用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I438433, 專利期間起是118/12/29, 專利期間訖是本發明係有關於一種用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法，該裝置包含一光學感測模組、一處理模組及一監控模組，該方法係先由該光學感測模組偵測一基材之一變化量，依據該變化量得到一相對位移量訊號，並轉換該相對位移量訊號為一相對正交脈波訊號，且傳送至該處理模組進行運算分析，再傳送至該監控介面統計分..., 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是103, 計畫名稱是智慧手持裝置核心技術攻堅計畫, 專利發明人是葉光明.蔡政哲.曾健明.林治中.

序號	14897
產出年度	103
領域別	智慧科技
專利名稱-中文	用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	智慧手持裝置核心技術攻堅計畫
專利發明人	葉光明.蔡政哲.曾健明.林治中
核准國家	中華民國
獲證日期	103/05/21
證書號碼	I438433
專利期間起	118/12/29
專利期間訖	本發明係有關於一種用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法，該裝置包含一光學感測模組、一處理模組及一監控模組，該方法係先由該光學感測模組偵測一基材之一變化量，依據該變化量得到一相對位移量訊號，並轉換該相對位移量訊號為一相對正交脈波訊號，且傳送至該處理模組進行運算分析，再傳送至該監控介面統計分析，最後得到一基材傳送速度。本發明之裝置主要利用一光學感測模組偵測基材移動之變化量，本發明之該光學感測模組具有低成本，可有效降低整體成本。
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係有關於一種用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法，該裝置包含一光學感測模組、一處理模組及一監控模組，該方法係先由該光學感測模組偵測一基材之一變化量，依據該變化量得到一相對位移量訊號，並轉換該相對位移量訊號為一相對正交脈波訊號，且傳送至該處理模組進行運算分析，再傳送至該監控介面統計分析，最後得到一基材傳送速度。本發明之裝置主要利用一光學感測模組偵測基材移動之變化量，本發明之該光學感測模組具有低成本，可有效降低整體成本。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	曾健明
電話	07-3513121-2643
傳真	07-3540280
電子信箱	ming@mail.mirdc.org.tw
參考網址	http://www.mirdc.org.tw/
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

14897

產出年度

103

領域別

智慧科技

專利名稱-中文

用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

智慧手持裝置核心技術攻堅計畫

專利發明人

葉光明.蔡政哲.曾健明.林治中

核准國家

中華民國

獲證日期

103/05/21

證書號碼

I438433

專利期間起

118/12/29

專利期間訖

本發明係有關於一種用於測量捲對捲裝置之基材之傳送速度之裝置及其方法，該裝置包含一光學感測模組、一處理模組及一監控模組，該方法係先由該光學感測模組偵測一基材之一變化量，依據該變化量得到一相對位移量訊號，並轉換該相對位移量訊號為一相對正交脈波訊號，且傳送至該處理模組進行運算分析，再傳送至該監控介面統計分析，最後得到一基材傳送速度。本發明之裝置主要利用一光學感測模組偵測基材移動之變化量，本發明之該光學感測模組具有低成本，可有效降低整體成本。

專利性質

發明

技術摘要-中文

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

曾健明

電話

07-3513121-2643

傳真

07-3540280

電子信箱

ming@mail.mirdc.org.tw

參考網址

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特殊情形

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夾持移載定位系統技術	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ．工件軸(X-axis)定位精度±3μm ．夾持軸可控制模式：力量模式、位置模式．取放軸(Y-axis)定位精度±3μm \| 潛力預估: 提升自動化生產功能；降件人工成本2人年/台 @ 技術司可移轉技術資料集
突起物影像疊合之檢測技術	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 平面顯示器設備技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 影像解析度：0.2~2um/pixel ‧ 取像間格：0.5~2um ‧ 取像範圍：50~1000um ‧ 取像間格：0.5~2um ‧ 處理面積： \| 潛力預估: 取代進口設備1仟萬/年；創造產值5仟萬/年；並達成自動化檢測功能。 @ 技術司可移轉技術資料集
微型組裝系統移載模組技術	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 98 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 氣孔直徑≦1mm ‧ 可移載物件型式：圓型及非圓型件 \| 潛力預估: 創造自動化精微組裝產值約0.4億元/年 @ 技術司可移轉技術資料集
精密印刷設備技術	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 99 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: *印刷膜厚均勻性: ±10%@15～20μm 印刷面積：300300mm2 印刷循環時間: 10秒/次 \| 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量，促進軟性電子設備業投資。** @ 技術司可移轉技術資料集
捲對捲高精度網版印刷製程	執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 100 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: *印刷面積：300mm300mm。印刷循環時間：6次/min。 Seamless：±50um \| 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量，促進軟性電子設備業投資。** @ 技術司可移轉技術資料集
直流無刷馬達無段速控制模組	執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 直流無刷馬達驅控技術自主先期計畫 \| 領域: 製造精進 \| 技術規格: 1、無段速控制轉速 2、弦波驅動 3、定速穩態控制 \| 潛力預估: 「技術自主」目標之成果展示為：高效率運算核心模組則以MCU作為載具，馬達的控制序程式撰寫:速度、扭矩以及類弦波控制，將先透過模擬後再與馬達作最後的匹配。開放馬達行為控制序程式，改善國內軟實力較弱的現況... @ 技術司可移轉技術資料集
量測系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I342387 \| 專利期間起: 100/05/21 \| 專利期間訖: 115/12/25 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 鍾政英.朱志良.李佶峰.林佑整.葉光明.曾健明 @ 技術司專利資料集
自動調節所需照明亮度的影像擷取方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810188842.9 \| 專利期間起: 101/01/04 \| 專利期間訖: 117/12/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 曾健明.林治中.葉光明.鍾政英 @ 技術司專利資料集

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形成彩色濾光片於畫素驅動元件上的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692983 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑
可撓式薄膜電晶體顯示器的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184717 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張志祥, 王文通, 戴遠東, 林炯暐, 陳麒麟, 廖宗能, 李啟聖
一種場發射顯示器之三極結構的製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220265 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中
一種場發射顯示器之三極結構的製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6769945 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中
場發射顯示器之三極結構及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206590 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚, 何家充, 王右武
主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)之畫素結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 202661 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒
主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6753655 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒
形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6737303 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋
薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189563 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200395 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6642595 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 洪建中, 高明哲
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188234 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6663214 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝
積體化流體元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189552 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁
電磁驅動光開關及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191670 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 盧慧娟, 李新立, 張文陽, 李政鴻

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領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

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專利期間訖

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