液晶顯示器的彩色濾光片
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文液晶顯示器的彩色濾光片的核准國家是美國, 執行單位是工研院光電所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院通訊與光電領域環境建構計畫, 專利發明人是呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰, 證書號碼是6,703,173.

序號354
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文液晶顯示器的彩色濾光片
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱工研院通訊與光電領域環境建構計畫
專利發明人呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,703,173
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種液晶顯示器之彩色濾光片，其包括：一透明基材；以及一金屬層，位於該基材之上，該金屬層係由一體成形的第一階顏色層、第二階顏色層以及第三階顏色層所組成。本發明亦提供製造上述彩色濾光片之方法，其應用將金屬層氧化的原理，利用重複的曝光及氧化的步驟而得具有一體成形之不同顏色層的彩色濾光片。依需求而定，上述彩色濾光片還可包括常用於液晶顯示器之黑色矩陣(black matrix)。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員鄭必章
電話(06)5089053
傳真(空)
電子信箱chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

354

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

液晶顯示器的彩色濾光片

執行單位

工研院光電所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院通訊與光電領域環境建構計畫

專利發明人

呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6,703,173

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明揭示一種液晶顯示器之彩色濾光片，其包括：一透明基材；以及一金屬層，位於該基材之上，該金屬層係由一體成形的第一階顏色層、第二階顏色層以及第三階顏色層所組成。本發明亦提供製造上述彩色濾光片之方法，其應用將金屬層氧化的原理，利用重複的曝光及氧化的步驟而得具有一體成形之不同顏色層的彩色濾光片。依需求而定，上述彩色濾光片還可包括常用於液晶顯示器之黑色矩陣(black matrix)。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

鄭必章

電話

(06)5089053

傳真

(空)

電子信箱

chengbicha@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 液晶顯示器的彩色濾光片 於 經濟部產業技術司–專利資料集

序號353
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文液晶顯示器的彩色濾光片
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱工研院通訊與光電領域環境建構計畫
專利發明人呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼196458
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種液晶顯示器之彩色濾光片，其包括：一透明基材；以及一金屬層，位於該基材之上，該金屬層係由一體成形的第一階顏色層、第二階顏色層以及第三階顏色層所組成。本發明亦提供製造上述彩色濾光片之方法，其應用將金屬層氧化的原理，利用重複的曝光及氧化的步驟而得具有一體成形之不同顏色層的彩色濾光片。依需求而定，上述彩色濾光片還可包括常用於液晶顯示器之黑色矩陣(black matrix)。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員鄭必章
電話(06)5089053
傳真(空)
電子信箱chengbicha@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 353
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 液晶顯示器的彩色濾光片
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫
專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 196458
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭示一種液晶顯示器之彩色濾光片，其包括：一透明基材；以及一金屬層，位於該基材之上，該金屬層係由一體成形的第一階顏色層、第二階顏色層以及第三階顏色層所組成。本發明亦提供製造上述彩色濾光片之方法，其應用將金屬層氧化的原理，利用重複的曝光及氧化的步驟而得具有一體成形之不同顏色層的彩色濾光片。依需求而定，上述彩色濾光片還可包括常用於液晶顯示器之黑色矩陣(black matrix)。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: (06)5089053
傳真: (空)
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備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)
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# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號1215
產出年度94
技術名稱-中文噴墨法彩色濾光片
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術主要為利用噴墨方式，取代傳統的旋轉塗佈方法，將RGB彩色顏料溶液噴塗於玻璃基板上，再經由固化與平坦化製程，完成彩色濾光片的製作，突破現有製程的長製程、低顏料使用率等缺點，與傳統方法比較，此噴墨法可大幅降低設備成本、減少廢液與光阻材料成本、製程簡化為顏料分散法的1/3。具Water-base pigment ink完整驗証、CIE座標可達NTSC 60%以上、Pixel reolution 15” XGA standard、Pixel Size 279Nm×93Nm(each color)。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格像素大小：pitch 0.110mm×0.110mm或customer _x000D_design。顏色：RGB三色。耐熱性：250℃×1hr。耐化性：5% KOH, 40℃×10min; Acetone, 20℃×_x000D_30min; NMP, 20℃×30min。膜厚均勻值為1um±0.2um (customer-design)。穿透率：大於80%。
技術成熟度(空)
可應用範圍TFT LCD Color Filter、STN LCD Color Filter、PLED(Polymer LED)、OLED(Organic LED)等平面顯示器產業應用。
潛力預估噴墨法彩色濾光片製程/噴墨頭設計/設備整合技術，建立國內新一代科技技術自主開發能力，更可大幅降低耗材使用量。
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。
需具備之專業人才有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。
序號: 1215
產出年度: 94
技術名稱-中文: 噴墨法彩色濾光片
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本技術主要為利用噴墨方式，取代傳統的旋轉塗佈方法，將RGB彩色顏料溶液噴塗於玻璃基板上，再經由固化與平坦化製程，完成彩色濾光片的製作，突破現有製程的長製程、低顏料使用率等缺點，與傳統方法比較，此噴墨法可大幅降低設備成本、減少廢液與光阻材料成本、製程簡化為顏料分散法的1/3。具Water-base pigment ink完整驗証、CIE座標可達NTSC 60%以上、Pixel reolution 15” XGA standard、Pixel Size 279Nm×93Nm(each color)。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 像素大小：pitch 0.110mm×0.110mm或customer _x000D_design。顏色：RGB三色。耐熱性：250℃×1hr。耐化性：5% KOH, 40℃×10min; Acetone, 20℃×_x000D_30min; NMP, 20℃×30min。膜厚均勻值為1um±0.2um (customer-design)。穿透率：大於80%。
技術成熟度: (空)
可應用範圍: TFT LCD Color Filter、STN LCD Color Filter、PLED(Polymer LED)、OLED(Organic LED)等平面顯示器產業應用。
潛力預估: 噴墨法彩色濾光片製程/噴墨頭設計/設備整合技術，建立國內新一代科技技術自主開發能力，更可大幅降低耗材使用量。
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: 有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。
需具備之專業人才: 有意願投入噴印技術之顯示器相關廠商。

