Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術的執行單位是中科院材料所, 產出年度是102, 計畫名稱是奈米材料及製程技術發展第二期計畫, 技術規格是進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。, 潛力預估是結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。.

序號6082
產出年度102
技術名稱-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。
潛力預估結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233 四所四組王偉洪
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址http://a
所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備
需具備之專業人才化學、材料、生化、化工
同步更新日期2023-07-22

序號

6082

產出年度

102

技術名稱-中文

Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

奈米材料及製程技術發展第二期計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。

潛力預估

結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。

聯絡人員

王偉洪

電話

03-4712201#358267

傳真

03-4458233 四所四組王偉洪

電子信箱

csist@csistdup.org.tw

參考網址

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所須軟硬體設備

溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備

需具備之專業人才

化學、材料、生化、化工

同步更新日期

2023-07-22

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# Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號5590
產出年度101
技術名稱-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。
潛力預估結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。
聯絡人員王偉洪
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所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備
需具備之專業人才化學、材料、生化、化工
序號: 5590
產出年度: 101
技術名稱-中文: Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。
潛力預估: 結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備
需具備之專業人才: 化學、材料、生化、化工

# Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號6940
產出年度103
技術名稱-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術。
執行單位中科院材料暨光電研究所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。
潛力預估結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233 四所四組王偉洪
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所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備
需具備之專業人才化學、材料、生化、化工
序號: 6940
產出年度: 103
技術名稱-中文: Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術。
執行單位: 中科院材料暨光電研究所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: 民生福祉
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備技術,,鍍膜呈黃色,進行抗菌性量測,抗菌性良好,與宏益玻璃科技公司,合作開發抗菌鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 進行Ag-SiO2奈米銀混成溶膠鍍膜,玻璃鍍膜呈黃色,符合我國奈米標章「TN-035 奈米銀抗俊菌衛生陶瓷器驗證規範」。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發Ag-SiO2奈米銀混成溶膠,進行奈米銀鍍膜抗菌玻璃與產品開發,可用於醫療產品、建築玻璃、汽車玻璃及光電顯示器面板等。
潛力預估: 結合光學鍍膜玻璃產品,開發具抗菌功能之溶膠光學鍍膜玻璃產品,包括抗反射、強反光、濾光、紫外線吸收、紅外線反射、可見光吸收及微波吸收等溶膠光學鍍膜玻璃。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233 四所四組王偉洪
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所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜及奈米銀抗菌量測設備
需具備之專業人才: 化學、材料、生化、化工
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# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號14590
產出年度103
領域別民生福祉
專利名稱-中文奈米撥水自潔雷達天線設施製法
執行單位中科院材料暨光電研究所
產出單位中科院化學研究所
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
專利發明人王偉洪、姚錦富、邱智謀
核准國家中華民國
獲證日期103/03/21
證書號碼發明第I430959號
專利期間起120/11/30
專利期間訖本發明為建立一光觸媒撥水材料,應用於雷達天線自潔功能,以提升天線之效能與耐用性。
專利性質發明
技術摘要-中文本發明為建立一光觸媒撥水材料,應用於雷達天線自潔功能,以提升天線之效能與耐用性。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201-358267
傳真03-4116381
電子信箱fungo6412@gmail.com
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 14590
產出年度: 103
領域別: 民生福祉
專利名稱-中文: 奈米撥水自潔雷達天線設施製法
執行單位: 中科院材料暨光電研究所
產出單位: 中科院化學研究所
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
