薄膜氣體擴散電極及其製造方法 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部 專利名稱-中文薄膜氣體擴散電極及其製造方法 的核准國家是中華民國 , 執行單位是工研院材料所 , 產出年度是93 , 專利性質是發明 , 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫 , 專利發明人是李文錦, 周淑金, 葉信宏, 陳冠良, 謝坤龍, 陳銘倫 , 證書號碼是190616 .
根據識別碼 190616 找到的相關資料 (以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 190616 ...)站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 1 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 16431 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
@ 公車站位資訊 站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 1 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 16522 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
@ 公車站位資訊 站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 0 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 17958 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
@ 公車站位資訊 Name: StayInn Taipei | Telephone: 886-2-25682270 | Address: 8F., No.71, Sec. 2, Zhongshan N. Rd., Zhongshan Dist., Taipei City 104, Taiwan (R.O.C.) | Grade: | Description: A rare quality business hotel in Taipei! The affordable, convenient, and comfortable Stayinn upholds... | Serivce Information: Wi-Fi,National travel card,,,, | Parking Information: Parking Space:Car 0、Motorcycle 0、Truck 0
@ 旅館民宿(英文版)-觀光資訊資料庫 Tel: 886-2-25682270 | Name: 尚印旅店 | Grade: | Serviceinfo: 無線LAN,国民旅遊卡,,,, | Parkinginfo: Parking Space:Car 0、Motorcycle 0、Truck 0
@ 旅館民宿(日文版)-觀光資訊資料庫 電話: 886-2-25682270 | 地址: 臺北市中山區中山北路二段71號8樓 | 級別: | 服務資訊: 無線網路,國民旅遊卡,,,, | 停車資訊: 車位:小客車0輛、機車0輛、大客車0輛 | 描述: 台北難得一見的 高CP值 旅店!平價、便利、舒適 的 尚印旅店,秉持著讓每位到台北的旅人,在愉快享受大台北的美好之後,回到尚印能有最溫暖的旅宿體驗。
@ 旅館民宿 - 觀光資訊資料庫 基本每股盈餘(元): 2.19 | 年度: 111 | 季別: 4 | 稅後淨利: 190616.00 | 營業收入: 770147.00 | 營業利益: 70117.00 | 營業外收入及支出: 163334.00 | 出表日期: 1120430
@ 上市公司各產業EPS統計資訊 電話: 886-2-25682270 | 地址: 臺北市中山區中山北路二段71號8樓 | 級別: | 服務資訊: 無線網路,國民旅遊卡,,,, | 停車資訊: 車位:小客車0輛、機車0輛、大客車0輛 | 描述: 台北難得一見的 高CP值 旅店!平價、便利、舒適 的 尚印旅店,秉持著讓每位到台北的旅人,在愉快享受大台北的美好之後,回到尚印能有最溫暖的旅宿體驗。
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站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 1 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 16431 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
@ 公車站位資訊 站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 1 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 16522 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
@ 公車站位資訊 站位代碼: 75171 | 地址: 淡水區濱海路431465號路燈旁(向西) | 去返程: 0 | 上下車站別: -1 | 所屬路線代碼: 17958 | Bus Stop Name: LRT Binhai Shalun Sta.
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根據名稱 薄膜氣體擴散電極及其製造方法 找到的相關資料 序號 2508 產出年度 95 領域別 (空) 專利名稱-中文 薄膜氣體擴散電極及其製造方法 執行單位 工研院院本部 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院創新前瞻技術研究計畫 專利發明人 李文錦、周淑金、陳冠良、陳銘倫、謝坤龍、葉信宏 核准國家 美國 獲證日期 (空) 證書號碼 (空) 專利期間起 (空) 專利期間訖 (空) 專利性質 發明 技術摘要-中文 一種薄膜氣體擴散電極及其製造方法,係將薄膜氣體擴散電極採用一體成型的設計;以雙性多孔薄膜作為基材,經表面處理,令此薄膜的兩側一側為親水區域,另一側則為疏水區域;其親水區域經過化學處理之後用來作為產生電化學反應的活化層;疏水區域則保持乾燥以形成通暢的氣體通道,作為氣體擴散層;如此,則可免除薄膜氣體擴散電極需使用黏結劑與高溫高壓製程的困擾。