具傾角之疊瓦式複合材料管件之製造方法
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專利名稱-中文具傾角之疊瓦式複合材料管件之製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是201585, 專利性質是發明, 執行單位是中科院材料所, 產出年度是93, 計畫名稱是關鍵元件材料開發及應用四年計畫, 專利發明人是盧志勤,章俊文,林進龍,黃茂益.

序號	313
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	具傾角之疊瓦式複合材料管件之製造方法
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	關鍵元件材料開發及應用四年計畫
專利發明人	盧志勤 \| 章俊文 \| 林進龍 \| 黃茂益
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	201585
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本創作係一種複材管件結構改良，使該複材管件結構達到耐2000度高溫功能。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林威璋
電話	03-4712201#357034
傳真	(空)
電子信箱	(空)
參考網址	(空)
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號

313

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

具傾角之疊瓦式複合材料管件之製造方法

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

關鍵元件材料開發及應用四年計畫

專利發明人

盧志勤 | 章俊文 | 林進龍 | 黃茂益

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

201585

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本創作係一種複材管件結構改良，使該複材管件結構達到耐2000度高溫功能。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

林威璋

電話

03-4712201#357034

傳真

(空)

電子信箱

(空)

參考網址

(空)

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

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中空的拉擠成型之碳纖維複材光學游標尺之游標桿	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M497767 \| 專利期間起: 104/03/21 \| 專利期間訖: 113/12/11 \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 材料與化工領域-軍品科技創新應用與釋商計畫 \| 專利發明人: 黃鼎貴 \| 鄭念義 \| 何肇崇 \| 何健營 \| 朱中義 \| 莊達平 @ 技術司專利資料集
金屬飛輪進動機構開發	執行單位: 中科院航空所 \| 產出年度: 100 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 傳統產業高值化應用計畫 \| 領域: \| 技術規格: 飛輪電源：220V 單向；變頻器控制電源：110V；馬達功率：4000W；馬達馬力：5HP；馬答空轉：7500rpm；飛輪最高轉速：5600rpm \| 潛力預估: 遊艇 @ 技術司可移轉技術資料集
翼翅複材內部結構	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 材料與化工領域軍品釋商第三期計畫 \| 領域: \| 技術規格: 骨架組、縱樑之DMA玻璃轉化點Tg≧120℃、樹脂含量為36±5%、彎曲強度≧56 kgf/mm2及CAI測試≧14 kgf/mm2 \| 潛力預估: 量產 @ 技術司可移轉技術資料集
大型輕量化量具研製	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 102 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 材料與化工領域-軍品科技創新應用與釋商計畫 \| 領域: \| 技術規格: 長1m游標卡尺本體試製，尺寸精度達到平行度≦0.04mm/m、平面度≦0.02mm/m。 \| 潛力預估: 建立國內大型輕量化量具技術與校驗能量，促進國內精密量具產業供應鏈的形成。 @ 技術司可移轉技術資料集
大型輕量化量具研製	執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 103 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 材料與化工領域-軍品科技創新應用與釋商計畫 \| 領域: 民生福祉 \| 技術規格: 長1.5m游標卡尺本體試製，尺寸精度達到平行度≦0.04mm/m、平面度≦0.02mm/m。 \| 潛力預估: 建立國內大型輕量化量具技術與校驗能量，促進國內精密量具產業供應鏈的形成。 @ 技術司可移轉技術資料集
一種複合材料層間剪強度測試裝置及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第I328681號 \| 專利期間起: 1999/8/11 \| 專利期間訖: 115/12/11 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 材料與化工領域軍品釋商第三期計畫 \| 專利發明人: 莊達平 \| 李山 \| 孫士璋 \| 葛光祥 @ 技術司專利資料集
一種單人量測操作輔助裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M504234 \| 專利期間起: 104/07/01 \| 專利期間訖: 113/12/09 \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 中科院軍民通用中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 材料與化工領域-軍品科技創新應用與釋商計畫 \| 專利發明人: 朱中義 \| 何肇崇 \| 何健營 \| 黃茂益 \| 莊達平 \| 陳偉忠 \| 孫士璋 \| 王正煥 @ 技術司專利資料集
複材管件結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M 248593 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 關鍵元件材料開發及應用四年計畫 \| 專利發明人: 莫文偉 \| 卓錫樑 \| 王正煥 \| 孫士璋 \| 葛光祥 \| 黃鼎貴 @ 技術司專利資料集

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一種單人量測操作輔助裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M504234 | 專利期間起: 104/07/01 | 專利期間訖: 113/12/09 | 專利性質: 新型 | 執行單位: 中科院軍民通用中心 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 材料與化工領域-軍品科技創新應用與釋商計畫 | 專利發明人: 朱中義 | 何肇崇 | 何健營 | 黃茂益 | 莊達平 | 陳偉忠 | 孫士璋 | 王正煥

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具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206598 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋 \| 翁逸君 \| 劉康弘 \| 范揚宜
橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206589 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 賴志明 \| 范揚宜 \| 許家榮 \| 陳慶逸
測試蝕刻速率的結構及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197248 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏 \| 顏凱翔 \| 王欽宏 \| 梁兆鈞 \| 陳玉華
微通道流體導引元件	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188284 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁 \| 吳志文 \| 姚南光 \| 龐紹華 \| 郭遠峰
微通道流體導引元件	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6725882 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁 \| 吳志文 \| 姚南光 \| 龐紹華 \| 郭遠峰
薄膜電晶體的結構、其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198288 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林炯暐 \| 葉永輝
移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220255 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任 \| 陳尚立 \| 王博文 \| 林展瑞
電容屏蔽結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 192543 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明 \| 陳昌昇 \| 吳俊昆 \| 魏培森 \| 翁卿亮 \| 賴穎俊
溝槽式金氧半電晶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 202861 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 許志維 \| 李永忠 \| 潘宗銘 \| 卓言
有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200178 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周維揚 \| 鄭弘隆 \| 賴志明 \| 廖奇璋
直下式背光模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200905 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 詹景翔 \| 蕭名君 \| 劉康弘 \| 林偉義
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198431 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6757189 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘
改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189045 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 江欣峻 \| 何璨佑 \| 許家榮
多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189620 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 莊世瑋 \| 鍾震桂 \| 陳仲竹

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產出單位

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專利發明人

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獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

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