微米針頭陣列製造方法及其結構
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文微米針頭陣列製造方法及其結構的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院材料所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院材料與化工領域環境建構計畫, 專利發明人是陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩, 證書號碼是194421.

序號	562
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	微米針頭陣列製造方法及其結構
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院材料與化工領域環境建構計畫
專利發明人	陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	194421
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構，其步驟包括先預備一晶圓層，於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部，復以一光阻層覆蓋該峰部表面；接著，於該光阻層上定義出複數個直立管孔，該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成，以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部；之後，電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔，復移除該晶圓層以及光阻層，即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟；利用半導體製程技術製作微米針頭陣列（Microneedle Array），針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空，因此，針頭注射時得以輕易地刺入皮膚，而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸（Transdermal Delivery）及取樣。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	周淑金
電話	(03)5914091
傳真	(03)5820207
電子信箱	JessicaChou@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)
同步更新日期	2023-07-05

序號

562

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

微米針頭陣列製造方法及其結構

執行單位

工研院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院材料與化工領域環境建構計畫

專利發明人

陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

194421

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構，其步驟包括先預備一晶圓層，於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部，復以一光阻層覆蓋該峰部表面；接著，於該光阻層上定義出複數個直立管孔，該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成，以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部；之後，電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔，復移除該晶圓層以及光阻層，即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟；利用半導體製程技術製作微米針頭陣列（Microneedle Array），針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空，因此，針頭注射時得以輕易地刺入皮膚，而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸（Transdermal Delivery）及取樣。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

周淑金

電話

(03)5914091

傳真

(03)5820207

電子信箱

JessicaChou@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 微米針頭陣列製造方法及其結構於經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號	531
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	固態電解電容器以及其製造方法
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫
專利發明人	蔡麗端, 杜佾璋
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I223294
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構，其步驟包括先預備一晶圓層，於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部，復以一光阻層覆蓋該峰部表面；接著，於該光阻層上定義出複數個直立管孔，該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成，以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部；之後，電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔，復移除該晶圓層以及光阻層，即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟；利用半導體製程技術製作微米針頭陣列（Microneedle Array），針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空，因此，針頭注射時得以輕易地刺入皮膚，而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸（Transdermal Delivery）及取樣。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	蔡麗端
電話	03-5915310
傳真	03-5820442
電子信箱	LiDuanTsai@itri.org.tw
參考網址	www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號: 531

產出年度: 93

領域別: (空)

專利名稱-中文: 固態電解電容器以及其製造方法

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫

專利發明人: 蔡麗端, 杜佾璋

核准國家: 中華民國

獲證日期: (空)

證書號碼: I223294

專利期間起: (空)

專利期間訖: (空)

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構，其步驟包括先預備一晶圓層，於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部，復以一光阻層覆蓋該峰部表面；接著，於該光阻層上定義出複數個直立管孔，該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成，以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部；之後，電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔，復移除該晶圓層以及光阻層，即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟；利用半導體製程技術製作微米針頭陣列（Microneedle Array），針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空，因此，針頭注射時得以輕易地刺入皮膚，而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸（Transdermal Delivery）及取樣。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 蔡麗端

電話: 03-5915310

傳真: 03-5820442

電子信箱: LiDuanTsai@itri.org.tw

參考網址: www.itri.org.tw

備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形: (空)

# 微米針頭陣列製造方法及其結構於經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號	1525
產出年度	94
領域別	(空)
專利名稱-中文	固態電解電容器以及其製造方法
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫
專利發明人	蔡麗端、杜佾璋
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	6862170
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構，其步驟包括先預備一晶圓層，於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部，復以一光阻層覆蓋該峰部表面；接著，於該光阻層上定義出複數個直立管孔，該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成，以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部；之後，電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔，復移除該晶圓層以及光阻層，即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟；利用半導體製程技術製作微米針頭陣列（Microneedle Array），針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號: 1525

產出年度: 94

領域別: (空)

專利名稱-中文: 固態電解電容器以及其製造方法

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫

專利發明人: 蔡麗端、杜佾璋

核准國家: 美國

獲證日期: (空)

