具有場發射器之平面光源及其製造方法
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專利名稱-中文具有場發射器之平面光源及其製造方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院電光所, 產出年度是95, 專利性質是發明, 計畫名稱是電子與光電領域環境建構計畫, 專利發明人是江良祐、許志榮、張悠揚、李正中, 證書號碼是I259493.

序號2680
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文具有場發射器之平面光源及其製造方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人江良祐、許志榮、張悠揚、李正中
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I259493
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種具有場發射器的平面光源及其製造方法。根據本發明,該平面光源具有一第一基板;複數個第一導體細片;複數個第二導體細片;複數個場發射器;一第二基板;以及一螢光膜。該等複數個第一導體細片係形成於該第一基板上,而且該等複數個第二導體細片係形成於該第一基板之上且被夾放於該等複數個第一導體細片之間。該等複數個場發射器係形成於該等複數個第一導體細片近端處。該第二基板係被黏著至該第一基板且與其分隔,用以於兩者之間形成一腔室;而一螢光膜則形成於該第二基板之內表面上,其面向該等複數個場發射器。A planar light unit provided with field emitters and a method for fabricating the same. According to the present invention, the planar light unit has a first substrate, a plurality of first conductive strips, a plurality of second conductive strips, a plurality of field emitters, a second substrate and a fluorescent film. The plurality of first conductive strips are formed over the first substrate, and the plurality of second conductive strips are formed over the first substrate and interposed inbetween the plurality of first conductive strips. The plurality of field emitters are formed in proximity of the plurality of first conductive strips. The second substrate is provided to be attached to and spaced apart from the first substrate to form a chamber therebetween, whereas a fluorescent film is formed over the interior surface of the second substrate facing the plurality of field emitters.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

2680

產出年度

95

領域別

(空)

專利名稱-中文

具有場發射器之平面光源及其製造方法

執行單位

工研院電光所

產出單位

(空)

計畫名稱

電子與光電領域環境建構計畫

專利發明人

江良祐、許志榮、張悠揚、李正中

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I259493

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明揭示一種具有場發射器的平面光源及其製造方法。根據本發明,該平面光源具有一第一基板;複數個第一導體細片;複數個第二導體細片;複數個場發射器;一第二基板;以及一螢光膜。該等複數個第一導體細片係形成於該第一基板上,而且該等複數個第二導體細片係形成於該第一基板之上且被夾放於該等複數個第一導體細片之間。該等複數個場發射器係形成於該等複數個第一導體細片近端處。該第二基板係被黏著至該第一基板且與其分隔,用以於兩者之間形成一腔室;而一螢光膜則形成於該第二基板之內表面上,其面向該等複數個場發射器。A planar light unit provided with field emitters and a method for fabricating the same. According to the present invention, the planar light unit has a first substrate, a plurality of first conductive strips, a plurality of second conductive strips, a plurality of field emitters, a second substrate and a fluorescent film. The plurality of first conductive strips are formed over the first substrate, and the plurality of second conductive strips are formed over the first substrate and interposed inbetween the plurality of first conductive strips. The plurality of field emitters are formed in proximity of the plurality of first conductive strips. The second substrate is provided to be attached to and spaced apart from the first substrate to form a chamber therebetween, whereas a fluorescent film is formed over the interior surface of the second substrate facing the plurality of field emitters.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電,95年改為電資通光

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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具有場發射器之平面光源及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 江良祐,許志榮,張悠揚,李正中, | 證書號碼: 7,701,128

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具有場發射器之平面光源及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 江良祐,許志榮,張悠揚,李正中, | 證書號碼: 7,701,128

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具有場發射器的平面光源及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 江良祐, 許志榮, 張悠揚, 李正中 | 證書號碼: ZL200510123478.4

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼: 7,413,763

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李正中, 許志榮, 張悠揚, 趙慶勳, 江良祐 | 證書號碼: 4359153

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼: I276140

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李正中、許志榮、張悠揚、趙慶勳、江良祐 | 證書號碼: I231521