This specification discloses a thin-film gas diffusion electrode (GDE) and the method for making the same. The thin-film GDE is formed in a unitary way. A dual-nature porous thin film is used as the substrate. A surface processing is performed to make one surface of the thing film hydrophlic while the other surface hydrophobic. The hydrophlic area serves as the active layer for electrochemical reactions after chemical processing. The hydrophobic area is kept dry to form a smooth gas channel, functioning as a gas diffusion layer. In this method, the thin-film GDE is free from the use of binders and high-temperature high-pressure manufacturing processes. 技術摘要-英文 (空) 聯絡人員 劉展洋 電話 03-5916037 傳真 03-5917431 電子信箱 JamesLiu@Itri.org.tw 參考網址 http://www.patentportfolio.itri.org.tw 備註 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光 特殊情形 (空)
序號: 2508 產出年度: 95 領域別: (空) 專利名稱-中文: 薄膜氣體擴散電極及其製造方法 執行單位: 工研院院本部 產出單位: (空) 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 專利發明人: 李文錦、周淑金、陳冠良、陳銘倫、謝坤龍、葉信宏 核准國家: 美國 獲證日期: (空) 證書號碼: (空) 專利期間起: (空) 專利期間訖: (空) 專利性質: 發明 技術摘要-中文: 一種薄膜氣體擴散電極及其製造方法,係將薄膜氣體擴散電極採用一體成型的設計;以雙性多孔薄膜作為基材,經表面處理,令此薄膜的兩側一側為親水區域,另一側則為疏水區域;其親水區域經過化學處理之後用來作為產生電化學反應的活化層;疏水區域則保持乾燥以形成通暢的氣體通道,作為氣體擴散層;如此,則可免除薄膜氣體擴散電極需使用黏結劑與高溫高壓製程的困擾。This specification discloses a thin-film gas diffusion electrode (GDE) and the method for making the same. The thin-film GDE is formed in a unitary way. A dual-nature porous thin film is used as the substrate. A surface processing is performed to make one surface of the thing film hydrophlic while the other surface hydrophobic. The hydrophlic area serves as the active layer for electrochemical reactions after chemical processing. The hydrophobic area is kept dry to form a smooth gas channel, functioning as a gas diffusion layer. In this method, the thin-film GDE is free from the use of binders and high-temperature high-pressure manufacturing processes. 技術摘要-英文: (空) 聯絡人員: 劉展洋 電話: 03-5916037 傳真: 03-5917431 電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw 備註: 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光 特殊情形: (空)
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根據姓名 李文錦 周淑金 葉信宏 陳冠良 謝坤龍 陳銘倫 找到的相關資料
根據電話 03 5914091 找到的相關資料 (以下顯示 3 筆) (或要:直接搜尋所有 03 5914091 ...)序號 247 產出年度 93 技術名稱-中文 電鑄網版技術 執行單位 工研院材料所 產出單位 (空) 計畫名稱 高性能金屬材料技術四年計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 複合網板的製作方法建立,包括不鏽鋼金屬網與鎳金屬箔的接合技術,整合黃光製程及電鑄製程,及無應力電鑄金屬箔的製程控制技術。 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 電鑄技術開發複合式網板製作技術,面積20×20cm,金屬箔厚度10~50μm,不鏽鋼網為325mesh,接合後開孔率為原開孔率的70%以上。 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 印刷電路板構裝,半導體構裝產業上製作BGA,CSP基板及 Flip chip構裝用金屬印刷網板、有機電激發光顯示器用之有機發光材料蒸鍍過程用蒸鍍罩、液晶顯示器製造流程用之印刷金屬網板、無線網路產業用之無線射頻器內感應線圈印刷用金屬網板。 潛力預估 可提供電鑄厚度10μm~5mm電鑄箔及複合網板,並可進行技術與設備整合輸出作業。 聯絡人員 周淑金 電話 (03)5914091 傳真 (03)5820207 電子信箱 JessicaChou@itri.org.tw 參考網址 (空) 所須軟硬體設備 曝光機、顯影機、電鑄機、鑄液控制分析系統 需具備之專業人才 電化學、熟悉微影製程
序號: 247 產出年度: 93 技術名稱-中文: 電鑄網版技術 執行單位: 工研院材料所 產出單位: (空) 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 複合網板的製作方法建立,包括不鏽鋼金屬網與鎳金屬箔的接合技術,整合黃光製程及電鑄製程,及無應力電鑄金屬箔的製程控制技術。 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 電鑄技術開發複合式網板製作技術,面積20×20cm,金屬箔厚度10~50μm,不鏽鋼網為325mesh,接合後開孔率為原開孔率的70%以上。 技術成熟度: 實驗室階段 可應用範圍: 印刷電路板構裝,半導體構裝產業上製作BGA,CSP基板及 Flip chip構裝用金屬印刷網板、有機電激發光顯示器用之有機發光材料蒸鍍過程用蒸鍍罩、液晶顯示器製造流程用之印刷金屬網板、無線網路產業用之無線射頻器內感應線圈印刷用金屬網板。 潛力預估: 可提供電鑄厚度10μm~5mm電鑄箔及複合網板,並可進行技術與設備整合輸出作業。 聯絡人員: 周淑金 電話: (03)5914091 傳真: (03)5820207 電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw 參考網址: (空) 所須軟硬體設備: 曝光機、顯影機、電鑄機、鑄液控制分析系統 需具備之專業人才: 電化學、熟悉微影製程
