微型圖像的製作方法
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專利名稱-中文微型圖像的製作方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I294529, 專利性質是發明, 執行單位是工研院南分院, 產出年度是97, 計畫名稱是雷射創新應用技術關鍵計畫, 專利發明人是陳錦泰邱慶龍洪基彬.

序號	4329
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	微型圖像的製作方法
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	雷射創新應用技術關鍵計畫
專利發明人	陳錦泰邱慶龍洪基彬
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I294529
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種微型圖像的製作方法，包括下列步驟：提供一清潔無污染之媒介物體；將光阻材料之微流體佈著於媒介物體的表面而形成一第一微流體層；以及利用一第一光罩對第一微流體層進行曝光與顯影，並獲得所欲之精確的微型圖像。其中，第一微流體層顯影前的寬度大於第一微流體層顯影後之微型圖像的寬度，而且，第一微流體層顯影前的高度大於第一微流體層顯影後之微型圖像的高度。 A preferred embodiment of the method of forming a micro pattern according to the invention comprises the following steps: providing a substrate
技術摘要-英文	forming a first micro-fluid layer of photo resist material on the substrate
聯絡人員	providing a first photo mask
電話	and exposing the first micro-fluid layer to illuminate via the first photo mask to form a micro pattern. The dimension of the first micro-fluid layer is larger than that of the micro pattern. The preferred embodiment further comprises the following steps: forming a gap in the first micro-fluid layer
傳真	forming a second micro-fluid layer of photo resistance material in the gap
電子信箱	providing a second photo mask
參考網址	http://and exposing the second micro-fluid layer to illuminate via the second photo mask. The first micro-fluid layer can be configured in a line pattern or a frame pattern by continuously disposing a plurality of partially overlapping micro-fluid drops on the substrate. Another preferred embodiment of method of forming a micro pattern comprises the following steps: providing a substrate
備註	forming a plurality of micro-fluid layers corresponding to various photo resist materials with different color in different positions on the substrate
特殊情形	providing a photo mask

序號

4329

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

微型圖像的製作方法

執行單位

工研院南分院

產出單位

(空)

計畫名稱

雷射創新應用技術關鍵計畫

專利發明人

陳錦泰邱慶龍洪基彬

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I294529

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種微型圖像的製作方法，包括下列步驟：提供一清潔無污染之媒介物體；將光阻材料之微流體佈著於媒介物體的表面而形成一第一微流體層；以及利用一第一光罩對第一微流體層進行曝光與顯影，並獲得所欲之精確的微型圖像。其中，第一微流體層顯影前的寬度大於第一微流體層顯影後之微型圖像的寬度，而且，第一微流體層顯影前的高度大於第一微流體層顯影後之微型圖像的高度。 A preferred embodiment of the method of forming a micro pattern according to the invention comprises the following steps: providing a substrate

技術摘要-英文

forming a first micro-fluid layer of photo resist material on the substrate

聯絡人員

providing a first photo mask

電話

and exposing the first micro-fluid layer to illuminate via the first photo mask to form a micro pattern. The dimension of the first micro-fluid layer is larger than that of the micro pattern. The preferred embodiment further comprises the following steps: forming a gap in the first micro-fluid layer

傳真

forming a second micro-fluid layer of photo resistance material in the gap

電子信箱

providing a second photo mask

參考網址

http://and exposing the second micro-fluid layer to illuminate via the second photo mask. The first micro-fluid layer can be configured in a line pattern or a frame pattern by continuously disposing a plurality of partially overlapping micro-fluid drops on the substrate. Another preferred embodiment of method of forming a micro pattern comprises the following steps: providing a substrate

備註

forming a plurality of micro-fluid layers corresponding to various photo resist materials with different color in different positions on the substrate

特殊情形

providing a photo mask

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微型圖像的制作方法

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