超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院材料所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人, 證書號碼是220522.

序號570
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法
執行單位工研院材料所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼220522
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法,係於基板與記錄層之間增設近場電磁波增強層,利用其與記錄層間之近場電磁場所產生之共振增強效應,而可讀取記錄層中極小的記錄跡(小於100奈米),進而提高碟片的訊號雜訊強度比(CNR)與碟片的記錄密度。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真(空)
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

570

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法

執行單位

工研院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

220522

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法,係於基板與記錄層之間增設近場電磁波增強層,利用其與記錄層間之近場電磁場所產生之共振增強效應,而可讀取記錄層中極小的記錄跡(小於100奈米),進而提高碟片的訊號雜訊強度比(CNR)與碟片的記錄密度。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

曾美榕

電話

03-5915315

傳真

(空)

電子信箱

MRTseng@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工,95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

根據識別碼 220522 找到的相關資料

六和國際貿易有限公司

統一編號: 54310087 | 電話號碼: 02-29687217 | 新北市板橋區港德里中正路236巷101號4樓

@ 出進口廠商登記資料

六和國際貿易有限公司

統一編號: 54310087 | 電話號碼: 02-29687217 | 新北市板橋區港德里中正路236巷101號4樓

@ 出進口廠商登記資料
[ 搜尋所有 220522 ... ]

根據名稱 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法 ...)

# 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號1686
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人徐偉智、蔡松雨、曾美榕
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I233115
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係關於一種可錄式光資訊紀錄媒體及其製造方法,其主要係透過近場光學超解析(Super-RENS, Super-Resolution Near-Field Structure)技術應用於光紀錄媒體,以突破繞射極限的瓶頸,並主要係包含一基板、一介電層、一遮罩層、一介面層、一紀錄層、一反射層及一保護層,而各膜層結構之製造係利用濺鍍裝置將該介電層濺鍍在該基板表面上,且同樣利用濺鍍製程依序濺鍍形成該遮罩層、介面層、紀錄層及反射層。最後則透過旋轉塗佈法將樹脂塗佈在反射層表面而形成該保護層。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1686
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 徐偉智、蔡松雨、曾美榕
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I233115
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係關於一種可錄式光資訊紀錄媒體及其製造方法,其主要係透過近場光學超解析(Super-RENS, Super-Resolution Near-Field Structure)技術應用於光紀錄媒體,以突破繞射極限的瓶頸,並主要係包含一基板、一介電層、一遮罩層、一介面層、一紀錄層、一反射層及一保護層,而各膜層結構之製造係利用濺鍍裝置將該介電層濺鍍在該基板表面上,且同樣利用濺鍍製程依序濺鍍形成該遮罩層、介面層、紀錄層及反射層。最後則透過旋轉塗佈法將樹脂塗佈在反射層表面而形成該保護層。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1180
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文光學記錄媒體之訊號重建裝置
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
專利發明人游志青
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I226045
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法,係於基板與記錄層之間增設近場電磁波增強層,利用其與記錄層間之近場電磁場所產生之共振增強效應,而可讀取記錄層中極小的記錄跡(小於100奈米),進而提高碟片的訊號雜訊強度比(CNR)與碟片的記錄密度。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1180
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 光學記錄媒體之訊號重建裝置
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
專利發明人: 游志青
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I226045
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法,係於基板與記錄層之間增設近場電磁波增強層,利用其與記錄層間之近場電磁場所產生之共振增強效應,而可讀取記錄層中極小的記錄跡(小於100奈米),進而提高碟片的訊號雜訊強度比(CNR)與碟片的記錄密度。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法 ... ]

根據姓名 曾美榕 徐偉智 蔡松雨 鄧明人 找到的相關資料

無其他 曾美榕 徐偉智 蔡松雨 鄧明人 資料。

[ 搜尋所有 曾美榕 徐偉智 蔡松雨 鄧明人 ... ]

根據電話 03-5915315 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5915315 ...)

