無光罩式曝光系統
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文無光罩式曝光系統的核准國家是中華民國, 執行單位是金屬中心, 產出年度是102, 專利性質是發明, 計畫名稱是金屬中心創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是鄭正元、葉光明、林長慶、, 證書號碼是I396947.

序號	11739
產出年度	102
領域別	創新前瞻
專利名稱-中文	無光罩式曝光系統
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	金屬中心創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	鄭正元、葉光明、林長慶、
核准國家	中華民國
獲證日期	102/05/21
證書號碼	I396947
專利期間起	102/05/21
專利期間訖	117/12/02
專利性質	發明
技術摘要-中文	無光罩式曝光系統
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	張世明
電話	07-3513121
傳真	07-3516597
電子信箱	cerestin@mail.mirdc.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

11739

產出年度

102

領域別

創新前瞻

專利名稱-中文

無光罩式曝光系統

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

金屬中心創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

鄭正元、葉光明、林長慶、

核准國家

中華民國

獲證日期

102/05/21

證書號碼

I396947

專利期間起

102/05/21

專利期間訖

117/12/02

專利性質

發明

技術摘要-中文

無光罩式曝光系統

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

張世明

電話

07-3513121

傳真

07-3516597

電子信箱

cerestin@mail.mirdc.org.tw

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2019-07-24

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氣體擴散室	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳春森 \| 證書號碼: 101146066 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
METHOD FOR MANUFACTURING A GRAPHENE LAYER	核准國家: 美國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 105 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 \| 證書號碼: US9,359,210B2 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
避障自走車之感測架構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 薛博文.葉育杰.何書豪.楊舜欽 \| 證書號碼: I327119 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
具阻尼限速功能之助行器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 崔海平、林大裕、紀青迪、邱冠智 \| 證書號碼: I344362 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂育廷、楊忠義、莊殷、許富銓 \| 證書號碼: ZL200810185135.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
超精密壓電定位平台	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱、游源成、劉冠志、黃加助 \| 證書號碼: ZL200910249593.4 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
一種人體植入物及其製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 \| 證書號碼: ZL200910249594.9 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
水解纖維素系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄧育庭、郭子禎、洪俊宏、 \| 證書號碼: I400248 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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測試蝕刻速率的結構及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 王欽宏, 梁兆鈞, 陳玉華 \| 證書號碼: 197248
微通道流體導引元件	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 \| 證書號碼: 188284
微通道流體導引元件	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 夏廷魁, 吳志文, 姚南光, 龐紹華, 郭遠峰 \| 證書號碼: 6725882
薄膜電晶體的結構、其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林炯暐, 葉永輝 \| 證書號碼: 198288
移位暫存器單元及其所組成之移位暫存器電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 王博文, 林展瑞 \| 證書號碼: 220255
電容屏蔽結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明, 陳昌昇, 吳俊昆, 魏培森, 翁卿亮, 賴穎俊 \| 證書號碼: 192543
溝槽式金氧半電晶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 許志維, 李永忠, 潘宗銘, 卓言 \| 證書號碼: 202861
有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 周維揚, 鄭弘隆, 賴志明, 廖奇璋 \| 證書號碼: 200178
直下式背光模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 詹景翔, 蕭名君, 劉康弘, 林偉義 \| 證書號碼: 200905
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 \| 證書號碼: 198431
高密度磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘 \| 證書號碼: 6757189
改善週期性電極排列引發光繞射效應之結構及液晶顯示裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 江欣峻, 何璨佑, 許家榮 \| 證書號碼: 189045
多方向邏輯式微流體驅動控制系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 莊世瑋, 鍾震桂, 陳仲竹 \| 證書號碼: 189620
低電壓低功率熱氣泡薄膜式微流體驅動裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂, 莊世瑋, 陳仲竹 \| 證書號碼: 196530
具有不同夾厚的半穿透式液晶顯示器裝置及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張鈞傑, 莊景桑, 陳志強 \| 證書號碼: 206597

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