製作奈米碳管發射源之方法
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專利名稱-中文製作奈米碳管發射源之方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院顯示中心, 產出年度是96, 專利性質是發明, 計畫名稱是影像顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是趙慶勳許志榮江良祐張悠揚李正中, 證書號碼是I276140.

序號	3805
產出年度	96
領域別	(空)
專利名稱-中文	製作奈米碳管發射源之方法
執行單位	工研院顯示中心
產出單位	(空)
計畫名稱	影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人	趙慶勳許志榮江良祐張悠揚李正中
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I276140
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種利用轉寫壓印方法奈米碳管場發射源之方法，至少包含以下步驟:首先網印陰極線於一基板上。接著，形成介電層於陰極線及基板上。隨後，再網印閘極線於介電層上。緊跟著在施以微影及蝕刻技術蝕刻位於閘極線與陰極線的交會處的介電層。之後，再以壓印模具沾粘奈米碳管漿料，以壓印的方法將奈米碳管漿料塗佈於開口內的陰極線上。利用本發明可以有效的控制場發射電子源和閘極的距離，且場發射電子源的形狀都可以得到控制，因此不但可以減少閘極與陰極短路的問題，且可以更有效的提高有效奈米碳管數目及密度，進而提升場發射之電流密度而增進顯示器的均勻度及亮度。最後，再施以照光或退火加熱以除去奈米碳管漿料內的有機物及粘著層。_x000D_
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

3805

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

製作奈米碳管發射源之方法

執行單位

工研院顯示中心

產出單位

(空)

計畫名稱

影像顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

趙慶勳許志榮江良祐張悠揚李正中

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I276140

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種利用轉寫壓印方法奈米碳管場發射源之方法，至少包含以下步驟:首先網印陰極線於一基板上。接著，形成介電層於陰極線及基板上。隨後，再網印閘極線於介電層上。緊跟著在施以微影及蝕刻技術蝕刻位於閘極線與陰極線的交會處的介電層。之後，再以壓印模具沾粘奈米碳管漿料，以壓印的方法將奈米碳管漿料塗佈於開口內的陰極線上。利用本發明可以有效的控制場發射電子源和閘極的距離，且場發射電子源的形狀都可以得到控制，因此不但可以減少閘極與陰極短路的問題，且可以更有效的提高有效奈米碳管數目及密度，進而提升場發射之電流密度而增進顯示器的均勻度及亮度。最後，再施以照光或退火加熱以除去奈米碳管漿料內的有機物及粘著層。_x000D_

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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製作奈米碳管發射源之方法	核准國家: 日本 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 96 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 趙慶勳許志榮江良祐張悠揚李正中 \| 證書號碼: @ 經濟部產業技術司–專利資料集
製作奈米碳管發射源之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 趙慶勳許志榮江良祐張悠揚李正中 \| 證書號碼: 7,413,763 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法	核准國家: 日本 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 98 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 李正中, 許志榮, 張悠揚, 趙慶勳, 江良祐 \| 證書號碼: 4359153 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李正中、許志榮、張悠揚、趙慶勳、江良祐 \| 證書號碼: I231521 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
內建光罩之奈米碳管場發射顯示器下板的結構與製作方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 李正中 ,許志榮 ,張悠揚 ,趙慶勳 ,江良祐 , \| 證書號碼: 7,594,841 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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一種高速假撚方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 \| 專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬 \| 證書號碼: 207547 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌 \| 證書號碼: 207522 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
熱管均熱板	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張長生、楊書榮 \| 證書號碼: 226177 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
一種資料通訊的方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳炯憲、馬金溝 \| 證書號碼: 6496481 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
Optical Disk Control Mechanism	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 \| 專利發明人: 藍永松、張啟伸 \| 證書號碼: 6665253 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 德國 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 \| 證書號碼: 573696 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 英國 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文 \| 證書號碼: 573696 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院生醫中心 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 \| 專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然 \| 證書號碼: 157850 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

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熱管均熱板

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一種資料通訊的方法

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Optical Disk Control Mechanism

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時序還原之方法與系統

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時序還原之方法與系統

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

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應用於工具機直結式主軸之鬆刀機構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 胡志揚, 黃鴻傑, 張恩生, 蔡坤龍 \| 證書號碼: 6,675,683
旋轉蝕刻機用之化學液回收再生裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 江源遠, 董福慶, 王家康, P. Mahneke \| 證書號碼: 6712926
熱幅射式鑽石薄膜化學研磨拋光裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 謝浚豪, 賴華堂, 張永明, 林宏彝 \| 證書號碼: 211401
一種長管內表面電解拋光裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 \| 證書號碼: 218376
一種長管內表面電解拋光裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 鍾允昇, 吳錦清, 陳裕豐, 王漢聰 \| 證書號碼: 6660138
一種金屬內外表面電解拋光裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林春宏, 吳錦清, 鍾允昇, 涂運泉, 吳清吉, 彭永振 \| 證書號碼: 6776884
手持式光纖切割裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 李文宇, 周大鑫 \| 證書號碼: 6754426
直結式主軸於機台上之安裝機構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡垂錫, 黃興杰, 陳義堂 \| 證書號碼: 6772660
具位置.速度與力量控制之晶片取放裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃國興, 劉俊賢, 李思慧, 張瀛方, 林宏毅, 徐嘉彬 \| 證書號碼: 6651865
無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 \| 證書號碼: 201594
無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 \| 證書號碼: 6,746,823
降低鎳基合金鍍層內應力之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如 \| 證書號碼: 6699379
球形工件加工裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林衛助, 蔡坤龍 \| 證書號碼: 211484
物件與膠膜分離之方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏 \| 證書號碼: 194407
可三維即時修正之尋光方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 周甘霖, 李閔凱 \| 證書號碼: 188264

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