微液滴控制裝置、製造方法、控制方法及數位流體檢測平台
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文微液滴控制裝置、製造方法、控制方法及數位流體檢測平台的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是95, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是王俊涵、莊漢聲、楊正財、范光錢、饒達仁, 證書號碼是I262309.

序號2830
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文微液滴控制裝置、製造方法、控制方法及數位流體檢測平台
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人王俊涵、莊漢聲、楊正財、范光錢、饒達仁
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I262309
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種微液滴控制裝置。一介電層位於基板上。一彼此隔離之第一電極及第二電極位於介電層內之不同位置。一微液滴位於介電層表面或其上方,其中第一電極及第二電極間具有相對電壓,以產生對微液滴之趨動力。_x000D_ A droplet controlling apparatus. A dielectric layer is disposed on a substrate. A first electrode and a second electrode are disposed in the dielectric layer, wherein both are isolating with each other. A droplet is disposed on or over the dielectric layer. A relative voltage applies on the first electrode and the second electrode respectively to generate a driving force for the droplet.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

2830

產出年度

95

領域別

(空)

專利名稱-中文

微液滴控制裝置、製造方法、控制方法及數位流體檢測平台

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

王俊涵、莊漢聲、楊正財、范光錢、饒達仁

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I262309

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種微液滴控制裝置。一介電層位於基板上。一彼此隔離之第一電極及第二電極位於介電層內之不同位置。一微液滴位於介電層表面或其上方,其中第一電極及第二電極間具有相對電壓,以產生對微液滴之趨動力。_x000D_ A droplet controlling apparatus. A dielectric layer is disposed on a substrate. A first electrode and a second electrode are disposed in the dielectric layer, wherein both are isolating with each other. A droplet is disposed on or over the dielectric layer. A relative voltage applies on the first electrode and the second electrode respectively to generate a driving force for the droplet.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 | 證書號碼: 207547

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 | 證書號碼: 207522

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生、楊書榮 | 證書號碼: 226177

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 | 證書號碼: 6496481

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Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松、張啟伸 | 證書號碼: 6665253

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 | 證書號碼: 157850

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 | 證書號碼: 207547

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 | 證書號碼: 207522

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生、楊書榮 | 證書號碼: 226177

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 | 證書號碼: 6496481

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松、張啟伸 | 證書號碼: 6665253

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 | 證書號碼: 573696

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 | 證書號碼: 157850

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與微液滴控制裝置、製造方法、控制方法及數位流體檢測平台同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

可調光徑之光學捕捉裙

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益 | 證書號碼: 6,667,838

利用雙波混合干涉術之掃瞄式超音波裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李朱育, 施學兢 | 證書號碼: 194233

全光學激發雷射外調制式之原子鐘裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 姚 鵬, 陳志光 | 證書號碼: 200261

控制奈米碳管長度之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴鴻名, 施能謙, 陳燦林 | 證書號碼: 200165

平面定位機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 張中柱 | 證書號碼: 201505

即時紅外化學影像光譜裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李耀昌, 王浩偉 | 證書號碼: 203435

光譜偏移式奈米近接裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉 | 證書號碼: 200276

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

可調光徑之光學捕捉裙

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益 | 證書號碼: 6,667,838

利用雙波混合干涉術之掃瞄式超音波裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李朱育, 施學兢 | 證書號碼: 194233

全光學激發雷射外調制式之原子鐘裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 姚 鵬, 陳志光 | 證書號碼: 200261

控制奈米碳管長度之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴鴻名, 施能謙, 陳燦林 | 證書號碼: 200165

平面定位機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 張中柱 | 證書號碼: 201505

即時紅外化學影像光譜裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李耀昌, 王浩偉 | 證書號碼: 203435

光譜偏移式奈米近接裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉 | 證書號碼: 200276

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