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號1209
產出年度94
技術名稱-中文動壓HD-DVD主軸馬達技術
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文(空)
技術現況敘述-英文(空)
技術規格馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦22mm_x000D_；額定電壓：12VDC_x000D_；額定電流≦0.16Amp；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦5 μm_x000D_
技術成熟度其他
可應用範圍HD-DVD主軸馬達_x000D_、光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備(空)
需具備之專業人才具影像處理基本知識、具系統整合能力
序號: 1209
產出年度: 94
技術名稱-中文: 動壓HD-DVD主軸馬達技術
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: (空)
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦22mm_x000D_；額定電壓：12VDC_x000D_；額定電流≦0.16Amp；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦5 μm_x000D_
技術成熟度: 其他
可應用範圍: HD-DVD主軸馬達_x000D_、光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: (空)
需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號1210
產出年度94
技術名稱-中文Slim Type 動壓主軸馬達技術
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文關鍵技術：1.動壓軸承動壓溝槽參數設計_x000D_2.動壓溝槽檢測技術_x000D_3.低頓轉扭矩之磁路設計技術_x000D_；優異特性：1.Turntable Runout≦20 μm _x000D_2.Tilt ≦6分_x000D_
技術現況敘述-英文(空)
技術規格馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦6.1mm_x000D_；額定電壓：5VDC_x000D_；額定電流≦0.6Amp_x000D_；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦20 μm _x000D_；Tilt ≦6分_x000D_
技術成熟度其他
可應用範圍NB DVD主軸馬達_x000D_、NB 光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備(空)
需具備之專業人才具影像處理基本知識、具系統整合能力
序號: 1210
產出年度: 94
技術名稱-中文: Slim Type 動壓主軸馬達技術
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 關鍵技術：1.動壓軸承動壓溝槽參數設計_x000D_2.動壓溝槽檢測技術_x000D_3.低頓轉扭矩之磁路設計技術_x000D_；優異特性：1.Turntable Runout≦20 μm _x000D_2.Tilt ≦6分_x000D_
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 馬達型式：三相直流無刷_x000D_；直徑≦30mm_x000D_；高度≦6.1mm_x000D_；額定電壓：5VDC_x000D_；額定電流≦0.6Amp_x000D_；最大負載轉速>5000 rpm@0.6g-cm Disk_x000D_；Turntable Runout≦20 μm _x000D_；Tilt ≦6分_x000D_
技術成熟度: 其他
可應用範圍: NB DVD主軸馬達_x000D_、NB 光碟機主軸馬達_x000D_、HDD主軸馬達_x000D_、MPU＆CPU風扇馬達_x000D_、中、高速polygon馬達_x000D_
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: (空)
需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號1211
產出年度94
技術名稱-中文磁性編碼器模組技術
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文(空)
技術現況敘述-英文(空)
技術規格環型：直徑Φ20~Φ50mm、Zero close pole pitch可為100μm~1000μm、量測距離為10μm，磁場強度可達60~100Gauss、Pole Pitch 500±10μm應用於磁性編碼器。直線型：_x000D_充磁長度可達10~20mm、zero close pole pitch可為100μm~1000μm_x000D_、量測距離為30μm，磁場強度可達100~150Gauss、Pole Pitch 880±10μm應用於數位相機。_x000D_
技術成熟度其他
可應用範圍數位相機/攝錄影機變焦鏡頭_x000D_、小型精密平台定位元件模組_x000D_、微小型4C產品元件模組_x000D_
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備(空)
需具備之專業人才具影像處理基本知識、具系統整合能力
序號: 1211
產出年度: 94
技術名稱-中文: 磁性編碼器模組技術
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: (空)
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 環型：直徑Φ20~Φ50mm、Zero close pole pitch可為100μm~1000μm、量測距離為10μm，磁場強度可達60~100Gauss、Pole Pitch 500±10μm應用於磁性編碼器。直線型：_x000D_充磁長度可達10~20mm、zero close pole pitch可為100μm~1000μm_x000D_、量測距離為30μm，磁場強度可達100~150Gauss、Pole Pitch 880±10μm應用於數位相機。_x000D_
技術成熟度: 其他
可應用範圍: 數位相機/攝錄影機變焦鏡頭_x000D_、小型精密平台定位元件模組_x000D_、微小型4C產品元件模組_x000D_
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: (空)
需具備之專業人才: 具影像處理基本知識、具系統整合能力