序號 1105 產出年度 94 技術名稱-中文 非微影光學結構轉印模具技術 執行單位 工研院材料所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院創新前瞻技術研究計畫 領域 (空) 已申請專利之國家 (空) 已獲得專利之國家 (空) 技術現況敘述-中文 開發利用非微影(non-lithography)製程產生次波長光學結構和形成轉印用模具的技術,使此種次波長光學結構能直接轉印於顯示材料上,節省目前乾式濺鍍或精密塗佈方式多次塗佈的時間成本及解決多層膜厚度控制不易的困難。所欲開發的光學結構是以抗反射光學特性為印證手段,其光學結構是採用電化學處理方式利用鋁材在電場作用下行成的自組裝(self assembly)多孔性結構,此種結構可控制孔洞的大小及排列有序性使其符合抗反射光學結構,而不使用到雷射或電子束(e-beam)刻寫(write)之昂貴的微影設備,且對未來的大面積應用有極大的低成本優勢 技術現況敘述-英文 (空) 技術規格 模具表面次波長結構的Pitch 70~300nm,開孔 40~150nm, 深度>50nm 技術成熟度 實驗室階段 可應用範圍 此非微影光學結構轉印模具應用於顯示器用之光學膜,還可以應用於具自清潔表面之包裝材或民生器具上。或將此非微影光學結構結合元件設計內應用於生醫、化學感測器、太陽光電等產業上 潛力預估 將次波長結構建構於高分子塑膠材料上,最具商業競爭的製造方式就是轉印複製技術,目前部分先進光學膜皆是採用轉印模具壓合製造的方法生產,惟微結構的製作方式仍是採用微影製程,預計用於建構次波長結構(0.1~0.3μm)所需之模具成本將過高,相較於目前抗反射多層膜塗佈製造方式仍處於高成本、低面積的競爭劣勢,使用新開發的轉印模具製作方式,避免使用高價的微影製程設備,可有效降低設備的投資,並縮短模具成型時間 聯絡人員 周淑金 電話 03-5914091 傳真 03-5820259 電子信箱 JessicaChou@itri.org.tw 參考網址 http://www.itri.org.tw/ 所須軟硬體設備 化學反應槽系統,熱處理爐,顯微組織分析設備 需具備之專業人才 金屬材料,化學與電化學
序號: 1105 產出年度: 94 技術名稱-中文: 非微影光學結構轉印模具技術 執行單位: 工研院材料所 產出單位: (空) 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 領域: (空) 已申請專利之國家: (空) 已獲得專利之國家: (空) 技術現況敘述-中文: 開發利用非微影(non-lithography)製程產生次波長光學結構和形成轉印用模具的技術,使此種次波長光學結構能直接轉印於顯示材料上,節省目前乾式濺鍍或精密塗佈方式多次塗佈的時間成本及解決多層膜厚度控制不易的困難。所欲開發的光學結構是以抗反射光學特性為印證手段,其光學結構是採用電化學處理方式利用鋁材在電場作用下行成的自組裝(self assembly)多孔性結構,此種結構可控制孔洞的大小及排列有序性使其符合抗反射光學結構,而不使用到雷射或電子束(e-beam)刻寫(write)之昂貴的微影設備,且對未來的大面積應用有極大的低成本優勢 技術現況敘述-英文: (空) 技術規格: 模具表面次波長結構的Pitch 70~300nm,開孔 40~150nm, 深度>50nm 技術成熟度: 實驗室階段 可應用範圍: 此非微影光學結構轉印模具應用於顯示器用之光學膜,還可以應用於具自清潔表面之包裝材或民生器具上。或將此非微影光學結構結合元件設計內應用於生醫、化學感測器、太陽光電等產業上 潛力預估: 將次波長結構建構於高分子塑膠材料上,最具商業競爭的製造方式就是轉印複製技術,目前部分先進光學膜皆是採用轉印模具壓合製造的方法生產,惟微結構的製作方式仍是採用微影製程,預計用於建構次波長結構(0.1~0.3μm)所需之模具成本將過高,相較於目前抗反射多層膜塗佈製造方式仍處於高成本、低面積的競爭劣勢,使用新開發的轉印模具製作方式,避免使用高價的微影製程設備,可有效降低設備的投資,並縮短模具成型時間 聯絡人員: 周淑金 電話: 03-5914091 傳真: 03-5820259 電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw 參考網址: http://www.itri.org.tw/ 所須軟硬體設備: 化學反應槽系統,熱處理爐,顯微組織分析設備 需具備之專業人才: 金屬材料,化學與電化學
序號 562 產出年度 93 領域別 (空) 專利名稱-中文 微米針頭陣列製造方法及其結構 執行單位 工研院材料所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院材料與化工領域環境建構計畫 專利發明人 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 核准國家 中華民國 獲證日期 (空) 證書號碼 194421 專利期間起 (空) 專利期間訖 (空) 專利性質 發明 技術摘要-中文 一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構,其步驟包括先預備一晶圓層,於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部,復以一光阻層覆蓋該峰部表面;接著,於該光阻層上定義出複數個直立管孔,該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成,以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部;之後,電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔,復移除該晶圓層以及光阻層,即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟;利用半導體製程技術製作微米針頭陣列(Microneedle Array),針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空,因此,針頭注射時得以輕易地刺入皮膚,而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸(Transdermal Delivery)及取樣。 技術摘要-英文 (空) 聯絡人員 周淑金 電話 (03)5914091 傳真 (03)5820207 電子信箱 JessicaChou@itri.org.tw 參考網址 www.itri.org.tw 備註 原領域別為材料化工,95年改為生醫材化 特殊情形 (空)
