微位相差板之製造系統及製造方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文微位相差板之製造系統及製造方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是100, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是蔡朝旭,黃國忠,呂春福, 證書號碼是7,842,201.

序號	8027
產出年度	100
領域別	創新前瞻
專利名稱-中文	微位相差板之製造系統及製造方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院院本部
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	蔡朝旭,黃國忠,呂春福
核准國家	美國
獲證日期	100/02/16
證書號碼	7,842,201
專利期間起	99/11/30
專利期間訖	117/08/20
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種微位相差板之製造系統及製造方法。微位相差板之製造系統包括一承載裝置、一加熱裝置及一移動控制裝置。承載裝置用以承載一高分子薄膜。高分子薄膜具有一高分子排列方向。加熱裝置用以提供一加熱源，加熱源之中央處的能量小於加熱源之邊緣處的能量。移動控制裝置用以控制加熱源及高分子薄膜沿一第一方向相對移動，以使調整後之加熱源沿第一方向對高分子薄膜之至少一局部區域加熱，並改變此局部區域之高分子排列方向。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

8027

產出年度

100

領域別

創新前瞻

專利名稱-中文

微位相差板之製造系統及製造方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院院本部

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

蔡朝旭,黃國忠,呂春福

核准國家

美國

獲證日期

100/02/16

證書號碼

7,842,201

專利期間起

99/11/30

專利期間訖

117/08/20

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種微位相差板之製造系統及製造方法。微位相差板之製造系統包括一承載裝置、一加熱裝置及一移動控制裝置。承載裝置用以承載一高分子薄膜。高分子薄膜具有一高分子排列方向。加熱裝置用以提供一加熱源，加熱源之中央處的能量小於加熱源之邊緣處的能量。移動控制裝置用以控制加熱源及高分子薄膜沿一第一方向相對移動，以使調整後之加熱源沿第一方向對高分子薄膜之至少一局部區域加熱，並改變此局部區域之高分子排列方向。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

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微位相差板之製造系統及製造方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蔡朝旭,黃國忠,呂春福, \| 證書號碼: 7,841,847 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微位相差板之製造系統及製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蔡朝旭 ,黃國忠 ,呂春福 , \| 證書號碼: I413801 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微位相差板的制造系統及制造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蔡朝旭,黃國忠,呂春福, \| 證書號碼: ZL200810008789.X @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: 8,391,520 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳 \| 證書號碼: ZL98118397.2
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安排噴墨頭的噴孔的方法及其構造	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 張輝煌, 黃友澤 \| 證書號碼: ZL01109007.3
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噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏, 劉健群, 張智超, 胡紀平, 陳俊融 \| 證書號碼: 6,666,545
壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林順泉, 張智超, 蘇士豪, 陳俊融, 李柏勳, 羅啟賓 \| 證書號碼: 6,644,795
微流模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊進成, 毛慶宜, 吳周霖 \| 證書號碼: 186642

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