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號1212
產出年度94
技術名稱-中文離子輔助蒸鍍低溫製程技術
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文低溫製程；溫度控制技術旋轉機制_x000D_；冷卻技術；同時具備旋轉與水冷卻功能
技術現況敘述-英文(空)
技術規格低溫製程(製程溫度約700°C)
技術成熟度其他
可應用範圍Batch式低溫製程鍍膜機製造；連續式低溫製程鍍膜機製造_x000D_；塑膠基板鍍膜_x000D_；可撓式薄膜基板、紙類鍍膜
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備one
需具備之專業人才one
序號: 1212
產出年度: 94
技術名稱-中文: 離子輔助蒸鍍低溫製程技術
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 低溫製程；溫度控制技術旋轉機制_x000D_；冷卻技術；同時具備旋轉與水冷卻功能
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 低溫製程(製程溫度約700°C)
技術成熟度: 其他
可應用範圍: Batch式低溫製程鍍膜機製造；連續式低溫製程鍍膜機製造_x000D_；塑膠基板鍍膜_x000D_；可撓式薄膜基板、紙類鍍膜
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: one
需具備之專業人才: one

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號1213
產出年度94
技術名稱-中文即時描繪軟體開發平台
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱數位學習技術研發五年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文(空)
技術現況敘述-英文(空)
技術規格(空)
技術成熟度其他
可應用範圍(空)
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備Rigid Body / Skinning 動作資料播放。 3DS, VRML97, DirectX檔案匯入。_x000D_OpenGL 1.4+ 描繪引擎。
需具備之專業人才需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_
序號: 1213
產出年度: 94
技術名稱-中文: 即時描繪軟體開發平台
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: (空)
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: (空)
技術成熟度: 其他
可應用範圍: (空)
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: Rigid Body / Skinning 動作資料播放。 3DS, VRML97, DirectX檔案匯入。_x000D_OpenGL 1.4+ 描繪引擎。
需具備之專業人才: 需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號1214
產出年度94
技術名稱-中文噴墨法立體微透鏡製程技術
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文(空)
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Base Diameter: 100~1500 m_x000D_、 Radius(R): 60~1200 m_x000D_、 Focal Length(f): 110~1600 m、 Lens thickness(t): 50~300 m_x000D_ 、 Pitch: 300 m
技術成熟度其他
可應用範圍光纖用準直微透鏡_x000D_、立體相片、影像感測器鏡頭、光碟機讀取頭pickup le
潛力預估(空)
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備(空)
需具備之專業人才需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_
序號: 1214
產出年度: 94
技術名稱-中文: 噴墨法立體微透鏡製程技術
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: (空)
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: Base Diameter: 100~1500 m_x000D_、 Radius(R): 60~1200 m_x000D_、 Focal Length(f): 110~1600 m、 Lens thickness(t): 50~300 m_x000D_ 、 Pitch: 300 m
技術成熟度: 其他
可應用範圍: 光纖用準直微透鏡_x000D_、立體相片、影像感測器鏡頭、光碟機讀取頭pickup le
潛力預估: (空)
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: (空)
需具備之專業人才: 需要在短時間內開發多種類型的模擬或遊戲的軟硬體開發廠商。缺乏研發人力的育樂內容提供廠商。電腦圖學研究人員_x000D_