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼:

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李正中 ,許志榮 ,張悠揚 ,趙慶勳 ,江良祐 , | 證書號碼: 7,594,841

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具有場發射器的平面光源及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 江良祐, 許志榮, 張悠揚, 李正中 | 證書號碼: ZL200510123478.4

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼: 7,413,763

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李正中, 許志榮, 張悠揚, 趙慶勳, 江良祐 | 證書號碼: 4359153

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼: I276140

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李正中、許志榮、張悠揚、趙慶勳、江良祐 | 證書號碼: I231521

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製作奈米碳管發射源之方法

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 趙慶勳 許志榮 江良祐 張悠揚 李正中 | 證書號碼:

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李正中 ,許志榮 ,張悠揚 ,趙慶勳 ,江良祐 , | 證書號碼: 7,594,841

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 | 證書號碼: 207547

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 | 證書號碼: 207522

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生、楊書榮 | 證書號碼: 226177

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 | 證書號碼: 6496481

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Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松、張啟伸 | 證書號碼: 6665253

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 | 證書號碼: 157850

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 | 證書號碼: 207547

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 | 證書號碼: 207522

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生、楊書榮 | 證書號碼: 226177

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 | 證書號碼: 6496481

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Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松、張啟伸 | 證書號碼: 6665253

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 | 證書號碼: 157850

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一種長管內表面電解拋光裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 | 證書號碼: 218376

一種長管內表面電解拋光裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 | 證書號碼: 6660138

一種金屬內外表面電解拋光裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 吳錦清, 鍾允昇, 涂運泉, 吳清吉, 彭永振 | 證書號碼: 6776884

手持式光纖切割裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李文宇, 周大鑫 | 證書號碼: 6754426

直結式主軸於機台上之安裝機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡垂錫, 黃興杰, 陳義堂 | 證書號碼: 6772660

具位置.速度與力量控制之晶片取放裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃國興, 劉俊賢, 李思慧, 張瀛方, 林宏毅, 徐嘉彬 | 證書號碼: 6651865

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 | 證書號碼: 201594

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 | 證書號碼: 6,746,823

降低鎳基合金鍍層內應力之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如 | 證書號碼: 6699379

球形工件加工裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林衛助, 蔡坤龍 | 證書號碼: 211484

物件與膠膜分離之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏 | 證書號碼: 194407

可三維即時修正之尋光方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 周甘霖, 李閔凱 | 證書號碼: 188264

隔膜閥

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰 | 證書號碼: 218453

二片式繞射/折射複合型成像系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 | 證書號碼: 220699

二片式繞射/折射複合型成像系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 | 證書號碼: 6,724,532

一種長管內表面電解拋光裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 | 證書號碼: 218376

一種長管內表面電解拋光裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 | 證書號碼: 6660138

一種金屬內外表面電解拋光裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 吳錦清, 鍾允昇, 涂運泉, 吳清吉, 彭永振 | 證書號碼: 6776884

手持式光纖切割裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李文宇, 周大鑫 | 證書號碼: 6754426

直結式主軸於機台上之安裝機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡垂錫, 黃興杰, 陳義堂 | 證書號碼: 6772660

具位置.速度與力量控制之晶片取放裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃國興, 劉俊賢, 李思慧, 張瀛方, 林宏毅, 徐嘉彬 | 證書號碼: 6651865

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 | 證書號碼: 201594

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 | 證書號碼: 6,746,823

降低鎳基合金鍍層內應力之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如 | 證書號碼: 6699379

球形工件加工裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林衛助, 蔡坤龍 | 證書號碼: 211484

物件與膠膜分離之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏 | 證書號碼: 194407

可三維即時修正之尋光方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 周甘霖, 李閔凱 | 證書號碼: 188264

隔膜閥

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰 | 證書號碼: 218453

二片式繞射/折射複合型成像系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 | 證書號碼: 220699

二片式繞射/折射複合型成像系統

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 | 證書號碼: 6,724,532

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