專利發明人: 王偉洪、姚錦富、邱智謀
核准國家: 中華民國
獲證日期: 103/03/21
證書號碼: 發明第I430959號
專利期間起: 120/11/30
專利期間訖: 本發明為建立一光觸媒撥水材料,應用於雷達天線自潔功能,以提升天線之效能與耐用性。
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明為建立一光觸媒撥水材料,應用於雷達天線自潔功能,以提升天線之效能與耐用性。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201-358267
傳真: 03-4116381
電子信箱: fungo6412@gmail.com
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號5582
產出年度101
技術名稱-中文SiO2混成溶膠低折射率鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文研製SiO2混成溶膠,開發低折射率光學鍍膜溶膠,於玻璃及塑膠光學材料進行光學鍍膜,開發抗反射鍍膜產品。採用低折射率溶膠進行單層雙面抗反射鍍膜玻璃試製,用於太陽能電池保護玻璃罩,確實可提高太陽光穿透率及光電效率約1.0~3.0%。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格鍍膜折射率≦1.35,單層雙面抗反射鍍膜玻璃,最低反射率<2.0%,鍍膜硬度率≧3H。
技術成熟度試量產
可應用範圍用於光電產業,開發具抗反射鍍膜玻璃之平面電視螢幕、手機、PDA及太陽能板,降低太陽光反射率及提高光電產品可視度及太陽能板光電效率約1.0~3.0%。
潛力預估開發具抗反射鍍膜玻璃之平面電視螢幕、手機、PDA及太陽能板,預估未來市場具10億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
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參考網址
所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5582
產出年度: 101
技術名稱-中文: SiO2混成溶膠低折射率鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 研製SiO2混成溶膠,開發低折射率光學鍍膜溶膠,於玻璃及塑膠光學材料進行光學鍍膜,開發抗反射鍍膜產品。採用低折射率溶膠進行單層雙面抗反射鍍膜玻璃試製,用於太陽能電池保護玻璃罩,確實可提高太陽光穿透率及光電效率約1.0~3.0%。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 鍍膜折射率≦1.35,單層雙面抗反射鍍膜玻璃,最低反射率<2.0%,鍍膜硬度率≧3H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 用於光電產業,開發具抗反射鍍膜玻璃之平面電視螢幕、手機、PDA及太陽能板,降低太陽光反射率及提高光電產品可視度及太陽能板光電效率約1.0~3.0%。
潛力預估: 開發具抗反射鍍膜玻璃之平面電視螢幕、手機、PDA及太陽能板,預估未來市場具10億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
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所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號5583
產出年度101
技術名稱-中文TiO2混成溶膠高折射率鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文研製TiO2混成溶膠,開發高折射率光學鍍膜溶膠,於玻璃及塑膠光學材料進行光學鍍膜,開發反光鍍膜產品。採用高折射率混成溶膠,用於多層雙面抗反射鍍膜玻璃產品開發,提供廠商進行觸控螢幕光學鍍膜製作。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格鍍膜折射率≧1.70,單面高折射率鍍膜,消除透明導電觸控線路影像,提高觸控面板品質,鍍膜硬度率≧H。
技術成熟度試量產
可應用範圍用於光電產業,開發觸控螢幕背光光學鍍膜製作。
潛力預估開發平面電視螢幕、手機、PDA觸控螢幕背光光學鍍膜,預估市場具1億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
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參考網址
所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5583
產出年度: 101
技術名稱-中文: TiO2混成溶膠高折射率鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 研製TiO2混成溶膠,開發高折射率光學鍍膜溶膠,於玻璃及塑膠光學材料進行光學鍍膜,開發反光鍍膜產品。採用高折射率混成溶膠,用於多層雙面抗反射鍍膜玻璃產品開發,提供廠商進行觸控螢幕光學鍍膜製作。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 鍍膜折射率≧1.70,單面高折射率鍍膜,消除透明導電觸控線路影像,提高觸控面板品質,鍍膜硬度率≧H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 用於光電產業,開發觸控螢幕背光光學鍍膜製作。
潛力預估: 開發平面電視螢幕、手機、PDA觸控螢幕背光光學鍍膜,預估市場具1億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號5584
產出年度101
技術名稱-中文奈米Sb doped SnO2混成溶膠紅外線吸收鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發奈米Sb doped SnO2混成溶膠,Sb doped SnO2粒徑
技術現況敘述-英文(空)
技術規格玻璃板兩層雙面鍍膜,導電度可達kΩ/□等級,雙面ATO鍍膜玻璃,可降低熱幅射穿透率≧50%,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發觸控面板用於光電產業,開發隔熱玻璃用於建築產業,開發抗靜電玻璃用於半導體產業。
潛力預估開發觸控面板用於平面電視螢幕、手機、PDA,預估市場具1億年產值。開發隔熱玻璃用於建築產業,預估市場具2億年產值。開發抗靜電玻璃用於半導體產業,預估市場具1億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5584
產出年度: 101
技術名稱-中文: 奈米Sb doped SnO2混成溶膠紅外線吸收鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發奈米Sb doped SnO2混成溶膠,Sb doped SnO2粒徑
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 玻璃板兩層雙面鍍膜,導電度可達kΩ/□等級,雙面ATO鍍膜玻璃,可降低熱幅射穿透率≧50%,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發觸控面板用於光電產業,開發隔熱玻璃用於建築產業,開發抗靜電玻璃用於半導體產業。