證書號碼: 6862170

專利期間起: (空)

專利期間訖: (空)

專利性質: 發明

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 劉展洋

電話: 03-5916037

傳真: 03-5917431

電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形: (空)

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# 03 5914091 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號	247
產出年度	93
技術名稱-中文	電鑄網版技術
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	高性能金屬材料技術四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	複合網板的製作方法建立，包括不鏽鋼金屬網與鎳金屬箔的接合技術，整合黃光製程及電鑄製程，及無應力電鑄金屬箔的製程控制技術。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	電鑄技術開發複合式網板製作技術，面積20×20cm，金屬箔厚度10~50μm，不鏽鋼網為325mesh，接合後開孔率為原開孔率的70%以上。
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	印刷電路板構裝，半導體構裝產業上製作BGA,CSP基板及 Flip chip構裝用金屬印刷網板、有機電激發光顯示器用之有機發光材料蒸鍍過程用蒸鍍罩、液晶顯示器製造流程用之印刷金屬網板、無線網路產業用之無線射頻器內感應線圈印刷用金屬網板。
潛力預估	可提供電鑄厚度10μm~5mm電鑄箔及複合網板，並可進行技術與設備整合輸出作業。
聯絡人員	周淑金
電話	(03)5914091
傳真	(03)5820207
電子信箱	JessicaChou@itri.org.tw
參考網址	(空)
所須軟硬體設備	曝光機、顯影機、電鑄機、鑄液控制分析系統
需具備之專業人才	電化學、熟悉微影製程

序號: 247

產出年度: 93

技術名稱-中文: 電鑄網版技術

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 複合網板的製作方法建立，包括不鏽鋼金屬網與鎳金屬箔的接合技術，整合黃光製程及電鑄製程，及無應力電鑄金屬箔的製程控制技術。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 電鑄技術開發複合式網板製作技術，面積20×20cm，金屬箔厚度10~50μm，不鏽鋼網為325mesh，接合後開孔率為原開孔率的70%以上。

技術成熟度: 實驗室階段

可應用範圍: 印刷電路板構裝，半導體構裝產業上製作BGA,CSP基板及 Flip chip構裝用金屬印刷網板、有機電激發光顯示器用之有機發光材料蒸鍍過程用蒸鍍罩、液晶顯示器製造流程用之印刷金屬網板、無線網路產業用之無線射頻器內感應線圈印刷用金屬網板。

潛力預估: 可提供電鑄厚度10μm~5mm電鑄箔及複合網板，並可進行技術與設備整合輸出作業。

聯絡人員: 周淑金

電話: (03)5914091

傳真: (03)5820207

電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw

參考網址: (空)

所須軟硬體設備: 曝光機、顯影機、電鑄機、鑄液控制分析系統

需具備之專業人才: 電化學、熟悉微影製程

# 03 5914091 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號	1105
產出年度	94
技術名稱-中文	非微影光學結構轉印模具技術
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	開發利用非微影(non-lithography)製程產生次波長光學結構和形成轉印用模具的技術，使此種次波長光學結構能直接轉印於顯示材料上，節省目前乾式濺鍍或精密塗佈方式多次塗佈的時間成本及解決多層膜厚度控制不易的困難。所欲開發的光學結構是以抗反射光學特性為印證手段，其光學結構是採用電化學處理方式利用鋁材在電場作用下行成的自組裝(self assembly)多孔性結構，此種結構可控制孔洞的大小及排列有序性使其符合抗反射光學結構，而不使用到雷射或電子束(e-beam)刻寫(write)之昂貴的微影設備，且對未來的大面積應用有極大的低成本優勢
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	模具表面次波長結構的Pitch 70~300nm,開孔 40~150nm, 深度>50nm
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	此非微影光學結構轉印模具應用於顯示器用之光學膜，還可以應用於具自清潔表面之包裝材或民生器具上。或將此非微影光學結構結合元件設計內應用於生醫、化學感測器、太陽光電等產業上
潛力預估	將次波長結構建構於高分子塑膠材料上，最具商業競爭的製造方式就是轉印複製技術，目前部分先進光學膜皆是採用轉印模具壓合製造的方法生產，惟微結構的製作方式仍是採用微影製程，預計用於建構次波長結構(0.1~0.3μm)所需之模具成本將過高，相較於目前抗反射多層膜塗佈製造方式仍處於高成本、低面積的競爭劣勢，使用新開發的轉印模具製作方式，避免使用高價的微影製程設備，可有效降低設備的投資，並縮短模具成型時間
聯絡人員	周淑金
電話	03-5914091
傳真	03-5820259
電子信箱	JessicaChou@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備	化學反應槽系統，熱處理爐，顯微組織分析設備
需具備之專業人才	金屬材料，化學與電化學

