雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL02103426.5, 專利性質是發明, 執行單位是工研院光電所, 產出年度是94, 計畫名稱是前瞻光資訊系統技術發展計畫, 專利發明人是林明慧、劉通發.

序號1637
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱前瞻光資訊系統技術發展計畫
專利發明人林明慧 | 劉通發
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL02103426.5
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置,利用一光源投射於待測物上,再以電子取像裝置如電荷偶合元件(Charge Coupled Device,CCD)照相機攝取該雷射影像後,計算該雷射上各點的座標位置,其中,本發明使用一曲面反射鏡或一遠心柱面透鏡組來調變雷射投射方向的影像縮放倍率,並藉由一柱面透鏡組來調變雷射寬度方向的影像縮放倍率,改善量測時因距離增加而降低解析度的問題,並在精密光學分析設計後,更可將CCD照相機的可視範圍變為有效的量測深度。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)

序號

1637

產出年度

94

領域別

(空)

專利名稱-中文

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

執行單位

工研院光電所

產出單位

(空)

計畫名稱

前瞻光資訊系統技術發展計畫

專利發明人

林明慧 | 劉通發

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL02103426.5

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係提供一種雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置,利用一光源投射於待測物上,再以電子取像裝置如電荷偶合元件(Charge Coupled Device,CCD)照相機攝取該雷射影像後,計算該雷射上各點的座標位置,其中,本發明使用一曲面反射鏡或一遠心柱面透鏡組來調變雷射投射方向的影像縮放倍率,並藉由一柱面透鏡組來調變雷射寬度方向的影像縮放倍率,改善量測時因距離增加而降低解析度的問題,並在精密光學分析設計後,更可將CCD照相機的可視範圍變為有效的量測深度。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電,95年改為電資通光

特殊情形

(空)

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雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201010 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧 | 劉通發

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雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201010 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧 | 劉通發

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一種高速假撚方法

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇 | 李榮賢 | 陳棓煌

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 226177 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生 | 楊書榮

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6496481 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲 | 馬金溝

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Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6665253 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 張啟伸

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 157850 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅 | 李連滋 | 邱惜禾 | 劉惠儒 | 姚心然

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一種高速假撚方法

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 157850 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅 | 李連滋 | 邱惜禾 | 劉惠儒 | 姚心然

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檢測信號抖動的系統及其校正方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190527 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王金印 | 王吉祥 | 黃兆銘 | 盧樹台

多波長之光學讀寫頭

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191310 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 施錫富 | 盧威志

多層薄盤壓電致動式超音波馬達

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204230 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 黃晉興 | 張吉龍 | 歐陽敏盛 | 黃友謙 | 游祥杰 | 黃振源 | 鄭尊仁 | 朱朝居

多層薄盤壓電致動式超音波馬達

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,717,331 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 黃晉興 | 張吉龍 | 歐陽敏盛 | 黃友謙 | 游祥杰 | 黃振源 | 鄭尊仁 | 朱朝居

近場光學頭物鏡

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202513 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李源欽 | 朱朝居 | 鄭尊仁 | 廖文毅 | 張吉龍 | 朱志雄 | 邱國基 | 吳至原

多層膜碟片膜層分離裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 187272 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張朝信 | 郭利德 | 馬榮昌 | 張裕修

多層膜碟片膜層分離裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,668,894 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張朝信 | 郭利德 | 馬榮昌 | 張裕修

多層膜資訊儲存媒體之製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190370 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊惠雯 | 廖文毅 | 鄭尊仁 | 黃建喨 | 黃得瑞 | 鄭懷瑜

多層膜資訊儲存媒體之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,797,090 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊惠雯 | 廖文毅 | 鄭尊仁 | 黃建喨 | 黃得瑞 | 鄭懷瑜

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次微米解析度光學同調斷層攝影技術

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多波長之光學讀寫頭

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191310 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 施錫富 | 盧威志

多層薄盤壓電致動式超音波馬達

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204230 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 黃晉興 | 張吉龍 | 歐陽敏盛 | 黃友謙 | 游祥杰 | 黃振源 | 鄭尊仁 | 朱朝居

多層薄盤壓電致動式超音波馬達

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,717,331 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 黃晉興 | 張吉龍 | 歐陽敏盛 | 黃友謙 | 游祥杰 | 黃振源 | 鄭尊仁 | 朱朝居

近場光學頭物鏡

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202513 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李源欽 | 朱朝居 | 鄭尊仁 | 廖文毅 | 張吉龍 | 朱志雄 | 邱國基 | 吳至原

多層膜碟片膜層分離裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 187272 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張朝信 | 郭利德 | 馬榮昌 | 張裕修

多層膜碟片膜層分離裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,668,894 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張朝信 | 郭利德 | 馬榮昌 | 張裕修

多層膜資訊儲存媒體之製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190370 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊惠雯 | 廖文毅 | 鄭尊仁 | 黃建喨 | 黃得瑞 | 鄭懷瑜

多層膜資訊儲存媒體之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,797,090 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊惠雯 | 廖文毅 | 鄭尊仁 | 黃建喨 | 黃得瑞 | 鄭懷瑜

多層膜可蓋寫型資訊儲存媒體

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 197221 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林志銘 | 廖文毅 | 鄭尊仁 | 顏文信 | 楊惠雯

氧化侷限型之垂直共振腔面射型雷射元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192770 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 江文章 | 宋嘉斌 | 楊泓斌 | 尤信介

矽晶基板之微小反射鏡加工法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,695,455 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蘇忠傑

次微米解析度光學同調斷層攝影技術

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I223719 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 孫啟光

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