潛力預估: 開發觸控面板用於平面電視螢幕、手機、PDA,預估市場具1億年產值。開發隔熱玻璃用於建築產業,預估市場具2億年產值。開發抗靜電玻璃用於半導體產業,預估市場具1億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
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所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號5585
產出年度101
技術名稱-中文Fe2O3/TiO2、Ce2O3/TiO2 混成溶膠紫外線吸收鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發Fe2O3/TiO2、Ce2O3/TiO2 混成溶膠,進行玻璃鍍膜500℃燒結,獲得紫外線吸收鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格單層雙面鍍膜玻璃,紫外線吸收率可達70%,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發紫外線吸收鍍膜玻璃,用於建築玻璃及汽車玻璃。
潛力預估開發紫外線吸收鍍膜玻璃,用於建築玻璃及汽車玻璃,預估市場具1億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5585
產出年度: 101
技術名稱-中文: Fe2O3/TiO2、Ce2O3/TiO2 混成溶膠紫外線吸收鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發Fe2O3/TiO2、Ce2O3/TiO2 混成溶膠,進行玻璃鍍膜500℃燒結,獲得紫外線吸收鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 單層雙面鍍膜玻璃,紫外線吸收率可達70%,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發紫外線吸收鍍膜玻璃,用於建築玻璃及汽車玻璃。
潛力預估: 開發紫外線吸收鍍膜玻璃,用於建築玻璃及汽車玻璃,預估市場具1億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號5586
產出年度101
技術名稱-中文奈米金Au-SiO2-TiO2混成溶膠可見光吸收鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行玻璃鍍膜,獲得不同SiO2/TiO2比Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行溶膠光學鍍膜,獲得淡紅、紅、紫、靛、藍等透明彩色鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格獲得SiO2/TiO2比例為0/1、1/3、2/2、3/1、1/0之奈米金Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行玻璃單層雙面鍍膜,獲得透明彩色鍍膜玻璃,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發奈米金透明彩色鍍膜玻璃,用於觸控面板、建築玻璃及汽車玻璃。
潛力預估開發奈米金透明彩色鍍膜玻璃,用於觸控面板具抗菌功能,預估市場具2億年產值。用於建築玻璃及汽車玻璃,預估市場具1億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備溶膠製備、鍍膜及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5586
產出年度: 101
技術名稱-中文: 奈米金Au-SiO2-TiO2混成溶膠可見光吸收鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行玻璃鍍膜,獲得不同SiO2/TiO2比Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行溶膠光學鍍膜,獲得淡紅、紅、紫、靛、藍等透明彩色鍍膜玻璃。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 獲得SiO2/TiO2比例為0/1、1/3、2/2、3/1、1/0之奈米金Au-SiO2-TiO2混成溶膠,進行玻璃單層雙面鍍膜,獲得透明彩色鍍膜玻璃,鍍膜硬度≧3H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發奈米金透明彩色鍍膜玻璃,用於觸控面板、建築玻璃及汽車玻璃。
潛力預估: 開發奈米金透明彩色鍍膜玻璃,用於觸控面板具抗菌功能,預估市場具2億年產值。用於建築玻璃及汽車玻璃,預估市場具1億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
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所須軟硬體設備: 溶膠製備、鍍膜及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號5587
產出年度101
技術名稱-中文奈米Sn doped In2O3混成溶膠透明微波吸收鍍膜玻璃製作
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發奈米Sn doped In2O3混成溶膠,Sb doped SnO2粒徑
技術現況敘述-英文(空)
技術規格玻璃板兩層雙面鍍膜,導電度可達100 Ω/□等級,微波吸收率>50%,鍍膜硬度率≧3H。
技術成熟度試量產
可應用範圍開發透明微波吸收鍍膜玻璃,用於手機觸控面板、隔熱玻璃、抗微波玻璃製作。
潛力預估開發透明微波吸收鍍膜玻璃,用於手機觸控面板,預估市場具2億年產值。開發建築玻璃及汽車玻璃隔熱及抗微波,預估市場具2億年產值。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
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所須軟硬體設備溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才化工、材料、機械、化學
序號: 5587
產出年度: 101
技術名稱-中文: 奈米Sn doped In2O3混成溶膠透明微波吸收鍍膜玻璃製作
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發奈米Sn doped In2O3混成溶膠,Sb doped SnO2粒徑
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 玻璃板兩層雙面鍍膜,導電度可達100 Ω/□等級,微波吸收率>50%,鍍膜硬度率≧3H。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 開發透明微波吸收鍍膜玻璃,用於手機觸控面板、隔熱玻璃、抗微波玻璃製作。
潛力預估: 開發透明微波吸收鍍膜玻璃,用於手機觸控面板,預估市場具2億年產值。開發建築玻璃及汽車玻璃隔熱及抗微波,預估市場具2億年產值。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
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所須軟硬體設備: 溶膠製備、溶膠光學鍍膜技術及光學量測設備
需具備之專業人才: 化工、材料、機械、化學