# 06 5089053 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號1216
產出年度94
技術名稱-中文雷射耦合器
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術可將兩顆雷射合併成一個雷射輸出,可提高雷射輸出功率
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Center Wavelength : 1480nm_x000D_；Center Wavelength Range : ±40nm_x000D_；Insertion Loss : 55dB_x000D_；Directivity : >60dB_x000D_；Extinction Ratin : >18dB；Optical Power : >600mW；Operation Temperature : 0 ~ 70 ℃_x000D_；Reliability test：85℃高溫測試>2000_x000D_；hours，-40℃~85℃溫度循環 >2000 hour
技術成熟度原型品
可應用範圍本技術可用於摻鉺光纖放大器(EDFA)與拉曼放大器(Raman Amplifier)
潛力預估本技術包括光學設計、封裝技術、環境測試等技術，本所開發的光電元件，能夠與世界大廠同步，極具產品競爭力。
聯絡人員鄭必章
電話06-5089053
傳真06-5089059
電子信箱Chengbicha@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備光學封裝設備
需具備之專業人才擬接受技術移轉廠商應具備光學模擬設計經驗、光纖基本原理與應用技術及光電量測能力為佳。
序號: 1216
產出年度: 94
技術名稱-中文: 雷射耦合器
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本技術可將兩顆雷射合併成一個雷射輸出,可提高雷射輸出功率
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: Center Wavelength : 1480nm_x000D_；Center Wavelength Range : ±40nm_x000D_；Insertion Loss : 55dB_x000D_；Directivity : >60dB_x000D_；Extinction Ratin : >18dB；Optical Power : >600mW；Operation Temperature : 0 ~ 70 ℃_x000D_；Reliability test：85℃高溫測試>2000_x000D_；hours，-40℃~85℃溫度循環 >2000 hour
技術成熟度: 原型品
可應用範圍: 本技術可用於摻鉺光纖放大器(EDFA)與拉曼放大器(Raman Amplifier)
潛力預估: 本技術包括光學設計、封裝技術、環境測試等技術，本所開發的光電元件，能夠與世界大廠同步，極具產品競爭力。
聯絡人員: 鄭必章
電話: 06-5089053
傳真: 06-5089059
電子信箱: Chengbicha@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: 光學封裝設備
需具備之專業人才: 擬接受技術移轉廠商應具備光學模擬設計經驗、光纖基本原理與應用技術及光電量測能力為佳。
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與液晶顯示器的彩色濾光片同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 歐政隆, 李宗昇 | 證書號碼: 206522

可撓性之光電傳輸匯流排

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 沈里正, 陳有志, 張恕銘, 柯志祥 | 證書號碼: 206592

N型奈米碳管元件之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王宏祥, 魏拯華, 高明哲 | 證書號碼: 220269

形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑, 陳志強, 莊景桑 | 證書號碼: 190648

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文 | 證書號碼: 191701

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 192752

埋藏式電容結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 6813138

超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為 | 證書號碼: 223446

具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜 | 證書號碼: 206598

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 歐政隆, 李宗昇 | 證書號碼: 206522

可撓性之光電傳輸匯流排

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 沈里正, 陳有志, 張恕銘, 柯志祥 | 證書號碼: 206592

N型奈米碳管元件之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王宏祥, 魏拯華, 高明哲 | 證書號碼: 220269

形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑, 陳志強, 莊景桑 | 證書號碼: 190648

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文 | 證書號碼: 191701

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 192752

埋藏式電容結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇 | 證書號碼: 6813138

超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為 | 證書號碼: 223446

具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜 | 證書號碼: 206598

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

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