一種在多晶氮化鋁基板上製作高深寬比圖案的方法
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技術名稱-中文一種在多晶氮化鋁基板上製作高深寬比圖案的方法的執行單位是中科院化學研究所, 產出年度是105, 計畫名稱是ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫, 領域是綠能科技, 技術規格是微穿孔製程，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。, 潛力預估是透過開發氮化鋁中介層技術可解決現今薄型化3DIC先進導通孔電路製程與封裝技術中遇到之漏電、雜訊、高頻干擾、熱源集中等問題，並滿足未來市場於高頻通訊元件、高功率模組等薄型化、高效率、智慧多功能以及低成本之多重需求。.

序號	8375
產出年度	105
技術名稱-中文	一種在多晶氮化鋁基板上製作高深寬比圖案的方法
執行單位	中科院化學研究所
產出單位	(空)
計畫名稱	ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫
領域	綠能科技
已申請專利之國家	台灣、美國、日本
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本發明藉由使用一能量束在阻障層上直接製作圖案，再利用電漿蝕刻的方式蝕刻氮化鋁基板，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	微穿孔製程，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	可應用於高頻通訊元件、高功率模組等：另外將有助於開發綠能關鍵元件，如LED、高功率照明等，並提升元件的信賴度。
潛力預估	透過開發氮化鋁中介層技術可解決現今薄型化3DIC先進導通孔電路製程與封裝技術中遇到之漏電、雜訊、高頻干擾、熱源集中等問題，並滿足未來市場於高頻通訊元件、高功率模組等薄型化、高效率、智慧多功能以及低成本之多重需求。
聯絡人員	郭養國
電話	03-4712201#358271
傳真	03-4116381
電子信箱	ykkuo2002@yahoo.com.tw
參考網址	http://www.ncsist.org.tw/csistdup/main/Default.aspx
所須軟硬體設備	黃光室、雷射、乾濕蝕刻以及濺鍍機台。
需具備之專業人才	化學、半導體相關人才。
同步更新日期	2024-09-03

序號

8375

產出年度

105

技術名稱-中文

一種在多晶氮化鋁基板上製作高深寬比圖案的方法

執行單位

中科院化學研究所

產出單位

(空)

計畫名稱

ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫

領域

綠能科技

已申請專利之國家

台灣、美國、日本

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本發明藉由使用一能量束在阻障層上直接製作圖案，再利用電漿蝕刻的方式蝕刻氮化鋁基板，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

微穿孔製程，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

可應用於高頻通訊元件、高功率模組等：另外將有助於開發綠能關鍵元件，如LED、高功率照明等，並提升元件的信賴度。

潛力預估

透過開發氮化鋁中介層技術可解決現今薄型化3DIC先進導通孔電路製程與封裝技術中遇到之漏電、雜訊、高頻干擾、熱源集中等問題，並滿足未來市場於高頻通訊元件、高功率模組等薄型化、高效率、智慧多功能以及低成本之多重需求。