序號: 1105

產出年度: 94

技術名稱-中文: 非微影光學結構轉印模具技術

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 開發利用非微影(non-lithography)製程產生次波長光學結構和形成轉印用模具的技術，使此種次波長光學結構能直接轉印於顯示材料上，節省目前乾式濺鍍或精密塗佈方式多次塗佈的時間成本及解決多層膜厚度控制不易的困難。所欲開發的光學結構是以抗反射光學特性為印證手段，其光學結構是採用電化學處理方式利用鋁材在電場作用下行成的自組裝(self assembly)多孔性結構，此種結構可控制孔洞的大小及排列有序性使其符合抗反射光學結構，而不使用到雷射或電子束(e-beam)刻寫(write)之昂貴的微影設備，且對未來的大面積應用有極大的低成本優勢

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 模具表面次波長結構的Pitch 70~300nm,開孔 40~150nm, 深度>50nm

技術成熟度: 實驗室階段

可應用範圍: 此非微影光學結構轉印模具應用於顯示器用之光學膜，還可以應用於具自清潔表面之包裝材或民生器具上。或將此非微影光學結構結合元件設計內應用於生醫、化學感測器、太陽光電等產業上

潛力預估: 將次波長結構建構於高分子塑膠材料上，最具商業競爭的製造方式就是轉印複製技術，目前部分先進光學膜皆是採用轉印模具壓合製造的方法生產，惟微結構的製作方式仍是採用微影製程，預計用於建構次波長結構(0.1~0.3μm)所需之模具成本將過高，相較於目前抗反射多層膜塗佈製造方式仍處於高成本、低面積的競爭劣勢，使用新開發的轉印模具製作方式，避免使用高價的微影製程設備，可有效降低設備的投資，並縮短模具成型時間

聯絡人員: 周淑金

電話: 03-5914091

傳真: 03-5820259

電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/

所須軟硬體設備: 化學反應槽系統，熱處理爐，顯微組織分析設備

需具備之專業人才: 金屬材料，化學與電化學

# 03 5914091 於經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號	574
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	薄膜氣體擴散電極及其製造方法
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	李文錦, 周淑金, 葉信宏, 陳冠良, 謝坤龍, 陳銘倫
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	190616
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種薄膜氣體擴散電極及其製造方法，係將薄膜氣體擴散電極採用一體成型的設計；以雙性多孔薄膜作為基材，經表面處理，令此薄膜的兩側一側為親水區域，另一側則為疏水區域；其親水區域經過化學處理之後用來作為產生電化學反應的活化層；疏水區域則保持乾燥以形成通暢的氣體通道，作為氣體擴散層；如此，則可免除薄膜氣體擴散電極需使用黏結劑與高溫高壓製程的困擾。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	周淑金
電話	(03)5914091
傳真	(03)5820207
電子信箱	JessicaChou@itri.org.tw
參考網址	www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號: 574

產出年度: 93

領域別: (空)

專利名稱-中文: 薄膜氣體擴散電極及其製造方法

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人: 李文錦, 周淑金, 葉信宏, 陳冠良, 謝坤龍, 陳銘倫

核准國家: 中華民國

獲證日期: (空)

證書號碼: 190616

專利期間起: (空)

