微機電式差分致動器
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專利名稱-中文微機電式差分致動器的核准國家是中華民國, 證書號碼是206526, 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是94, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是李孝文、溫士逸、胡杰、吳文益、翁瑞坪、郭武政.

序號	1162
產出年度	94
領域別	(空)
專利名稱-中文	微機電式差分致動器
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	李孝文 \| 溫士逸 \| 胡杰 \| 吳文益 \| 翁瑞坪 \| 郭武政
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	206526
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種微機電式差分致動器，主要係藉由提供一懸臂組結構及/或橋式結構達成兩自由度無傾角的平行運動特性，由於懸臂組結構具差分(differential)特性，如環境溫度變異之共模(common mode)驅動外力將不產生偏角變化，而可使得致動器承載座端仍具兩自由度出平面或是內平面的上下左右無傾角平行運動特性，適合用於如光開關、可調衰減器、光可調濾波器、可調面發光雷射、光柵調變器、微光顯示器及射頻開關等光學微機電元件中。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號

1162

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

微機電式差分致動器

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

李孝文 | 溫士逸 | 胡杰 | 吳文益 | 翁瑞坪 | 郭武政

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

206526

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種微機電式差分致動器，主要係藉由提供一懸臂組結構及/或橋式結構達成兩自由度無傾角的平行運動特性，由於懸臂組結構具差分(differential)特性，如環境溫度變異之共模(common mode)驅動外力將不產生偏角變化，而可使得致動器承載座端仍具兩自由度出平面或是內平面的上下左右無傾角平行運動特性，適合用於如光開關、可調衰減器、光可調濾波器、可調面發光雷射、光柵調變器、微光顯示器及射頻開關等光學微機電元件中。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

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一種高速假撚方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207547 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 \| 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 @ 技術司專利資料集
增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 @ 技術司專利資料集
熱管均熱板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 226177 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張長生、楊書榮 @ 技術司專利資料集
一種資料通訊的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6496481 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 @ 技術司專利資料集
Optical Disk Control Mechanism	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6665253 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 \| 專利發明人: 藍永松、張啟伸 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 德國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 英國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 @ 技術司專利資料集
萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 157850 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 \| 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 @ 技術司專利資料集

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噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98118397.2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳
噴墨印頭的結構與製作方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98124126.3 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨
一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00100896.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超
可精確測量加熱元件溫度的噴墨打印頭及其測量方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00100897.8 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 蘇士豪
精確量測噴墨印頭加熱元件溫度的方法和結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189849 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 蘇士豪
噴墨頭墨水壓力控制裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00100898.6 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝樹崢, 蘇士豪, 許成偉, 陳錦泰, 侯怡仲, 王介文
噴墨印頭芯片及噴墨印頭壽命與缺陷的檢測方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00106427.4 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 李明玲, 藍元亮, 呂志平, 鄭陳煜
一種噴墨匣的噴墨頭晶片的封裝方法及封裝構造	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01102417.8 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 蘇士豪, 王介文, 呂志平
安排噴墨頭的噴孔的方法及其構造	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01109007.3 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 張輝煌, 黃友澤
一種熱氣泡噴墨印頭的制法及其結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01100028.7 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 武東星, 鄭陳煜, 胡紀平, 吳義勇, 李憶興
多色階噴墨頭晶片結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01109057.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 邱慶龍, 蘇士豪
噴墨筆的墨水壓力調節裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01103984.1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 侯怡仲, 王介文, 藍元亮
噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,666,545 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 張智超, 胡紀平, 陳俊融
壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,644,795 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林順泉, 張智超, 蘇士豪, 陳俊融, 李柏勳, 羅啟賓
微流模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 186642 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊進成, 毛慶宜, 吳周霖

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