# 03-4712201 358267 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號5588
產出年度101
技術名稱-中文WO3奈米結晶溶膠製備技術。
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文奈米WO3溶膠製備技術,粒徑
技術現況敘述-英文(空)
技術規格用於室內奈米觸媒塗料,具空氣清淨功效,其光觸媒可見光乙酸丁酯分解速率可達0.003(min×WL×gcat)-1。
技術成熟度試量產
可應用範圍具可見光光觸媒功能,用於室內奈米觸媒塗料,具空氣清淨功效。
潛力預估用於廢氣處理觸媒製備用材料,增加廢氣處理能力,降低廢氣處理溫度。
聯絡人員王偉洪
電話03-4712201#358267
傳真03-4458233
電子信箱csist@csistdup.org.tw
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所須軟硬體設備奈米結晶半導體溶膠製備、量測、鍍膜、產品製作及觸媒功能測試設備
需具備之專業人才化學、觸媒、化工
序號: 5588
產出年度: 101
技術名稱-中文: WO3奈米結晶溶膠製備技術。
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 奈米WO3溶膠製備技術,粒徑
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 用於室內奈米觸媒塗料,具空氣清淨功效,其光觸媒可見光乙酸丁酯分解速率可達0.003(min×WL×gcat)-1。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 具可見光光觸媒功能,用於室內奈米觸媒塗料,具空氣清淨功效。
潛力預估: 用於廢氣處理觸媒製備用材料,增加廢氣處理能力,降低廢氣處理溫度。
聯絡人員: 王偉洪
電話: 03-4712201#358267
傳真: 03-4458233
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
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所須軟硬體設備: 奈米結晶半導體溶膠製備、量測、鍍膜、產品製作及觸媒功能測試設備
需具備之專業人才: 化學、觸媒、化工
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與Ag-SiO2奈米銀混成溶膠製備與應用技術同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