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號5413
產出年度101
技術名稱-中文溶液製程OLED材料技術
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發出溶液製程黃光OLED材料
技術現況敘述-英文(空)
技術規格黃光發光材料採溶液製程,發光效率達23 lm/W@ 1000 nit
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍可應用於OLED照明。
潛力預估可技轉國內廠商。
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真03-5820215
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備合成與純化設備
需具備之專業人才化學背景、小分子合成相關經驗
序號: 5413
產出年度: 101
技術名稱-中文: 溶液製程OLED材料技術
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發出溶液製程黃光OLED材料
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 黃光發光材料採溶液製程,發光效率達23 lm/W@ 1000 nit
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 可應用於OLED照明。
潛力預估: 可技轉國內廠商。
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: 03-5820215
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 合成與純化設備
需具備之專業人才: 化學背景、小分子合成相關經驗

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號6196
產出年度102
技術名稱-中文OLED關鍵材料開發
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發出低製程成本的溶液製程紅光發光材料,發光效率高,已提出中華民國及美國專利申請
技術現況敘述-英文(空)
技術規格開發可溶性紅色磷光材料,在亮度1,552 cd/m2下,元件操作電壓4.5 V、電流效率34.6 cd/A, 能量效率24.1 lm/W
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍可應用於OLED顯示器或OLED照明
潛力預估此材料發光效率高但尚未做壽命測試,壽命驗證OK即可應用於商品
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真03-5820215
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備材料合成及純化設備、昇華爐及材料特性檢測設備(螢光光譜儀、HPLC、NMR、AC2...)
需具備之專業人才化學、小分子材料合成相關經驗
序號: 6196
產出年度: 102
技術名稱-中文: OLED關鍵材料開發
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發出低製程成本的溶液製程紅光發光材料,發光效率高,已提出中華民國及美國專利申請
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 開發可溶性紅色磷光材料,在亮度1,552 cd/m2下,元件操作電壓4.5 V、電流效率34.6 cd/A, 能量效率24.1 lm/W
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 可應用於OLED顯示器或OLED照明
潛力預估: 此材料發光效率高但尚未做壽命測試,壽命驗證OK即可應用於商品
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: 03-5820215
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備: 材料合成及純化設備、昇華爐及材料特性檢測設備(螢光光譜儀、HPLC、NMR、AC2...)
需具備之專業人才: 化學、小分子材料合成相關經驗

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號6329
產出年度102
技術名稱-中文軟性OLED整面型封止材料技術
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文軟性電子元件需要具有高可靠度的封裝材料,尤其是針對軟性OLED元件,由於有機物質或者高活性的負極金屬電極對水氣及氧氣有極高的敏感度,OLED元件若無適當的保護將很快產生黑點及衰減光強度進而損壞整個元件,所以封裝OLED元件的製程技術,以及封裝材料的開發在整個OLED技術佔有極重要的地位。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格˙Transmittance: >90% (@550nm) ˙Peel Strength: >1Kgf ˙Flexibility:bending @r=5cm/10,000cycle
技術成熟度雛型
可應用範圍顯示面板相關產業
潛力預估協助國內電子構裝材料業者建立軟性OLED整面型封裝材料配方技術,可多元化的拓展國內面板上游材料的產品,並克服日後發生電子構裝材料被壟斷的問題,並且降低廠商的生產成本。
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真03-5820241
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備具TFT LCD 面板相關製程
需具備之專業人才具TFT LCD 面板相關製程經驗
序號: 6329
產出年度: 102
技術名稱-中文: 軟性OLED整面型封止材料技術
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 軟性電子元件需要具有高可靠度的封裝材料,尤其是針對軟性OLED元件,由於有機物質或者高活性的負極金屬電極對水氣及氧氣有極高的敏感度,OLED元件若無適當的保護將很快產生黑點及衰減光強度進而損壞整個元件,所以封裝OLED元件的製程技術,以及封裝材料的開發在整個OLED技術佔有極重要的地位。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: ˙Transmittance: >90% (@550nm) ˙Peel Strength: >1Kgf ˙Flexibility:bending @r=5cm/10,000cycle
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 顯示面板相關產業
潛力預估: 協助國內電子構裝材料業者建立軟性OLED整面型封裝材料配方技術,可多元化的拓展國內面板上游材料的產品,並克服日後發生電子構裝材料被壟斷的問題,並且降低廠商的生產成本。
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: 03-5820241
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/chi/tech-transfer/01.asp?RootNodeId=040&NodeId=041&NavRootNodeId=040
所須軟硬體設備: 具TFT LCD 面板相關製程
需具備之專業人才: 具TFT LCD 面板相關製程經驗

