抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院材化所, 產出年度是99, 專利性質是發明, 計畫名稱是精密化學材料技術及應用開發四年計畫, 專利發明人是王武敬 ,王彥博 ,李雲卿 ,陳重裕 ,施希弦 ,, 證書號碼是7,659,352.

序號	6458
產出年度	99
領域別	材料化工
專利名稱-中文	抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法
執行單位	工研院材化所
產出單位	(空)
計畫名稱	精密化學材料技術及應用開發四年計畫
專利發明人	王武敬 ,王彥博 ,李雲卿 ,陳重裕 ,施希弦 ,
核准國家	美國
獲證日期	99/04/20
證書號碼	7,659,352
專利期間起	99/02/09
專利期間訖	116/07/17
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法。該抗反射塗佈組合物具有一起始劑及一含氧化物凝膠，其中該含氧化物凝膠包含一具有可聚合官能基之凝膠粒子(colloid particles)，該抗反射塗佈組合物所形成之膜層係由該凝膠粒子堆疊而成，故具有複數個奈米孔洞，且可進一步導入含氟之官能基，大幅降低薄膜的有效折射率(neff)至1.45以下，並使得該薄膜之反射率係不大於3%。此外，由於該凝膠粒子具有可聚合之官能基，可使凝膠粒子互相交聯，故該抗反射膜層展現極佳的機械強度及硬度，適合作為顯示裝置的抗反射膜層。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

6458

產出年度

領域別

材料化工

專利名稱-中文

抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法

執行單位

工研院材化所

產出單位

(空)

計畫名稱

精密化學材料技術及應用開發四年計畫

專利發明人

王武敬 ,王彥博 ,李雲卿 ,陳重裕 ,施希弦 ,

核准國家

美國

獲證日期

99/04/20

證書號碼

7,659,352

專利期間起

99/02/09

專利期間訖

116/07/17

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法。該抗反射塗佈組合物具有一起始劑及一含氧化物凝膠，其中該含氧化物凝膠包含一具有可聚合官能基之凝膠粒子(colloid particles)，該抗反射塗佈組合物所形成之膜層係由該凝膠粒子堆疊而成，故具有複數個奈米孔洞，且可進一步導入含氟之官能基，大幅降低薄膜的有效折射率(neff)至1.45以下，並使得該薄膜之反射率係不大於3%。此外，由於該凝膠粒子具有可聚合之官能基，可使凝膠粒子互相交聯，故該抗反射膜層展現極佳的機械強度及硬度，適合作為顯示裝置的抗反射膜層。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

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抗反射塗布組合物、其所形成的膜層及其制造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院材化所 \| 產出年度: 98 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 \| 專利發明人: 王武敬, 王彥博, 李雲卿, 陳重裕, 施希弦 \| 證書號碼: ZL200510071894.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

抗反射塗佈組合物、其所形成之膜層及其製造方法

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三維納米多孔薄膜及其制造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院材化所 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 \| 專利發明人: 王武敬王彥博李雲卿陳重裕施希弦陳先彬 \| 證書號碼: ZL200510071892.5 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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一種全光域,高密度,高解析度,高倍速,高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層設計及其匹配材料	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 張育嘉, 鄭竹軒, 周瑞崇, 柯文揚 \| 證書號碼: ZL00109664.8
在多層電路板中形成接觸孔之方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳曼玲, 林顯光, 邱創新, 謝添壽, 劉佩青 \| 證書號碼: 6632372
具有三明治結構的陶瓷生胚	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭世裕, 張鳴助, 王譯慧 \| 證書號碼: 220426
超高解析度可錄式光碟片	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐偉智, 蔡松雨, 曾美榕, 許世朋, 洪添燦, 郭博成 \| 證書號碼: 220834
高密度可錄式光碟片用之新型記錄層染料	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 蔡松雨, 洪添燦, 許世朋, 姜皞先 \| 證書號碼: 204070
全光域、高密度、高解析度、高倍速及高相容性之可錄式光記錄媒體之膜層	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 張育嘉, 鄭竹軒, 周瑞崇, 柯文揚 \| 證書號碼: 6811948
單體電子元件結構之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 林鴻欽, 石啟仁, 葉信賢, 林慧霓, 施劭儒 \| 證書號碼: 183802
電路基板用樹脂組成物	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉淑芬, 陳孟暉, 金進興, 潘金平 \| 證書號碼: 196551
光資訊記錄媒體	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 徐偉智, 程順德, 蔡松雨, 曾美榕 \| 證書號碼: 6713148
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正型光敏感性組成物、其製成物及其光阻圖形之形成方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 許聯崇, 金進興, 李柏毅, 鄭志龍 \| 證書號碼: 6670090
無鹵無磷難燃環氧樹脂半固化物及難燃環氧樹脂組成物	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 邱國展, 李宗銘, 曾峰柏, 廖如仕, 黃佳祺, 林慈婷 \| 證書號碼: 207086
高精度低溫共燒陶瓷之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳聰文, 鄧文浩, 傅坤福, 張麗玲 \| 證書號碼: 189799
電漿顯示器背板結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 邱國創, 林江財, 曾英蘭 \| 證書號碼: 195305
電路基板用樹脂組成物	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉淑芬, 陳孟暉, 金進興, 潘金平 \| 證書號碼: 6,780,943

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領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

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