利用共軛光路量測二維位移量之方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文利用共軛光路量測二維位移量之方法的核准國家是美國, 證書號碼是6,744,520, 專利性質是發明, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是張中柱, 高清芬, 李世光.

序號	598
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	利用共軛光路量測二維位移量之方法
執行單位	工研院量測中心
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	張中柱 \| 高清芬 \| 李世光
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	6,744,520
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係提供一種共軛光路式二維位移量測方法，該量測方法係藉由一光源，產生一第一次入射光，入射於一繞射單元，形成至少兩道第一次繞射光，該第一次繞射光經由波前重建光學組件 ( wavefront reconstruction optics) 之作用，形成循原光徑折回，入射於該繞射單元之第二次入射光，該第二次入射光經該繞射單元反射後，形成至少兩道第二次繞射光，該第二次繞射光經由干涉光學組件之作用，形成至少兩道干涉光，將該干涉光經一般光干涉解相技術處理後，即可得到二維運動中兩個線性獨立方向上的位移量。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	金娟如
電話	03-5743816
傳真	03-5720621
電子信箱	judyking@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

598

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

利用共軛光路量測二維位移量之方法

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

張中柱 | 高清芬 | 李世光

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6,744,520

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係提供一種共軛光路式二維位移量測方法，該量測方法係藉由一光源，產生一第一次入射光，入射於一繞射單元，形成至少兩道第一次繞射光，該第一次繞射光經由波前重建光學組件 ( wavefront reconstruction optics) 之作用，形成循原光徑折回，入射於該繞射單元之第二次入射光，該第二次入射光經該繞射單元反射後，形成至少兩道第二次繞射光，該第二次繞射光經由干涉光學組件之作用，形成至少兩道干涉光，將該干涉光經一般光干涉解相技術處理後，即可得到二維運動中兩個線性獨立方向上的位移量。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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臺灣臺中地方檢察署會計月報

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利用共軛光路量測二維位移量之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6744520 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 @ 技術司專利資料集
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高密度通道光譜影像量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm \| 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足，但製程良率偏低，且檢測速度遠不及產出率，需求快速光譜檢測新一代技術，本技術可直接針對此需求提供服務。 @ 技術司可移轉技術資料集
高密度光譜分析技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm \| 潛力預估: 可取代目前國外高價產品，可創造產值5億 @ 技術司可移轉技術資料集
垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 \| 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器，在亞洲市場的產值每年可達數億元，其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。 @ 技術司可移轉技術資料集
3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭，尺寸/形狀空間解析度：8~15μm。(2)機台y-方向移動速度：40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)空間解析度：7.7 μm。(2)深度範圍：< 200μm。 \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 技術司可移轉技術資料集
三維形貌量測探頭技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度：≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 \| 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。 @ 技術司可移轉技術資料集
電力控制電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214743 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 @ 技術司專利資料集
提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184318 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 @ 技術司專利資料集

高密度通道光譜影像量測技術

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高密度光譜分析技術

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垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

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3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

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HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

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三維形貌量測探頭技術

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電力控制電路

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提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

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電腦視窗界面的快速多工控制系統	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98125165.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 許文通,郭文章,王國光,葉昭蘭
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無電鍍形成雙層以上金屬凸塊的製備方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01118735.2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 梁沐旺, 曾乙修, 蔣邦民
無電鍍形成雙層以上金屬凸塊之製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6653235 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 梁沐旺, 曾乙修, 蔣邦民
微工件之選料裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6817465 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 潘正堂, 吳東權
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應用于工具機直結式主軸的松刀機構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL03251417.4 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 胡志揚, 黃鴻傑, 張恩生, 蔡坤龍
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