半導體結構及其製造方法
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專利名稱-中文半導體結構及其製造方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是101, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是林哲歆,顧子琨, 證書號碼是8309402.

序號	9502
產出年度	101
領域別	創新前瞻
專利名稱-中文	半導體結構及其製造方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院院本部
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	林哲歆,顧子琨
核准國家	美國
獲證日期	101/12/11
證書號碼	8309402
專利期間起	101/11/13
專利期間訖	120/05/26
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種半導體結構及其製造方法。此製造方法包括提供基底，其具有上表面以及下表面。在基底中形成多個第一開口，且所述第一開口從上表面往基底內延伸。進行氧化程序，以使具有第一開口之基底部分氧化，以形成氧化材料層，其中氧化材料層中具有多個第二開口。在第二開口內填入導電材料，以形成多個導電柱。在氧化材料層上形成第一元件層，其與導電柱之部份或全部電性連接。對基底之下表面進行薄化程序，直到導電柱以及氧化材料層暴露出來。在被暴露出來的氧化材料層上形成第二元件層，其與被暴露出來的導電柱之部份或全部電性連接。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

9502

產出年度

101

領域別

創新前瞻

專利名稱-中文

半導體結構及其製造方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院院本部

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

林哲歆,顧子琨

核准國家

美國

獲證日期

101/12/11

證書號碼

8309402

專利期間起

101/11/13

專利期間訖

120/05/26

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種半導體結構及其製造方法。此製造方法包括提供基底，其具有上表面以及下表面。在基底中形成多個第一開口，且所述第一開口從上表面往基底內延伸。進行氧化程序，以使具有第一開口之基底部分氧化，以形成氧化材料層，其中氧化材料層中具有多個第二開口。在第二開口內填入導電材料，以形成多個導電柱。在氧化材料層上形成第一元件層，其與導電柱之部份或全部電性連接。對基底之下表面進行薄化程序，直到導電柱以及氧化材料層暴露出來。在被暴露出來的氧化材料層上形成第二元件層，其與被暴露出來的導電柱之部份或全部電性連接。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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具有應力吸收緩衝層之半導體結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 中科院材料暨光電研究所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 \| 專利發明人: 張國仁、林家慶 \| 證書號碼: I457985 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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半導體結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林哲歆 ,顧子琨 \| 證書號碼: I416679 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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具有應力吸收緩衝層之半導體結構及其製造方法

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基底穿孔的製造方法、矽穿孔結構及其電容控制方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光系統所 \| 產出年度: 105 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: 陳邇浩 ,林哲歆 ,顧子琨 \| 證書號碼: 9,257,322 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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晶片接合結構及其接合方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光系統所 \| 產出年度: 105 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: 陳尚駿 ,林哲歆 ,顧子琨 \| 證書號碼: I534973 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , \| 證書號碼: ZL200810211084.8 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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感測裝置及其掃描驅動方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 \| 證書號碼: 8,416,213 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 \| 證書號碼: 8,391,520 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 \| 證書號碼: I402456 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 \| 證書號碼: 8,940,333 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

近場光學讀寫系統的跟蹤誤差檢測方法與裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 喬作文, 吳國瑞, 黃得瑞 \| 證書號碼: ZL00103540.1
生醫晶片檢測裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 朱朝居, 黃得瑞, 楊子平 \| 證書號碼: 220926
生物芯片的訊號檢測方法與裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 朱朝居, 黃得瑞, 楊子平, 李耀裕, 陳錦森 \| 證書號碼: ZL00130065.2
卡匣活動扇門之開啟裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃安穎, 柯朝元 \| 證書號碼: 6,643,242
導線懸吊型制動器之結構與電流路徑配置方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 柯朝元, 魏立鼎, 何明風 \| 證書號碼: 6,714,491
複合透鏡的制作方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 郭孟鑫, 韓偉國 \| 證書號碼: ZL99118515.3
通用型數字影音錄放裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳國瑞, 桂清平, 黃得瑞, 喬作文, 陳傳章 \| 證書號碼: ZL00118357.5
具有多層記錄層的光碟片的製作方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃得瑞, 蔣東堯, 鄭尊仁, 應台發, 林耕華 \| 證書號碼: ZL99111450.7
可擦拭之光學記錄材料	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳至原, 莊永欽, 蔣東堯, 鄭尊仁, 姚永德, 黃得瑞, 陳雲嬌, 顏文信 \| 證書號碼: 189318
以旋鍍模壓方式製作多層光學記錄媒體的方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃得瑞 \| 證書號碼: ZL00109085.2
多層光信息記錄載體的製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 廖文毅, 黃得瑞, 鄭尊仁, 黃建喨, 楊惠雯, 顏伯甫 \| 證書號碼: ZL00130277.9
多層光資訊記錄載體的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 廖文毅, 黃得瑞, 鄭尊仁, 黃建喨, 楊惠雯, 顏伯甫 \| 證書號碼: 192474
資料儲存媒體用之花青TCNQ錯化合物色素	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 廖文毅, 黃建喨, 顏春福, 楊惠雯, 鄭尊仁, 黃得瑞, 胡德, 李明家, 李重君 \| 證書號碼: 190485
喜好色調之色彩轉換方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳君彥 \| 證書號碼: 190237
適用於校正雷射三次元量測器之方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 羅文秀, 林明慧 \| 證書號碼: 191497

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