序號: 562 產出年度: 93 領域別: (空) 專利名稱-中文: 微米針頭陣列製造方法及其結構 執行單位: 工研院材料所 產出單位: (空) 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 核准國家: 中華民國 獲證日期: (空) 證書號碼: 194421 專利期間起: (空) 專利期間訖: (空) 專利性質: 發明 技術摘要-中文: 一種中空型態的微米針頭陣列製造方法及其結構,其步驟包括先預備一晶圓層,於該晶圓層上開設多數與水平面維持預定傾斜度之峰部,復以一光阻層覆蓋該峰部表面;接著,於該光阻層上定義出複數個直立管孔,該管孔前端係順應該峰部傾斜面形成,以使靠近晶圓層之管孔開口面完全貼合於該峰部;之後,電鑄一奈米晶粒電鍍金屬至該光阻層連接並填滿各直立管孔,復移除該晶圓層以及光阻層,即完成該微米中空針頭陣列各製程步驟;利用半導體製程技術製作微米針頭陣列(Microneedle Array),針頭前端可以開設成傾斜切角並且維持中空,因此,針頭注射時得以輕易地刺入皮膚,而有助於藥物、體液或其他生物分子經皮傳輸(Transdermal Delivery)及取樣。 技術摘要-英文: (空) 聯絡人員: 周淑金 電話: (03)5914091 傳真: (03)5820207 電子信箱: JessicaChou@itri.org.tw 參考網址: www.itri.org.tw 備註: 原領域別為材料化工,95年改為生醫材化 特殊情形: (空)
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核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖政順、陳寶文 | 證書號碼: 發明第197823號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖政順、陳寶文 | 證書號碼: 發明第200832號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃聖傑、田乾昌、陳育群 | 證書號碼: 發明第207069號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 曹昌進、吳進旺 | 證書號碼: 發明第I222310號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 胡岳偉、江鎮城 | 證書號碼: 發明第199575號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張孝賢、洪良仁、洪廷岳 | 證書號碼: 發明第204430號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許世和 | 證書號碼: 發明第201926號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許海悌、劉惠玲、林本琛 | 證書號碼: 發明第220621號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林建安 | 證書號碼: 發明第203434
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 朱志興 | 證書號碼: 發明第200853號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李維仁 | 證書號碼: 發明第204220號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 吳宗德 | 證書號碼: 發明第198952
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林志彥、何文楨 | 證書號碼: 發明第207095
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李仁隆、戴文凱、王學武、劉振鐸 | 證書號碼: 發明第200849號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝咸熙、戴文凱、王學武、劉振鐸 | 證書號碼: 發明第I222606號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖政順、陳寶文 | 證書號碼: 發明第197823號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖政順、陳寶文 | 證書號碼: 發明第200832號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃聖傑、田乾昌、陳育群 | 證書號碼: 發明第207069號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 曹昌進、吳進旺 | 證書號碼: 發明第I222310號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 胡岳偉、江鎮城 | 證書號碼: 發明第199575號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張孝賢、洪良仁、洪廷岳 | 證書號碼: 發明第204430號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許世和 | 證書號碼: 發明第201926號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許海悌、劉惠玲、林本琛 | 證書號碼: 發明第220621號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林建安 | 證書號碼: 發明第203434
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 朱志興 | 證書號碼: 發明第200853號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李維仁 | 證書號碼: 發明第204220號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 吳宗德 | 證書號碼: 發明第198952
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林志彥、何文楨 | 證書號碼: 發明第207095
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李仁隆、戴文凱、王學武、劉振鐸 | 證書號碼: 發明第200849號
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝咸熙、戴文凱、王學武、劉振鐸 | 證書號碼: 發明第I222606號
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