專利期間訖: (空)

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 一種薄膜氣體擴散電極及其製造方法，係將薄膜氣體擴散電極採用一體成型的設計；以雙性多孔薄膜作為基材，經表面處理，令此薄膜的兩側一側為親水區域，另一側則為疏水區域；其親水區域經過化學處理之後用來作為產生電化學反應的活化層；疏水區域則保持乾燥以形成通暢的氣體通道，作為氣體擴散層；如此，則可免除薄膜氣體擴散電極需使用黏結劑與高溫高壓製程的困擾。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 周淑金

電話: (03)5914091

傳真: (03)5820207

電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw

參考網址: www.itri.org.tw

備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形: (空)

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與微米針頭陣列製造方法及其結構同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

行星式具位置指示之閥手輪	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林進順、仲之豪 \| 證書號碼: 638372
裝飾用金屬薄板	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 張桓 \| 證書號碼: 203561
磁控濺鍍系統之可變式靶源機構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 劉伍健、楊玉森 \| 證書號碼: 223674
網際協同資源之快準搜尋方法與系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬二次加工自動化系統技術四年計畫 \| 專利發明人: 黃華銘、薛博文、林勢敏、孫義偉 \| 證書號碼: 205882
用於壓力容器之流體驅動攪拌器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬二次加工自動化系統技術四年計畫 \| 專利發明人: 柯博文、郭子禎、謝幼安 \| 證書號碼: 186640
投射式可調變圖紋之3D量測系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬二次加工自動化系統技術四年計畫 \| 專利發明人: 呂英誠、葉光明、洪全成、薛博文 \| 證書號碼: 225147
6-氟-1,4-二氫-7-[4-(2-羥基亞胺基乙基)-1- 辰秦基]-4-氧代奎林-3-羧酸衍生物製法及用途	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 提升傳統中草藥產業研發技術四年計畫 \| 專利發明人: 曾誠齊、陳義龍、柯逢年 \| 證書號碼: 發明第200931號
抗精神病醫藥組成物（Antipsychotic Pharmaceutical Composition）	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 提升傳統中草藥產業研發技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳基旺、柯逢年 \| 證書號碼: 發明第203510號
含有遠志(polygala)萃取物的抗憂鬱醫藥組成物(Anti-depression pharmaceutical composition containing polygala extract)	核准國家: 美國分割案一 \| 執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 提升傳統中草藥產業研發技術四年計畫 \| 專利發明人: 柯逢年、韓玉鳳、劉正格、陳品方 \| 證書號碼: US6911222B2
抗潰瘍醫藥組成物、其製法及用途（Anti-ulcer pharmaceutical composition and the preparation thereof）	核准國家: 美國分割案 \| 執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 提升傳統中草藥產業研發技術四年計畫 \| 專利發明人: 柯逢年、石謙仁、林哲毅、吳佩琪、鄭模池 \| 證書號碼: US 6,800,304 B2
抗潰瘍醫藥組成物、其製法及用途（Anti-ulcer pharmaceutical composition and the preparation thereof）	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 藥技中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 提升傳統中草藥產業研發技術四年計畫 \| 專利發明人: 柯逢年、石謙仁、林哲毅、吳佩琪、鄭模池 \| 證書號碼: 發明第 I222357號
含羥基丙二酚芳磷酯製備法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 蘇文炯,施明德 \| 證書號碼: 196112
含磷環氧樹脂單體及其硬化劑與組成物	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 蘇文炯,林江珍,王俊仁,蕭世明,鄭如忠 \| 證書號碼: 196119
環己酮二聚物之改良製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 王傳中,李靜淵,嚴定萍 \| 證書號碼: 200476
Method for the preparation of ferrocenyl-1,3-butadiene	核准國家: 美國 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政 \| 證書號碼: 6664409

微米針頭陣列製造方法及其結構 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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產出年度

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專利名稱-中文

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產出單位

計畫名稱

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與微米針頭陣列製造方法及其結構同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

微米針頭陣列製造方法及其結構
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