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號6846
產出年度103
技術名稱-中文光電轉換共軛分子材料資料庫
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文1.OLED關鍵材料大多仰賴進口,缺乏自主上游供應鏈,相對墊高生產成本 2.目前OLED發光材料:5~10萬元/g
技術現況敘述-英文(空)
技術規格‧HOMO、LUMO理論計 算準確度<  0.2 eV 。 ‧470 nm <  < 550 nm有機共軛環 HOMO/ LUMO資料庫建立。 ‧2.4 < ET < 2.7 eV發光材料與 主體材料之三重態資料庫建立。 ‧470 nm <  < 550 nm共軛分子結構與熱穩定性 (Tg、Tc、Tm、Td)性質關係之資料庫建立。
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍可應用於OLED、OPV材料開發及元件製作。
潛力預估1.建立快速、精準的分子結構計算能力,協助國內產學研加速開發光電轉換共軛分子材料 2.建立之資料庫可成為國內OLED發光材料開發之共用平台,可提供給產學研使用,提升我國基礎材料開發能力 3.建立之資料庫可提供國內OLED相關廠商應用於元件製作,縮短產品開發時間
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真03-5820215
電子信箱MRTseng@itri.org.yw
參考網址www.itri.org.tw
所須軟硬體設備(1)OLED材料開發: OLED材料合成及純化設備。(2)OLED面板開發:OLED蒸鍍設備
需具備之專業人才(1)化學相關(2)材料/化工等理工相關技術人才
序號: 6846
產出年度: 103
技術名稱-中文: 光電轉換共軛分子材料資料庫
執行單位: 工研院材化所
產出單位: (空)
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域: 民生福祉
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 1.OLED關鍵材料大多仰賴進口,缺乏自主上游供應鏈,相對墊高生產成本 2.目前OLED發光材料:5~10萬元/g
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: ‧HOMO、LUMO理論計 算準確度<  0.2 eV 。 ‧470 nm <  < 550 nm有機共軛環 HOMO/ LUMO資料庫建立。 ‧2.4 < ET < 2.7 eV發光材料與 主體材料之三重態資料庫建立。 ‧470 nm <  < 550 nm共軛分子結構與熱穩定性 (Tg、Tc、Tm、Td)性質關係之資料庫建立。
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 可應用於OLED、OPV材料開發及元件製作。
潛力預估: 1.建立快速、精準的分子結構計算能力,協助國內產學研加速開發光電轉換共軛分子材料 2.建立之資料庫可成為國內OLED發光材料開發之共用平台,可提供給產學研使用,提升我國基礎材料開發能力 3.建立之資料庫可提供國內OLED相關廠商應用於元件製作,縮短產品開發時間
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: 03-5820215
電子信箱: MRTseng@itri.org.yw
參考網址: www.itri.org.tw
所須軟硬體設備: (1)OLED材料開發: OLED材料合成及純化設備。(2)OLED面板開發:OLED蒸鍍設備
需具備之專業人才: (1)化學相關(2)材料/化工等理工相關技術人才

