觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法
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專利名稱-中文觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL201010223129.0, 專利期間起是101/10/10, 專利期間訖是119/07/11, 專利性質是發明, 執行單位是工研院南分院, 產出年度是101, 計畫名稱是南部新興產業發展關鍵技術計畫, 專利發明人是葉紹興,郭乃豪,沈煜棠.

序號	10729
產出年度	101
領域別	機械運輸
專利名稱-中文	觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法
執行單位	工研院南分院
產出單位	工研院南分院
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
專利發明人	葉紹興 \| 郭乃豪 \| 沈煜棠
核准國家	中國大陸
獲證日期	101/11/15
證書號碼	ZL201010223129.0
專利期間起	101/10/10
專利期間訖	119/07/11
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種觸壓裝置、透明掃描電極及其幾何電極結構製造方法。透明掃描電極結構包括第一透明掃描電極、第二透明掃描電極及絕緣層。第一透明掃描電極包括低電阻區及高電阻區。高電阻區之電阻值係大於低電阻區。絕緣層係位於第一透明掃描電極及第二透明掃描電極之間。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

10729

產出年度

101

領域別

機械運輸

專利名稱-中文

觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法

執行單位

工研院南分院

產出單位

工研院南分院

計畫名稱

南部新興產業發展關鍵技術計畫

專利發明人

葉紹興 | 郭乃豪 | 沈煜棠

核准國家

中國大陸

獲證日期

101/11/15

證書號碼

ZL201010223129.0

專利期間起

101/10/10

專利期間訖

119/07/11

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種觸壓裝置、透明掃描電極及其幾何電極結構製造方法。透明掃描電極結構包括第一透明掃描電極、第二透明掃描電極及絕緣層。第一透明掃描電極包括低電阻區及高電阻區。高電阻區之電阻值係大於低電阻區。絕緣層係位於第一透明掃描電極及第二透明掃描電極之間。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

(空)

特殊情形

(空)

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觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I402740 \| 專利期間起: 102/07/21 \| 專利期間訖: 119/04/18 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 葉紹興 ,郭乃豪 ,沈煜棠 @ 技術司專利資料集
觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,558,722 \| 專利期間起: 102/10/15 \| 專利期間訖: 120/09/12 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 葉紹興 ,郭乃豪 ,沈煜棠 @ 技術司專利資料集
觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8558722 \| 專利期間起: 102/10/15 \| 專利期間訖: 120/09/12 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 葉紹興 ,郭乃豪 ,沈煜棠 @ 技術司專利資料集

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揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810211084.8 \| 專利期間起: 102/01/23 \| 專利期間訖: 117/08/19 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , @ 技術司專利資料集
晶圓級模封接合結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,384,215 \| 專利期間起: 102/02/26 \| 專利期間訖: 120/06/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 @ 技術司專利資料集
感測裝置及其掃描驅動方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,416,213 \| 專利期間起: 102/04/09 \| 專利期間訖: 120/03/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 @ 技術司專利資料集
揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 \| 專利期間起: 102/03/20 \| 專利期間訖: 116/10/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 \| 專利期間起: 102/04/03 \| 專利期間訖: 118/05/25 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,391,520 \| 專利期間起: 102/03/05 \| 專利期間訖: 120/12/15 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 @ 技術司專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I402456 \| 專利期間起: 102/07/21 \| 專利期間訖: 119/03/16 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 @ 技術司專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,940,333 \| 專利期間起: 104/01/27 \| 專利期間訖: 116/05/11 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 @ 技術司專利資料集

揚聲器單體結構

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晶圓級模封接合結構及其製造方法

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感測裝置及其掃描驅動方法

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

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照明裝置

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Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same

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耐濕性二硫化鉬固體潤滑膜及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189442 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 李新中、楊玉森、卓廷彬
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用於物理氣相沉積之金屬化靶	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197561 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文、劉伍健、卓廷彬、楊玉森
鈦金屬表面氧化層之清除方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195370 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 羅家軒
用於工件表面之具有低沾黏及低摩擦之鍍膜	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 199489 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文、邱松茂、羅萬中
非金屬基材表面之多層金屬鍍膜及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207037 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文、劉伍健、卓廷彬、楊玉森
具有輔助磁極組之磁控靶源裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 210407 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 劉伍健、楊玉森
鎳合金電鑄手指手套模具之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184907 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 張瑞模、陳建仁、蔡兆豐、陳正義、鄭勝元
球閥耐火結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211530 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱、江文欽
模具內傳送機構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214980 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林志浩、蔡行知、魏江銘
球閥結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220003 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 江文欽、林庭凱
用於物理氣相沉積之金屬化銦錫氧化物靶	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195390 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文、楊玉森、邱松茂
U形支架式具位置指示之閥手輪	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 222536 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 仲之豪、林進順
球閥結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 634651 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 江文欽、林庭凱
球閥防火結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 634266 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱、江文欽

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