可調光徑之光學捕捉裙
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文可調光徑之光學捕捉裙的核准國家是美國, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是林耀明, 王浩偉, 羅偕益, 證書號碼是6,667,838.

序號	600
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	可調光徑之光學捕捉裙
執行單位	工研院量測中心
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	林耀明, 王浩偉, 羅偕益
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	6,667,838
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種可調光徑之光學捕捉裙，其包括：一本體，具有一第一開口、大於第一開口的一第二開口以及自第一開口至第二開口延伸的一環狀側壁；以及一喇叭狀光圈，具有小於上述第一開口的一瞳孔，並且該喇叭狀光圈固定於上述環狀側壁內，構成一環狀空穴。當一大於此瞳孔之光束進入第一開口後，藉由調整瞳孔之大小，將既定放棄之光束被上述環狀空穴捕捉。進一步，本發明可調通過第一開口之光束之光徑。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	金娟如
電話	03-5743816
傳真	03-5720621
電子信箱	judyking@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

600

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

可調光徑之光學捕捉裙

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

林耀明, 王浩偉, 羅偕益

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6,667,838

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種可調光徑之光學捕捉裙，其包括：一本體，具有一第一開口、大於第一開口的一第二開口以及自第一開口至第二開口延伸的一環狀側壁；以及一喇叭狀光圈，具有小於上述第一開口的一瞳孔，並且該喇叭狀光圈固定於上述環狀側壁內，構成一環狀空穴。當一大於此瞳孔之光束進入第一開口後，藉由調整瞳孔之大小，將既定放棄之光束被上述環狀空穴捕捉。進一步，本發明可調通過第一開口之光束之光徑。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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高密度通道光譜影像量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm \| 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足，但製程良率偏低，且檢測速度遠不及產出率，需求快速光譜檢測新一代技術，本技術可直接針對此需求提供服務。 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
高密度光譜分析技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm \| 潛力預估: 可取代目前國外高價產品，可創造產值5億 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 \| 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器，在亞洲市場的產值每年可達數億元，其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭，尺寸/形狀空間解析度：8~15μm。(2)機台y-方向移動速度：40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術	執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)空間解析度：7.7 μm。(2)深度範圍：< 200μm。 \| 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等，產業頗具規模，因此，製程品質之檢測儀器之需求大。 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
三維形貌量測探頭技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度：≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 \| 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。 @ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集
電力控制電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 \| 證書號碼: 214743 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 \| 證書號碼: 184318 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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與可調光徑之光學捕捉裙同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 余昱辰, 郭宗南, 潘彥廷 \| 證書號碼: 194417
光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜 \| 證書號碼: ZL00129763.5
動態減震系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊志軒, 謝政揚, 黃振源, 張啟伸 \| 證書號碼: 206772
聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 朱良謙, 張志吉 \| 證書號碼: ZL00108097.0
可調整的鏡群裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 涂銀發, 姜皇成, 陳志文, 張耿智 \| 證書號碼: 195758
雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林明慧, 劉通發 \| 證書號碼: 201010
環場影像接圖器及其方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝君偉, 江政欽, 魏德樂 \| 證書號碼: 6,798,923
取紙傳動模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林智堅, 陳英棋, 鄭兆凱, 張惠珍 \| 證書號碼: 215325
噴墨印頭的封裝方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 藍元亮, 吳義勇, 邱紹玲, 劉克明, 鄭淑娟 \| 證書號碼: ZL98106298.9
噴墨印頭結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 \| 證書號碼: ZL98116196.0
墨水通道設計	核准國家: 德國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 \| 證書號碼: 19914700
墨水通道製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 王介文, 吳義勇, 胡鴻烈, 李明玲 \| 證書號碼: ZL98115179.5
噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳 \| 證書號碼: ZL98118397.2
噴墨印頭的結構與製作方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨 \| 證書號碼: ZL98124126.3
一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超 \| 證書號碼: ZL00100896.X

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