複合膜、其製造方法及其用途
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文複合膜、其製造方法及其用途的核准國家是中華民國, 證書號碼是I414323, 專利期間起是102/11/11, 專利期間訖是118/12/22, 專利性質是發明, 執行單位是紡織所, 產出年度是102, 計畫名稱是機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫, 專利發明人是簡安儀、李瑞生.

序號	11120
產出年度	102
領域別	材料化工
專利名稱-中文	複合膜、其製造方法及其用途
執行單位	紡織所
產出單位	紡織所
計畫名稱	機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫
專利發明人	簡安儀 \| 李瑞生
核准國家	中華民國
獲證日期	102/11/11
證書號碼	I414323
專利期間起	102/11/11
專利期間訖	118/12/22
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明關於一種複合膜，其包含一基底層及一細菌纖維膜；關於一種製造該複合膜之方法；以及關於其作為創傷敷材之用途。
技術摘要-英文	The present invention relates to a composite film comprising a substrate and a bacterial cellulose film
聯絡人員	to a process for the production of the composite film
電話	and to use thereof as wound dressing.
傳真	徐妙菁
電子信箱	02-22670321#6101
參考網址	http://02-22689834
備註	mchsu.0415@ttri.org.tw
特殊情形	https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx

序號

11120

產出年度

102

領域別

材料化工

專利名稱-中文

複合膜、其製造方法及其用途

執行單位

紡織所

產出單位

紡織所

計畫名稱

機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫

專利發明人

簡安儀 | 李瑞生

核准國家

中華民國

獲證日期

102/11/11

證書號碼

I414323

專利期間起

102/11/11

專利期間訖

118/12/22

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明關於一種複合膜，其包含一基底層及一細菌纖維膜；關於一種製造該複合膜之方法；以及關於其作為創傷敷材之用途。

技術摘要-英文

The present invention relates to a composite film comprising a substrate and a bacterial cellulose film

聯絡人員

to a process for the production of the composite film

電話

and to use thereof as wound dressing.

傳真

徐妙菁

電子信箱

02-22670321#6101

參考網址

http://02-22689834

備註

mchsu.0415@ttri.org.tw

特殊情形

https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx

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含有奈米纖維之薄膜、複合薄膜、其製造方法及其用途A NANOFIBER-CONTAINING MEMBRANE, A COMPOSITE MEMBRANE, A PROCESS FOR PRODUCI...	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,403,151 \| 專利期間起: 99/03/31 \| 專利期間訖: 120/07/02 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳泰宏 \| 黃政強 @ 技術司專利資料集
含有奈米纖維之薄膜、複合薄膜、其製造方法及其用途	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I414345 \| 專利期間起: 102/11/11 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳泰宏 \| 黃政強 @ 技術司專利資料集
含有奈米纖維之薄膜、複合薄膜、其製造方法及其用途A NANOFIBER-CONTAINING MEMBRANE, A COMPOSITE MEMBRANE, A PROCESS FOR PRODUCI...	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8403151 \| 專利期間起: 1999/3/31 \| 專利期間訖: 120/07/02 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳泰宏 \| 黃政強 @ 技術司專利資料集

含有奈米纖維之薄膜、複合薄膜、其製造方法及其用途A NANOFIBER-CONTAINING MEMBRANE, A COMPOSITE MEMBRANE, A PROCESS FOR PRODUCI...

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一種淨水裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M327740 \| 專利期間起: 1997/3/1 \| 專利期間訖: 106/5/22 \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 健康舒適性紡織品研發四年計畫 \| 專利發明人: 陳素真 \| 李瑞生 \| 簡安儀 @ 技術司專利資料集
一種除氯型布料及其製備方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M338155 \| 專利期間起: 1997/8/11 \| 專利期間訖: 106/5/28 \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 健康舒適性紡織品研發四年計畫 \| 專利發明人: 陳素真 \| 李瑞生 \| 簡安儀 \| 彭志剛 @ 技術司專利資料集
天然材質之手術縫線及其製法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I386234 \| 專利期間起: 102/02/21 \| 專利期間訖: 117/12/21 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 紡織所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 簡安儀 \| 李瑞生 @ 技術司專利資料集

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移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220255 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任 \| 陳尚立 \| 王博文 \| 林展瑞
電容屏蔽結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 192543 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明 \| 陳昌昇 \| 吳俊昆 \| 魏培森 \| 翁卿亮 \| 賴穎俊
溝槽式金氧半電晶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 202861 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 許志維 \| 李永忠 \| 潘宗銘 \| 卓言
有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200178 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周維揚 \| 鄭弘隆 \| 賴志明 \| 廖奇璋
直下式背光模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200905 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 詹景翔 \| 蕭名君 \| 劉康弘 \| 林偉義
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198431 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6757189 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘
改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189045 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 江欣峻 \| 何璨佑 \| 許家榮
多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189620 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 莊世瑋 \| 鍾震桂 \| 陳仲竹
低電壓低功率熱氣泡薄膜式微流體驅動裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 196530 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂 \| 莊世瑋 \| 陳仲竹
具有不同夾厚的半穿透式液晶顯示器裝置及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206597 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張鈞傑 \| 莊景桑 \| 陳志強
靜電式驅動之微繼電器及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198718 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏 \| 顏凱翔 \| 王欽宏 \| 陳振頤 \| 房佩怡
形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198717 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳志強 \| 莊景桑 \| 張鈞傑
自組裝奈米導電凸塊及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200159 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 汪若蕙 \| 陳裕華
貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200277 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張志祥 \| 李啟聖 \| 黃順發 \| 張榮芳 \| 許財源 \| 胡文智 \| 王亮棠

複合膜、其製造方法及其用途 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

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