聯絡人員

郭養國

電話

03-4712201#358271

傳真

03-4116381

電子信箱

ykkuo2002@yahoo.com.tw

參考網址

http://www.ncsist.org.tw/csistdup/main/Default.aspx

所須軟硬體設備

黃光室、雷射、乾濕蝕刻以及濺鍍機台。

需具備之專業人才

化學、半導體相關人才。

同步更新日期

2024-09-03

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一種改善氮化鋁基板與銅鍍層之界面應力的結構	執行單位: 中科院化學研究所 \| 產出年度: 105 \| 產出單位: \| 計畫名稱: ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫 \| 領域: 綠能科技 \| 技術規格: 視需求而定 \| 潛力預估: 有效提升氮化鋁基板的可靠度 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
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CD/DVD ROM/R/RW讀寫系統驗證板	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ．ALL 1~4xS servo functions. ．讀寫伺服整合技術. ．Write Channel技術. ．Digital Servo DSP Firmware. ．DATA PLL C... \| 潛力預估: 讀寫技術與市場同步，可提供國內晶片業者加速其研發腳步。
DVD Player系統整合	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 適用CD Audio、VCD、SVCD、DVD Video、MP3、CD-R、CD-RW碟片。 \| 潛力預估: 市場已成熟，可朝向車用型系統發展，具市場潛力。
高倍速DVD-ROM光碟機系統整合	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 適用CD Audio、VCD、SVCD、DVD Video、MP3、CD-R、CD-RW碟片。 \| 潛力預估: SlimType技術門檻高，應用廣泛，具市場潛力。
CD-R/RW光碟機系統整合	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧48X CD-R寫入 ‧24X CD-RW覆寫 ‧48X讀取能力 \| 潛力預估: 技術門檻高，同時燒錄技術應用範圍廣，市場潛力無窮。
HD-DVD/DVD±RW光碟片	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 碟片符合DVD+RW規格。 ‧ 碟片符合DVD-RW規格。 \| 潛力預估: 可調整各層材料，降低碟片成本。8x~12x DVD±RW Disc開發。
HD-DVD/DVD-R光碟片	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ．染料純度>98% ．碟片符合4.7GB ,DVD-R Book \| 潛力預估: OES擁有全套之DVD-R製程測試能力及新型高感度，適用於高倍速之染料。目前已開發出數支HD-DVD-R染料，碟片正在開發中，並已完成8X~16X DVD-R開發。可規避染料權利金，並降低碟片成本...
SD Card/SD Host/SD IO驗證測試	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 依據SDA發行之規格書與測試規範執行。 \| 潛力預估: 在2004年SD Card 的銷售量以極快的成長速度超越了其他規格記憶卡的銷售量，而SDA 正式會員已經達796家(台灣廠商約佔179家)，全球廠商此刻均積極投入SD相關產品的研發與生產，SD相關應...
DVD影音碟片編輯系統	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 依據DVD Video Disc規格書執行 \| 潛力預估: 預估年產值：100億。
多功能影音光碟即時錄影技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 依據各種影音光碟之規格書執行。 \| 潛力預估: 預估年產值：100億。
高畫質影/音播放系統	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: Video 解析度:1280x720x24p 1280x720x30p 720x480x60i 720x575x50i 320x240x60i 352x288x50i \| 潛力預估: 預估年產值：100億。
鏡頭模組致動設計與控制技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 線性傳動致動模組之設計 ‧ 線性傳動致動模組之回授控制 ‧ 線性傳動致動模組之實驗與驗證平台架設 \| 潛力預估: ‧預估2007年手機相機產量34,500萬台(IEK-ITIS)。 ‧預估2007年數位相機(DSC)產量9,200萬台(TI website)。 ‧預估2008年攝影機(camcorder)產量3,...
無刷馬達無感測器驅動IC設計	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 電力模組(power stage)設計 ‧ 定位、開路啟動、閉路加速、閉路定速四個驅動程序設計。 ‧ 限流(current limit)、煞車(brake)、脈波調變(PWM)驅動。 \| 潛力預估: 除硬碟機主軸馬達早都改用無感測器方式驅動，現今筆記型電腦用光碟機或掌上型光碟機的主軸馬達也慢慢有這樣的趨勢。
彩色多功能噴墨事務機系統	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ADF：20pages。 ‧掃描方式：Color CCD。 ‧文稿實度：148~218mm。 ‧列印解析度：2400(H)×1200dpi(V)。 ‧列印速度：17ppm(Black；Draft)、... \| 潛力預估: 多功能事務機在市場價格日漸降低的同時，正顯示其潛力正日漸上漲中，預期至2004年產量可達1,370萬台，成長為12.85%。
噴墨印表機／傳真機ASIC開發技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧工作頻率：48MHz。 ‧資料匯流排：32位元。 ‧電源：3.3V。 ‧DRAM控制電路：最大可控制8MB。 ‧適用噴墨頭：HP51645、C1823，Lexmark12A1970、15M0120等... \| 潛力預估: 噴墨印表機價格低廉，又可滿足彩色化的列印，使用噴墨印表機來作相片的列印，受到個人及家庭市場的喜愛，且市場規模龐大，已成為市場銷售的主力產品；預計2006年產量可達6,735萬台，複合年成長率為3.2%...
單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧解析度：300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積：5pl~120pl。 ‧工作頻率：5~12KHZ(單色)：3~18KHZ(彩色)。 \| 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元，持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎，開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...