MPEG-2錄放影系統

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Embedded System Architecture -32-Bit x86 SoC. -Embedded Linux OS. -Internet accessing. ‧Video Signa... | 潛力預估: 根據Frost&Sullivan一份最新的預估顯示,未來安全監控產業每年的平均成長率至少可達12~15%左右。

人體/人臉掃描量測

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧掃描範圍:高:1900mm,寬:1000mm,深度:850mm。 ‧掃描速度:8秒完成全身掃描。 ‧ 解析度:4mm(垂直),1mm(深度)。 ‧ 樑測精度:1mm。 | 潛力預估: 此技術可以廣泛應用在醫療、美容及服飾相關領域,作為其服務的前端輸入及後端驗證,並可藉此技術建立所需之資料庫,供更多領域應用。目前已經可以作小型輕量化的產品設計,更適合ㄧ般門市商店的科技服務應用。

3D照相機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 量測面積:360mm * 240mm ‧ 量測精度:±0.15mm ‧ 量測解析度:1.2mm ‧ 取像速度:0.2 sec/frame | 潛力預估: 由於價格極具競爭力,可成為製作客製化商品之廠商(例如雷射內雕、人像雕刻等)之快速建模工具,降低廠商成本負擔。另外可運用於數位典藏,輔助建構擬真模型,可用於虛擬博物館中典藏品展示。

3D模型建構技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧視窗操作介面:平移、放大、縮小及任意視角顯示。 ‧3D資料編輯工具:如資料平滑化、雜訊濾除、破洞填補、細分割、特徵強化等 ‧資料壓縮與重整。 ‧3D資料疊合與整合。 ‧材質整合與編輯:色彩整合、調整... | 潛力預估: 相較於ㄧ般價格昂貴的3D點群處理套裝軟體,TriD提供物超所值的功能,例如可擴充的特徵線處理功能,絕非大型套裝軟體所及,更可針對各產業的需求發展出特有功能,不失為小而美的CAD精品。

可攜式3D掃描器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧量測面積:200mm×200mm~300mm×300mm。 ‧量測精度:±0.1mm。 ‧掃描速度:60lines/sec。 | 潛力預估: 從傳統工業應用到最熱門之3D遊戲、動畫、製作,可攜式3D掃描器應用範圍廣泛,是目前彩色3D量測中最具精確度的系統。尤其多台組合後,可以同步控制作特殊的量測用途。

高速光傳接模組技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧1.25Gigabit Ethernet Transceiver:單模/Output Power>-11dBm.Sensitivity-10dBm.Sensitivity-8dBm.Sensitiv... | 潛力預估: 將可與國際模組廠商作技術競爭並符合國際系統廠商規格同時將參與國際光通訊規格制定。

高速光電元件技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 符合2.5Gigabit Ethernet要求。 ‧ 符合Bellcore 468元件環測要求。 | 潛力預估: 因應將來FTTX時機的到來,會對LD與PIN的市場需求量大增,故應提昇培養技術成熟度與量產的技巧,以符合未來市場或技轉的要求。

摻鉺光纖放大器製作技術 (Erbium-Doped Fiber Amplifier Assembling Technology)

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Operation Wavelength:1530~1560nm. ‧ Input Power:-20dBm*16chs. ‧ Gain:>22Db. ‧ Gain Stability: | 潛力預估: 將開發寬頻光放大器及小型化技術以增加放大頻寬,強化光放大器產業,支援關鍵性技術開發,以發展Metro/Access網路環境技術。

微光機電技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 1x2/2x2 MEMS Switch Insertion Loss:0.8dB max. Switching time | 潛力預估: 具高精密、批量生產及低成本之優勢,為未來製程發展之趨勢。

高速光發射、接收次模組封裝技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Low cost TO-Can Package ‧ Uncooled 1310nm DFB TOSA ‧ 10km transmission ‧ SC/LC receptacle package ... | 潛力預估: 由於TO-Can 封裝為國內光通訊光電元件封裝技術中最成熟之技術,本技術若結合廠商生產能力,將可大幅降低10Gb/s光電元件封裝製作成本。