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號7485
產出年度104
技術名稱-中文具取光結構軟性基板開發
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
領域服務創新
已申請專利之國家中華民國、美國
已獲得專利之國家中華民國、美國
技術現況敘述-中文開發溶液製程自有專利結構之高發光效率黃光、紅光、綠光及藍光磷光發光材料
技術現況敘述-英文(空)
技術規格溶液製程黃、橘、綠、藍光材料效率超過25 lm/W
技術成熟度(空)
可應用範圍可應用於OLED display或OLED lighting面板
潛力預估有機會取代蒸鍍製程,降低OLED面板生產成本
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真03-5820215
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備合成hood及昇華設備
需具備之專業人才化學合成
序號: 7485
產出年度: 104
技術名稱-中文: 具取光結構軟性基板開發
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
領域: 服務創新
已申請專利之國家: 中華民國、美國
已獲得專利之國家: 中華民國、美國
技術現況敘述-中文: 開發溶液製程自有專利結構之高發光效率黃光、紅光、綠光及藍光磷光發光材料
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 溶液製程黃、橘、綠、藍光材料效率超過25 lm/W
技術成熟度: (空)
可應用範圍: 可應用於OLED display或OLED lighting面板
潛力預估: 有機會取代蒸鍍製程,降低OLED面板生產成本
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: 03-5820215
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw
所須軟硬體設備: 合成hood及昇華設備
需具備之專業人才: 化學合成

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號3451
產出年度98
技術名稱-中文ODF製程用框膠材料
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文朝大尺寸化面板發展儼然已成為LCD面板的主流趨勢,而面對面板尺寸越來越大,在製程上如何簡化流程以節省時間,及如何降低生產成本則成為生產者之首要課題,ODF製程可大幅縮短先貼合再注入液晶的製程時間,且藉由精確控制液晶滴入量以達到節省液晶材料,提升液晶材料的高利用率及降低損耗等多方優勢,本技術之研發設計為利用丙烯酸改質二種不同熔融點 (一種在室溫為液態,另一種在室溫為固態) 的環氧樹脂混合物成寡聚物,並搭配光起始劑、熱硬化劑、及無機填加劑等等,來達到ODF製程用框膠材料之相關規格
技術現況敘述-英文(空)
技術規格搖變性at 25℃<1.2;黏度:300,000±30,000mPa.s;(f)最大填充物:<2μm;紫外光硬化速度:≦ 1500mJ/cm^2;熱硬化速度:≦40 min,120℃;玻璃轉移溫度>100℃;附著力>50kgf(n) PCT:121℃/1atm/100%RH 6小時;LC Contamination:VHR>90%;反應轉化率>90% @L/S=300μm/300μm
技術成熟度雛形
可應用範圍液晶顯示器
潛力預估根據TRI的預測,全球LCD TV市場出貨量會從2007年70,313萬台,成長到2008年100,217萬台,年成長率可望達到43%,全球LCD TV出貨量將首次突破1億台大關
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真-
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備硬體:攪拌馬達、油浴器、烘箱、曝光機、恆溫恆濕箱、TMA、DSC軟體:VHR量測軟體、光學特性量測系統
需具備之專業人才材料、化工之相關領域
序號: 3451
產出年度: 98
技術名稱-中文: ODF製程用框膠材料
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 朝大尺寸化面板發展儼然已成為LCD面板的主流趨勢,而面對面板尺寸越來越大,在製程上如何簡化流程以節省時間,及如何降低生產成本則成為生產者之首要課題,ODF製程可大幅縮短先貼合再注入液晶的製程時間,且藉由精確控制液晶滴入量以達到節省液晶材料,提升液晶材料的高利用率及降低損耗等多方優勢,本技術之研發設計為利用丙烯酸改質二種不同熔融點 (一種在室溫為液態,另一種在室溫為固態) 的環氧樹脂混合物成寡聚物,並搭配光起始劑、熱硬化劑、及無機填加劑等等,來達到ODF製程用框膠材料之相關規格
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 搖變性at 25℃<1.2;黏度:300,000±30,000mPa.s;(f)最大填充物:<2μm;紫外光硬化速度:≦ 1500mJ/cm^2;熱硬化速度:≦40 min,120℃;玻璃轉移溫度>100℃;附著力>50kgf(n) PCT:121℃/1atm/100%RH 6小時;LC Contamination:VHR>90%;反應轉化率>90% @L/S=300μm/300μm
技術成熟度: 雛形
可應用範圍: 液晶顯示器
潛力預估: 根據TRI的預測,全球LCD TV市場出貨量會從2007年70,313萬台,成長到2008年100,217萬台,年成長率可望達到43%,全球LCD TV出貨量將首次突破1億台大關
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: -
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: http://www.itri.org.tw/
所須軟硬體設備: 硬體:攪拌馬達、油浴器、烘箱、曝光機、恆溫恆濕箱、TMA、DSC軟體:VHR量測軟體、光學特性量測系統
需具備之專業人才: 材料、化工之相關領域

