min ‧ 張力誤差： ± 10％ ‧ 速度誤差：± 10％ \| 潛力預估: 軟性顯示器是未來顯示器發展之趨勢，本技術可整合應用於軟板製程設備中，未來市場應用範圍極為廣泛。
平面顯示器瑕疵檢測系統整合應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1. 檢測物： TFT-LCD彩色濾光片、素玻璃 2. 元件大小： 680 mm X 880 mm 3. 檢測速率： 15000 mm2／秒 4. 最小瑕疵： 20μm \| 潛力預估: 技術應用領域可擴大至LCD其他元件的瑕疵檢測
線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工，為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動，配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 \| 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術，2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台，年產值達18億元以上，在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機，並且...
放電加工創成控制器應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 \| 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案，應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求，使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。