具有紅外線遮蔽能力之硬化層、其製造方法及包含其之複合膜
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專利名稱-中文具有紅外線遮蔽能力之硬化層、其製造方法及包含其之複合膜的核准國家是日本, 證書號碼是4327189, 專利性質是發明, 執行單位是工研院材化所, 產出年度是98, 計畫名稱是精密化學材料技術及應用開發四年計畫, 專利發明人是王武敬, 蔡哲宇, 陳重裕.

序號	5169
產出年度	98
領域別	(空)
專利名稱-中文	具有紅外線遮蔽能力之硬化層、其製造方法及包含其之複合膜
執行單位	工研院材化所
產出單位	(空)
計畫名稱	精密化學材料技術及應用開發四年計畫
專利發明人	王武敬 \| 蔡哲宇 \| 陳重裕
核准國家	日本
獲證日期	(空)
證書號碼	4327189
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種具有紅外線遮蔽能力之硬化層，係經下列步驟後所得:首先，將一多官能基樹脂、一紅外線遮蔽粒子、及一自由基起始劑均勻分散於一溶劑中，形成一組合物。接著，將該組合物塗佈於一基底上，以形成一塗層。最後，硬化該塗層，形成一具有紅外線遮蔽之硬化層。值得注意的是，該紅外線遮蔽粒子與該多官能基樹脂之重量比係介於10:90至55:45之間。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	20100433-Joanne
特殊情形	(空)

序號

5169

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

具有紅外線遮蔽能力之硬化層、其製造方法及包含其之複合膜

執行單位

工研院材化所

產出單位

(空)

計畫名稱

精密化學材料技術及應用開發四年計畫

專利發明人

王武敬 | 蔡哲宇 | 陳重裕

核准國家

日本

獲證日期

(空)

證書號碼

4327189

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種具有紅外線遮蔽能力之硬化層，係經下列步驟後所得:首先，將一多官能基樹脂、一紅外線遮蔽粒子、及一自由基起始劑均勻分散於一溶劑中，形成一組合物。接著，將該組合物塗佈於一基底上，以形成一塗層。最後，硬化該塗層，形成一具有紅外線遮蔽之硬化層。值得注意的是，該紅外線遮蔽粒子與該多官能基樹脂之重量比係介於10:90至55:45之間。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

20100433-Joanne

特殊情形

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揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810211084.8 \| 專利期間起: 102/01/23 \| 專利期間訖: 117/08/19 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , @ 技術司專利資料集
晶圓級模封接合結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,384,215 \| 專利期間起: 102/02/26 \| 專利期間訖: 120/06/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 @ 技術司專利資料集
感測裝置及其掃描驅動方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,416,213 \| 專利期間起: 102/04/09 \| 專利期間訖: 120/03/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 @ 技術司專利資料集
揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 \| 專利期間起: 102/03/20 \| 專利期間訖: 116/10/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 \| 專利期間起: 102/04/03 \| 專利期間訖: 118/05/25 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,391,520 \| 專利期間起: 102/03/05 \| 專利期間訖: 120/12/15 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I402456 \| 專利期間起: 102/07/21 \| 專利期間訖: 119/03/16 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 @ 技術司專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,940,333 \| 專利期間起: 104/01/27 \| 專利期間訖: 116/05/11 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 @ 技術司專利資料集

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一種熱氣泡噴墨印頭的制法及其結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01100028.7 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 武東星, 鄭陳煜, 胡紀平, 吳義勇, 李憶興
多色階噴墨頭晶片結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01109057.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 邱慶龍, 蘇士豪
噴墨筆的墨水壓力調節裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01103984.1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 侯怡仲, 王介文, 藍元亮
噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,666,545 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 張智超, 胡紀平, 陳俊融
壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,644,795 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林順泉, 張智超, 蘇士豪, 陳俊融, 李柏勳, 羅啟賓
微流模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 186642 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊進成, 毛慶宜, 吳周霖
生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191424 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 蘇士豪, 楊孟達, 劉健群, 張智超
以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198956 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融
產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206612 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪, 陳俊融
應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195330 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 陳俊融, 胡紀平
噴墨頭晶片結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220131 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉健群, 陳俊融
反射式液晶投影顯示器之光學引擎	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184615 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 詹勝雄, 沈偉, 莊福明
液晶投影機之冷卻裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193369 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李文宗, 張淵仁
無鬼影之背投影顯示螢幕	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193378 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林晃巖, 黎邦, 田萬頂
視差屏障式裸眼立體顯示裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,727,866 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 王迺岳, 李獻仁, 蔡朝旭

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