研磨機進料結構
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專利名稱-中文研磨機進料結構的核准國家是中華民國, 證書號碼是211613, 專利性質是新型, 執行單位是工研院環安中心, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院永續發展領域環境建構計畫, 專利發明人是陳珠修、楊奉儒、李明晃.

序號732
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文研磨機進料結構
執行單位工研院環安中心
產出單位(空)
計畫名稱工研院永續發展領域環境建構計畫
專利發明人陳珠修 | 楊奉儒 | 李明晃
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼211613
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種研磨機進料結構,其係可使研磨機於磨碎物料時,可更為順暢,消除一般物料於進料待磨時所產生的架橋現象,且可防止具彈性的物料於進料時,因接觸研磨刀口彈回而產生進料不順的現象,可使研磨過程中的進料程序連續,不會因架橋、堆積而降低研磨效率,其主要係將進料所用的進料斗作一優良設計,使待研磨的物料投入後,可自然到達研磨刀口,並於適當位置處設計有一防止物料回彈及堆積或架橋的結構,可有效保持研磨時的連續進料。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員楊奉儒
電話03-5915484
傳真03-5820016
電子信箱yfr@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形(空)

序號

732

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

研磨機進料結構

執行單位

工研院環安中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院永續發展領域環境建構計畫

專利發明人

陳珠修 | 楊奉儒 | 李明晃

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

211613

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種研磨機進料結構,其係可使研磨機於磨碎物料時,可更為順暢,消除一般物料於進料待磨時所產生的架橋現象,且可防止具彈性的物料於進料時,因接觸研磨刀口彈回而產生進料不順的現象,可使研磨過程中的進料程序連續,不會因架橋、堆積而降低研磨效率,其主要係將進料所用的進料斗作一優良設計,使待研磨的物料投入後,可自然到達研磨刀口,並於適當位置處設計有一防止物料回彈及堆積或架橋的結構,可有效保持研磨時的連續進料。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

楊奉儒

電話

03-5915484

傳真

03-5820016

電子信箱

yfr@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工,95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

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花蓮縣立射箭場

場館實際管理人電話: 03-8580686 | 場館分類: 靶場/射擊場 | 停車場種類: 一般及無障礙停車場 | 花蓮縣花蓮市達固湖灣大路19號

@ 全國運動場館資訊

花蓮縣立射箭場

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雜質振盪分離送料器結構之改良

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210230 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李明晃、陳珠修、楊奉儒

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複合金屬廢棄物(砷化鎵)資源化技術

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 以溶媒萃取、沉澱分離、熱分離、溼式電解、離子交換等技術流程,處理含砷化鎵之光電產業廢棄物。可成功地自含砷化鎵之光電產業廢棄物中,有效地去除具有毒性之砷化物,並且資源化回收有價的金屬─鎵,其純度可達99... | 潛力預估: 可處理每年國內光電業者產生約二百噸之含砷化鎵廢棄物,並提供資源化處理業者因應廢棄物轉型所需之處理技術

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廢電池回收處理技術

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術可回收鐵、錳、鋅等金屬,回收率約為80﹪ | 潛力預估: 電池/環保…等相關產業皆可應用

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支撐式液態膜分離系統

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 金屬選擇率達99%以上,金屬回收率達85%以上 | 潛力預估: 電子/電鍍產業之線上回收,環保產業有價金屬回收皆可應用

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廢加氫脫硫觸媒中釩、鉬之分離方法

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業永續發展環安技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 由本技術所回收製得的釩化學品與鈷化學品皆可達99%以上的純度 | 潛力預估: 資源化回收產品單價高,煉鋼、特用產品相關產業需求量大

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廢日光燈管之拆解方法及其裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6637098 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 專利發明人: 楊奉儒、蔡憲坤

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以工業廢棄物作為原料的樹脂混凝土

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207309 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳清齊、賴明柱、楊奉儒、陳志恒

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複合金屬廢棄物(砷化鎵)資源化技術

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 以溶媒萃取、沉澱分離、熱分離、溼式電解、離子交換等技術流程,處理含砷化鎵之光電產業廢棄物。可成功地自含砷化鎵之光電產業廢棄物中,有效地去除具有毒性之砷化物,並且資源化回收有價的金屬─鎵,其純度可達99... | 潛力預估: 可處理每年國內光電業者產生約二百噸之含砷化鎵廢棄物,並提供資源化處理業者因應廢棄物轉型所需之處理技術

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廢電池回收處理技術

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術可回收鐵、錳、鋅等金屬,回收率約為80﹪ | 潛力預估: 電池/環保…等相關產業皆可應用

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支撐式液態膜分離系統

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 金屬選擇率達99%以上,金屬回收率達85%以上 | 潛力預估: 電子/電鍍產業之線上回收,環保產業有價金屬回收皆可應用

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噴墨頭墨水壓力控制裝置

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噴墨印頭芯片及噴墨印頭壽命與缺陷的檢測方法

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一種噴墨匣的噴墨頭晶片的封裝方法及封裝構造

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安排噴墨頭的噴孔的方法及其構造

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01109007.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 張智超, 張輝煌, 黃友澤

一種熱氣泡噴墨印頭的制法及其結構

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01100028.7 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 武東星, 鄭陳煜, 胡紀平, 吳義勇, 李憶興

多色階噴墨頭晶片結構

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01109057.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 張智超, 邱慶龍, 蘇士豪

噴墨筆的墨水壓力調節裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01103984.1 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 侯怡仲, 王介文, 藍元亮

噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,666,545 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 張智超, 胡紀平, 陳俊融

壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,644,795 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林順泉, 張智超, 蘇士豪, 陳俊融, 李柏勳, 羅啟賓

微流模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186642 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊進成, 毛慶宜, 吳周霖

生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191424 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇士豪, 楊孟達, 劉健群, 張智超

以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198956 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融

產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206612 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融

應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195330 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 陳俊融, 胡紀平

噴墨頭晶片結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220131 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉健群, 陳俊融

噴墨頭墨水壓力控制裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00100898.6 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝樹崢, 蘇士豪, 許成偉, 陳錦泰, 侯怡仲, 王介文

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核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01102417.8 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇士豪, 王介文, 呂志平

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核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01100028.7 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 武東星, 鄭陳煜, 胡紀平, 吳義勇, 李憶興

多色階噴墨頭晶片結構

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01109057.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 張智超, 邱慶龍, 蘇士豪

噴墨筆的墨水壓力調節裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01103984.1 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 侯怡仲, 王介文, 藍元亮

噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,666,545 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 張智超, 胡紀平, 陳俊融

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核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,644,795 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林順泉, 張智超, 蘇士豪, 陳俊融, 李柏勳, 羅啟賓

微流模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186642 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊進成, 毛慶宜, 吳周霖

生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191424 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇士豪, 楊孟達, 劉健群, 張智超

以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198956 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融

產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206612 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融

應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195330 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 陳俊融, 胡紀平

噴墨頭晶片結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220131 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉健群, 陳俊融

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