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號5128
產出年度100
技術名稱-中文以不鏽鋼為基材之OLED元件技術
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文Philips及Osram等公司已於2009年開始試量產蒸鍍製程OLED lighting,效率20-40 lm/W,壽命10,000 hrs,但Cost仍非常高。蒸鍍製程設備、發光材料及ITO/glass價格高,為高成本之主因。本計畫開發以不鏽鋼薄片為基材之OLED lighting元件,並採用溶液製程以達降低成本之目的。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1. 完成軟性不鏽鋼基板驗證,上發光平面固態光源發光亮度800cd/m2 @ £ 8V。 2. 以Al/Ag/ZnS為上透明電極,提升取光(42%
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍初期可應用於較不在乎壽命之玩具、健康照護、裝飾及可穿戴式等照明,未來效率及壽命提升,可應用於一般室內照明。
潛力預估OLED Lighting具有獨有之面光源、優秀之散熱特性、可薄型化、可彎曲的特性,將與LED有所區別,已被視為潛力很大的下世代照明光源。本計畫開發以不鏽鋼為基材之OLED元件技術,開發完成可解決目前OLED照明光源成本太高之為題,可技轉國內廠商量產,提升我國OLED照明產業之競爭力。
聯絡人員曾美榕
電話03-5915315
傳真-
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址-
所須軟硬體設備Spin coater、slit dye coater、蒸鍍機、手套箱、OLED光電特性量測設備
需具備之專業人才光電、物理相關人才
序號: 5128
產出年度: 100
技術名稱-中文: 以不鏽鋼為基材之OLED元件技術
執行單位: 工研院材化所
產出單位: (空)
計畫名稱: 行動智慧系統電子材料及應用技術開發計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: Philips及Osram等公司已於2009年開始試量產蒸鍍製程OLED lighting,效率20-40 lm/W,壽命10,000 hrs,但Cost仍非常高。蒸鍍製程設備、發光材料及ITO/glass價格高,為高成本之主因。本計畫開發以不鏽鋼薄片為基材之OLED lighting元件,並採用溶液製程以達降低成本之目的。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 1. 完成軟性不鏽鋼基板驗證,上發光平面固態光源發光亮度800cd/m2 @ £ 8V。 2. 以Al/Ag/ZnS為上透明電極,提升取光(42%
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 初期可應用於較不在乎壽命之玩具、健康照護、裝飾及可穿戴式等照明,未來效率及壽命提升,可應用於一般室內照明。
潛力預估: OLED Lighting具有獨有之面光源、優秀之散熱特性、可薄型化、可彎曲的特性,將與LED有所區別,已被視為潛力很大的下世代照明光源。本計畫開發以不鏽鋼為基材之OLED元件技術,開發完成可解決目前OLED照明光源成本太高之為題,可技轉國內廠商量產,提升我國OLED照明產業之競爭力。
聯絡人員: 曾美榕
電話: 03-5915315
傳真: -
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: -
所須軟硬體設備: Spin coater、slit dye coater、蒸鍍機、手套箱、OLED光電特性量測設備
需具備之專業人才: 光電、物理相關人才

