聚氨基甲酸酯薄膜與其製程
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文聚氨基甲酸酯薄膜與其製程的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是97, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是蒯德榮陳瑞鑫溫佳玲沈永清張義和, 證書號碼是I303642.

序號	4824
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	聚氨基甲酸酯薄膜與其製程
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	蒯德榮陳瑞鑫溫佳玲沈永清張義和
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I303642
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種聚氨基甲酸酯薄膜，其表/內層間包含複數個孔隙。本發明另提供一種聚氨基甲酸酯薄膜之製程。 A polyurethane film. The polyurethane film includes a plurality of pores distributed from surface to interior. The invention also provides a method of fabricating the polyurethane film.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	0
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

4824

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

聚氨基甲酸酯薄膜與其製程

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

蒯德榮陳瑞鑫溫佳玲沈永清張義和

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I303642

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種聚氨基甲酸酯薄膜，其表/內層間包含複數個孔隙。本發明另提供一種聚氨基甲酸酯薄膜之製程。 A polyurethane film. The polyurethane film includes a plurality of pores distributed from surface to interior. The invention also provides a method of fabricating the polyurethane film.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 \| 證書號碼: I321313 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
植入奈米碳管之製程方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 , \| 證書號碼: I321123 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲 \| 證書號碼: 7,904,736 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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通訊網路下之行動管理方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫 \| 專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌 \| 證書號碼: I321411 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
靜電放電防護電路	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳世宏, 柯明道 \| 證書號碼: 7,692,907 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
直流偏移消除電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 高小文 \| 證書號碼: I320993 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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噴墨印頭的封裝方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 藍元亮, 吳義勇, 邱紹玲, 劉克明, 鄭淑娟 \| 證書號碼: ZL98106298.9
噴墨印頭結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 \| 證書號碼: ZL98116196.0
墨水通道設計	核准國家: 德國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 \| 證書號碼: 19914700
墨水通道製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 王介文, 吳義勇, 胡鴻烈, 李明玲 \| 證書號碼: ZL98115179.5
噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳 \| 證書號碼: ZL98118397.2
噴墨印頭的結構與製作方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨 \| 證書號碼: ZL98124126.3
一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超 \| 證書號碼: ZL00100896.X
可精確測量加熱元件溫度的噴墨打印頭及其測量方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 蘇士豪 \| 證書號碼: ZL00100897.8
精確量測噴墨印頭加熱元件溫度的方法和結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 蘇士豪 \| 證書號碼: 189849
噴墨頭墨水壓力控制裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝樹崢, 蘇士豪, 許成偉, 陳錦泰, 侯怡仲, 王介文 \| 證書號碼: ZL00100898.6
噴墨印頭芯片及噴墨印頭壽命與缺陷的檢測方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 李明玲, 藍元亮, 呂志平, 鄭陳煜 \| 證書號碼: ZL00106427.4
一種噴墨匣的噴墨頭晶片的封裝方法及封裝構造	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 蘇士豪, 王介文, 呂志平 \| 證書號碼: ZL01102417.8
安排噴墨頭的噴孔的方法及其構造	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 張輝煌, 黃友澤 \| 證書號碼: ZL01109007.3
一種熱氣泡噴墨印頭的制法及其結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 武東星, 鄭陳煜, 胡紀平, 吳義勇, 李憶興 \| 證書號碼: ZL01100028.7
多色階噴墨頭晶片結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 邱慶龍, 蘇士豪 \| 證書號碼: ZL01109057.X

聚氨基甲酸酯薄膜與其製程 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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領域別

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執行單位

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