ApparatusofcontinuouslymanufacturingstoichiometricMG2NIhydrogenstoragecompound
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文ApparatusofcontinuouslymanufacturingstoichiometricMG2NIhydrogenstoragecompound的核准國家是美國, 執行單位是中科院材料所, 產出年度是101, 專利性質是發明, 計畫名稱是CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫, 專利發明人是伍員鵬, 證書號碼是8137612B2.

序號10753
產出年度101
領域別機械運輸
專利名稱-中文ApparatusofcontinuouslymanufacturingstoichiometricMG2NIhydrogenstoragecompound
執行單位中科院材料所
產出單位中科院五所
計畫名稱CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫
專利發明人伍員鵬
核准國家美國
獲證日期101/03/20
證書號碼8137612B2
專利期間起101/03/20
專利期間訖121/03/19
專利性質發明
技術摘要-中文先將鎂原料置放坩鍋中,並以?性氣體充入熔爐中,再使熔爐加熱熔解鎂金屬,再利用進料系統加入鎳原料,並以攪拌器充分攪拌,當MG2NI合金形成固相沉積後,將坩鍋中的熔液倒至另一組坩鍋中以分離液固相合金,再以坩鍋換置機構設計將二組坩鍋換置,以達到連續製造均質MG2NI合金之目的。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員伍員鵬
電話03-4712201ext357219
傳真03-4711024
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

10753

產出年度

101

領域別

機械運輸

專利名稱-中文

ApparatusofcontinuouslymanufacturingstoichiometricMG2NIhydrogenstoragecompound

執行單位

中科院材料所

產出單位

中科院五所

計畫名稱

CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫

專利發明人

伍員鵬

核准國家

美國

獲證日期

101/03/20

證書號碼

8137612B2

專利期間起

101/03/20

專利期間訖

121/03/19

專利性質

發明

技術摘要-中文

先將鎂原料置放坩鍋中,並以?性氣體充入熔爐中,再使熔爐加熱熔解鎂金屬,再利用進料系統加入鎳原料,並以攪拌器充分攪拌,當MG2NI合金形成固相沉積後,將坩鍋中的熔液倒至另一組坩鍋中以分離液固相合金,再以坩鍋換置機構設計將二組坩鍋換置,以達到連續製造均質MG2NI合金之目的。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

伍員鵬

電話

03-4712201ext357219

傳真

03-4711024

電子信箱

csist@csistdup.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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鈦鎳功能性材料的熔製方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 特用金屬材料應用研究發展三年計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、鄭榮瑞、劉明浩 | 證書號碼: I334447

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Method and Apparatus for Manufacturing High-Purity Hydrogen Storage Alloy Ma2Ni

核准國家: 美國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代能源關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、聶若光 | 證書號碼: 7651546B2

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

高容量儲氫合金熔煉技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 新世代能源材料關鍵技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶粒大小:小於2μm 偏析度:99.8%以上 儲氫量:大於3.0wt% | 潛力預估: 搭配高功率燃料電池、鎳氫電池、3C行動電子產品及氫能汽車等具廣闊市場

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

限制光碟讀取次數之方法及限制層

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 功能性材料應用研究發展三年計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、李訓杰、葉建宏、黃鼎貴、周天佑、賴志輝、王東釧、巫諾文、陳怡礽 | 證書號碼: I227014

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種可連續製造高純度Mg2Ni儲氫合金之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 綠色產業用金屬材料應用研究發展計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、鄭榮瑞 | 證書號碼: I341869

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種改善Ti-V-Cr系BCC儲氫合金活化性能之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 鄭榮瑞;伍員鵬;聶若光;梁仕昌 | 證書號碼: I393782

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種簡易生產高純度Mg2Ni儲氫合金之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬;鄭榮瑞;薄慧雲 | 證書號碼: I393787

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種提升儲氫合金性能的熔製坩堝處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高值化金屬材料暨製造技術研發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、廖健鴻、劉明浩 | 證書號碼: 403491

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

鈦鎳功能性材料的熔製方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 特用金屬材料應用研究發展三年計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、鄭榮瑞、劉明浩 | 證書號碼: I334447

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Method and Apparatus for Manufacturing High-Purity Hydrogen Storage Alloy Ma2Ni

核准國家: 美國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 新世代能源關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、聶若光 | 證書號碼: 7651546B2

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

高容量儲氫合金熔煉技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 新世代能源材料關鍵技術開發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 晶粒大小:小於2μm 偏析度:99.8%以上 儲氫量:大於3.0wt% | 潛力預估: 搭配高功率燃料電池、鎳氫電池、3C行動電子產品及氫能汽車等具廣闊市場

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

限制光碟讀取次數之方法及限制層

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 功能性材料應用研究發展三年計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、李訓杰、葉建宏、黃鼎貴、周天佑、賴志輝、王東釧、巫諾文、陳怡礽 | 證書號碼: I227014

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一種可連續製造高純度Mg2Ni儲氫合金之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 綠色產業用金屬材料應用研究發展計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、鄭榮瑞 | 證書號碼: I341869

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種改善Ti-V-Cr系BCC儲氫合金活化性能之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 鄭榮瑞;伍員鵬;聶若光;梁仕昌 | 證書號碼: I393782

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種簡易生產高純度Mg2Ni儲氫合金之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: CIGS太陽電池關鍵技術開發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬;鄭榮瑞;薄慧雲 | 證書號碼: I393787

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種提升儲氫合金性能的熔製坩堝處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高值化金屬材料暨製造技術研發計畫 | 專利發明人: 伍員鵬、薄慧雲、廖健鴻、劉明浩 | 證書號碼: 403491

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橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

電容屏蔽結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 | 證書號碼: 192543

溝槽式金氧半電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 | 證書號碼: 202861

有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 | 證書號碼: 200178

直下式背光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 | 證書號碼: 200905

高密度磁性隨機存取記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 | 證書號碼: 198431

高密度磁性隨機存取記憶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 | 證書號碼: 6757189

改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 江欣峻, 何璨佑, 許家榮 | 證書號碼: 189045

多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 莊世瑋, 鍾震桂, 陳仲竹 | 證書號碼: 189620

低電壓低功率熱氣泡薄膜式微流體驅動裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 莊世瑋, 陳仲竹 | 證書號碼: 196530

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸 | 證書號碼: 206589

測試蝕刻速率的結構及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 | 證書號碼: 197248

微通道流體導引元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 188284

微通道流體導引元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 | 證書號碼: 6725882

薄膜電晶體的結構、其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 | 證書號碼: 198288

移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 | 證書號碼: 220255

電容屏蔽結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 | 證書號碼: 192543

溝槽式金氧半電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 | 證書號碼: 202861

有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 | 證書號碼: 200178

直下式背光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 | 證書號碼: 200905

高密度磁性隨機存取記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 | 證書號碼: 198431

高密度磁性隨機存取記憶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 | 證書號碼: 6757189

改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 江欣峻, 何璨佑, 許家榮 | 證書號碼: 189045

多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 莊世瑋, 鍾震桂, 陳仲竹 | 證書號碼: 189620

低電壓低功率熱氣泡薄膜式微流體驅動裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 莊世瑋, 陳仲竹 | 證書號碼: 196530

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