# 03-5915315 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號548
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文有機電致發光元件
執行單位工研院材料所
產出單位(空)
計畫名稱先進有機材料產業技術四年計畫
專利發明人王宜凡, 翁文國, 呂伯彥
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼190466
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文有機電致發光裝置 本發明係為一種有機電致發光裝置(EL device),其包括有一陽極、一 陰極以及一包夾於其間的有機電致元件(EL element),可得到一高效率、低驅動電壓之藍光發光元件。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員曾美榕
電話(03)5915315
傳真(空)
電子信箱MRTseng@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 548
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 有機電致發光元件
執行單位: 工研院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫
專利發明人: 王宜凡, 翁文國, 呂伯彥
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 190466
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 有機電致發光裝置 本發明係為一種有機電致發光裝置(EL device),其包括有一陽極、一 陰極以及一包夾於其間的有機電致元件(EL element),可得到一高效率、低驅動電壓之藍光發光元件。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 曾美榕
電話: (03)5915315
傳真: (空)
電子信箱: MRTseng@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 03-5915315 ... ]

與超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

以氣噴粉末製作鋁合金濺鍍靶材之方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 邱思議, 鄭楚丕, 溫志中 | 證書號碼: ZL01134646.9

銅箔微瘤化處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 185721

一種具抗菌性的不銹鋼

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 孫道中, 于作浩 | 證書號碼: TW 189417

光碟薄膜用相變化靶材之回收及再利用技術

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 溫志中, 賴明雄, 李秉璋 | 證書號碼: US 6,635,219

高高溫伸長率電解銅箔之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 192043

含細微化組織之合金靶材製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢, 陳俊沐, 蘇健忠, 范元昌, 黃振東, 呂明生, 吳清勳 | 證書號碼: TW 197245

電子連接器之後端電磁遮蔽元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳立生, 章本華, 陳炤祖 | 證書號碼: US 6,705,897

具耐折性之電解銅箔的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 200903

具散熱結構之連接器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 章本華, 林欣衛, 廖子昌 | 證書號碼: TW 206075

軟性印刷電路板用壓延銅箔表面處理製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 206917

廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 溫志中, 鄭楚丕 | 證書號碼: TW 207333

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

液晶面板及其製造方

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦, 溫俊祥, 吳耀庭, 鄭淑惠, 詹明香, 安川淳一, 桑原一 | 證書號碼: 182317

具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: 185492

一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆 | 證書號碼: 6669999

以氣噴粉末製作鋁合金濺鍍靶材之方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 邱思議, 鄭楚丕, 溫志中 | 證書號碼: ZL01134646.9

銅箔微瘤化處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 185721

一種具抗菌性的不銹鋼

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 孫道中, 于作浩 | 證書號碼: TW 189417

光碟薄膜用相變化靶材之回收及再利用技術

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 溫志中, 賴明雄, 李秉璋 | 證書號碼: US 6,635,219

高高溫伸長率電解銅箔之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 192043

含細微化組織之合金靶材製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢, 陳俊沐, 蘇健忠, 范元昌, 黃振東, 呂明生, 吳清勳 | 證書號碼: TW 197245

電子連接器之後端電磁遮蔽元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳立生, 章本華, 陳炤祖 | 證書號碼: US 6,705,897

具耐折性之電解銅箔的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 200903

具散熱結構之連接器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 章本華, 林欣衛, 廖子昌 | 證書號碼: TW 206075

軟性印刷電路板用壓延銅箔表面處理製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 206917

廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 溫志中, 鄭楚丕 | 證書號碼: TW 207333

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

液晶面板及其製造方

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦, 溫俊祥, 吳耀庭, 鄭淑惠, 詹明香, 安川淳一, 桑原一 | 證書號碼: 182317

具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: 185492

一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆 | 證書號碼: 6669999

 |