平面光波導對準封裝技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Single Fiber/Fiber Array Block (FAB) to Waveguide Alignment ‧ Automatic Search and Optimization ‧ ... | 潛力預估: 本技術可快速且精準的完成耦光對準及填膠固化,並可通過環境測試,極具市場潛力。

波長鎖定器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Channel Spacing : 50 or 100 GHz ‧ Center Wavelength : ITU grid (1520nm~1570nm) ‧ Wavelength stabil... | 潛力預估: 未來光通訊系統進入CDWM與DWDM時,此元件將為不可或缺之關鍵元件。

高功率Pump雷射耦合器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Center Wavelength : 1480nm ‧ Center Wavelength Range : ±40nm ‧ Insertion Loss : 55dB ‧ Directivity... | 潛力預估: 未來光通訊系統進入CDWM與DWDM時,此元件將為不可或缺之關鍵元件。

光纖陣列接頭製作及測試技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Fiber Array Block ‧ FAB Pitch Accuracy ≦ ±0.5 mm ‧ FAB Height Accuracy ≦ ±0.5 mm ‧ Fiber Number: 1, ... | 潛力預估: 以多芯束光纖輸出之光通訊元件封裝為未來趨勢,而光纖陣列接頭為其主要原件,具有不可取代之地位。

非溫控高速雷射技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: FP LD ‧ BW>10Gb/s. ‧ Low threshold6mW(bais at 35mA) ‧ To>85K DFB LD ‧ SMSR>30dB. ‧ BW>10Gb/s ‧ To>... | 潛力預估: 高速非溫控FP LD可廣泛的應用在10Gb Ethernet access端,而DFB雷射則可應用在metro端。由於其不需溫度控制器,使得設置費大幅下降,故有利於市場拓展,此項技術亦為目前市場上積...

MPEG-2錄放影系統

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Embedded System Architecture -32-Bit x86 SoC. -Embedded Linux OS. -Internet accessing. ‧Video Signa... | 潛力預估: 根據Frost&Sullivan一份最新的預估顯示,未來安全監控產業每年的平均成長率至少可達12~15%左右。

人體/人臉掃描量測

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧掃描範圍:高:1900mm,寬:1000mm,深度:850mm。 ‧掃描速度:8秒完成全身掃描。 ‧ 解析度:4mm(垂直),1mm(深度)。 ‧ 樑測精度:1mm。 | 潛力預估: 此技術可以廣泛應用在醫療、美容及服飾相關領域,作為其服務的前端輸入及後端驗證,並可藉此技術建立所需之資料庫,供更多領域應用。目前已經可以作小型輕量化的產品設計,更適合ㄧ般門市商店的科技服務應用。

3D照相機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 量測面積:360mm * 240mm ‧ 量測精度:±0.15mm ‧ 量測解析度:1.2mm ‧ 取像速度:0.2 sec/frame | 潛力預估: 由於價格極具競爭力,可成為製作客製化商品之廠商(例如雷射內雕、人像雕刻等)之快速建模工具,降低廠商成本負擔。另外可運用於數位典藏,輔助建構擬真模型,可用於虛擬博物館中典藏品展示。

3D模型建構技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧視窗操作介面:平移、放大、縮小及任意視角顯示。 ‧3D資料編輯工具:如資料平滑化、雜訊濾除、破洞填補、細分割、特徵強化等 ‧資料壓縮與重整。 ‧3D資料疊合與整合。 ‧材質整合與編輯:色彩整合、調整... | 潛力預估: 相較於ㄧ般價格昂貴的3D點群處理套裝軟體,TriD提供物超所值的功能,例如可擴充的特徵線處理功能,絕非大型套裝軟體所及,更可針對各產業的需求發展出特有功能,不失為小而美的CAD精品。

