專利名稱-中文流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置與製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I435990, 專利期間起是120/05/12, 專利期間訖是一種流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置、製造方法。其流體動壓軸封包括殼體、靜止環、旋轉環、流道與刻紋圖案。靜止環連接於殼體，其具有第一表面。旋轉環，係位於靜止環之一側，其具有第二表面。流道，係涵蓋靜止環與旋轉環之間的空間。刻紋圖案，係形成於第一表面及第二表面至少其中一者的全部或部分區..., 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是李旺龍 ,吳博雄 ,鍾崇仁 ,陳建佑 ,簡志維.
| 序號 | 13188 |
| 產出年度 | 103 |
| 領域別 | 服務創新 |
| 專利名稱-中文 | 流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置與製造方法 |
| 執行單位 | 工研院院本部 |
| 產出單位 | 工研院南分院 |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 李旺龍 | 吳博雄 | 鍾崇仁 | 陳建佑 | 簡志維 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 103/05/01 |
| 證書號碼 | I435990 |
| 專利期間起 | 120/05/12 |
| 專利期間訖 | 一種流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置、製造方法。其流體動壓軸封包括殼體、靜止環、旋轉環、流道與刻紋圖案。靜止環連接於殼體，其具有第一表面。旋轉環，係位於靜止環之一側，其具有第二表面。流道，係涵蓋靜止環與旋轉環之間的空間。刻紋圖案，係形成於第一表面及第二表面至少其中一者的全部或部分區域，且形成刻紋圖案之刻痕具有不同的深淺。其中旋轉環藉由外部壓力抵向靜止環，使第一表面接觸第二表面，旋轉環並可相對於靜止環作同軸轉動，並於相對轉動時，第一表面與第二表面之間因空蝕現象而保持非接觸。 |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置、製造方法。其流體動壓軸封包括殼體、靜止環、旋轉環、流道與刻紋圖案。靜止環連接於殼體，其具有第一表面。旋轉環，係位於靜止環之一側，其具有第二表面。流道，係涵蓋靜止環與旋轉環之間的空間。刻紋圖案，係形成於第一表面及第二表面至少其中一者的全部或部分區域，且形成刻紋圖案之刻痕具有不同的深淺。其中旋轉環藉由外部壓力抵向靜止環，使第一表面接觸第二表面，旋轉環並可相對於靜止環作同軸轉動，並於相對轉動時，第一表面與第二表面之間因空蝕現象而保持非接觸。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-5917958 |
| 傳真 | 03-5917577 |
| 電子信箱 | noralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | (空) |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
序號13188 |
產出年度103 |
領域別服務創新 |
專利名稱-中文流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置與製造方法 |
執行單位工研院院本部 |
產出單位工研院南分院 |
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫 |
專利發明人李旺龍 | 吳博雄 | 鍾崇仁 | 陳建佑 | 簡志維 |
核准國家中華民國 |
獲證日期103/05/01 |
證書號碼I435990 |
專利期間起120/05/12 |
專利期間訖一種流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置、製造方法。其流體動壓軸封包括殼體、靜止環、旋轉環、流道與刻紋圖案。靜止環連接於殼體，其具有第一表面。旋轉環，係位於靜止環之一側，其具有第二表面。流道，係涵蓋靜止環與旋轉環之間的空間。刻紋圖案，係形成於第一表面及第二表面至少其中一者的全部或部分區域，且形成刻紋圖案之刻痕具有不同的深淺。其中旋轉環藉由外部壓力抵向靜止環，使第一表面接觸第二表面，旋轉環並可相對於靜止環作同軸轉動，並於相對轉動時，第一表面與第二表面之間因空蝕現象而保持非接觸。 |
專利性質發明 |
技術摘要-中文一種流體動壓軸封內靜止環或旋轉環之表面結構及其製造裝置、製造方法。其流體動壓軸封包括殼體、靜止環、旋轉環、流道與刻紋圖案。靜止環連接於殼體，其具有第一表面。旋轉環，係位於靜止環之一側，其具有第二表面。流道，係涵蓋靜止環與旋轉環之間的空間。刻紋圖案，係形成於第一表面及第二表面至少其中一者的全部或部分區域，且形成刻紋圖案之刻痕具有不同的深淺。其中旋轉環藉由外部壓力抵向靜止環，使第一表面接觸第二表面，旋轉環並可相對於靜止環作同軸轉動，並於相對轉動時，第一表面與第二表面之間因空蝕現象而保持非接觸。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員李露蘋 |
電話03-5917958 |
傳真03-5917577 |
電子信箱noralp@itri.org.tw |
參考網址(空) |
備註(空) |
特殊情形(空) |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192543 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明 | 陳昌昇 | 吳俊昆 | 魏培森 | 翁卿亮 | 賴穎俊 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202861 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許志維 | 李永忠 | 潘宗銘 | 卓言 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200178 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚 | 鄭弘隆 | 賴志明 | 廖奇璋 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200905 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔 | 蕭名君 | 劉康弘 | 林偉義 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198431 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6757189 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189045 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 江欣峻 | 何璨佑 | 許家榮 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189620 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 莊世瑋 | 鍾震桂 | 陳仲竹 |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206597 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑 | 莊景桑 | 陳志強 |
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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200178 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周維揚 | 鄭弘隆 | 賴志明 | 廖奇璋 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200905 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 詹景翔 | 蕭名君 | 劉康弘 | 林偉義 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198431 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6757189 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189045 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 江欣峻 | 何璨佑 | 許家榮 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189620 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 莊世瑋 | 鍾震桂 | 陳仲竹 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 196530 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 莊世瑋 | 陳仲竹 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206597 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑 | 莊景桑 | 陳志強 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198718 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 王欽宏 | 陳振頤 | 房佩怡 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198717 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強 | 莊景桑 | 張鈞傑 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200159 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 汪若蕙 | 陳裕華 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200277 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥 | 李啟聖 | 黃順發 | 張榮芳 | 許財源 | 胡文智 | 王亮棠 |
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