可攜式3D掃描器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧量測面積:200mm×200mm~300mm×300mm。 ‧量測精度:±0.1mm。 ‧掃描速度:60lines/sec。 | 潛力預估: 從傳統工業應用到最熱門之3D遊戲、動畫、製作,可攜式3D掃描器應用範圍廣泛,是目前彩色3D量測中最具精確度的系統。尤其多台組合後,可以同步控制作特殊的量測用途。

高速光傳接模組技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧1.25Gigabit Ethernet Transceiver:單模/Output Power>-11dBm.Sensitivity-10dBm.Sensitivity-8dBm.Sensitiv... | 潛力預估: 將可與國際模組廠商作技術競爭並符合國際系統廠商規格同時將參與國際光通訊規格制定。

高速光電元件技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 符合2.5Gigabit Ethernet要求。 ‧ 符合Bellcore 468元件環測要求。 | 潛力預估: 因應將來FTTX時機的到來,會對LD與PIN的市場需求量大增,故應提昇培養技術成熟度與量產的技巧,以符合未來市場或技轉的要求。

摻鉺光纖放大器製作技術 (Erbium-Doped Fiber Amplifier Assembling Technology)

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Operation Wavelength:1530~1560nm. ‧ Input Power:-20dBm*16chs. ‧ Gain:>22Db. ‧ Gain Stability: | 潛力預估: 將開發寬頻光放大器及小型化技術以增加放大頻寬,強化光放大器產業,支援關鍵性技術開發,以發展Metro/Access網路環境技術。

微光機電技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 1x2/2x2 MEMS Switch Insertion Loss:0.8dB max. Switching time | 潛力預估: 具高精密、批量生產及低成本之優勢,為未來製程發展之趨勢。

高速光發射、接收次模組封裝技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Low cost TO-Can Package ‧ Uncooled 1310nm DFB TOSA ‧ 10km transmission ‧ SC/LC receptacle package ... | 潛力預估: 由於TO-Can 封裝為國內光通訊光電元件封裝技術中最成熟之技術,本技術若結合廠商生產能力,將可大幅降低10Gb/s光電元件封裝製作成本。

平面光波導對準封裝技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Single Fiber/Fiber Array Block (FAB) to Waveguide Alignment ‧ Automatic Search and Optimization ‧ ... | 潛力預估: 本技術可快速且精準的完成耦光對準及填膠固化,並可通過環境測試,極具市場潛力。

波長鎖定器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Channel Spacing : 50 or 100 GHz ‧ Center Wavelength : ITU grid (1520nm~1570nm) ‧ Wavelength stabil... | 潛力預估: 未來光通訊系統進入CDWM與DWDM時,此元件將為不可或缺之關鍵元件。

高功率Pump雷射耦合器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Center Wavelength : 1480nm ‧ Center Wavelength Range : ±40nm ‧ Insertion Loss : 55dB ‧ Directivity... | 潛力預估: 未來光通訊系統進入CDWM與DWDM時,此元件將為不可或缺之關鍵元件。

光纖陣列接頭製作及測試技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Fiber Array Block ‧ FAB Pitch Accuracy ≦ ±0.5 mm ‧ FAB Height Accuracy ≦ ±0.5 mm ‧ Fiber Number: 1, ... | 潛力預估: 以多芯束光纖輸出之光通訊元件封裝為未來趨勢,而光纖陣列接頭為其主要原件,具有不可取代之地位。

非溫控高速雷射技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: FP LD ‧ BW>10Gb/s. ‧ Low threshold6mW(bais at 35mA) ‧ To>85K DFB LD ‧ SMSR>30dB. ‧ BW>10Gb/s ‧ To>... | 潛力預估: 高速非溫控FP LD可廣泛的應用在10Gb Ethernet access端,而DFB雷射則可應用在metro端。由於其不需溫度控制器,使得設置費大幅下降,故有利於市場拓展,此項技術亦為目前市場上積...

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