電漿裝置及電漿裝置的操作方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文電漿裝置及電漿裝置的操作方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I486996, 專利期間起是104/06/01, 專利期間訖是122/12/03, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是104, 計畫名稱是超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫, 專利發明人是翁志強 ,徐瑞美 ,杜陳忠 ,蔡陳德.

序號	16550
產出年度	104
領域別	綠能科技
專利名稱-中文	電漿裝置及電漿裝置的操作方法
執行單位	工研院機械所
產出單位	工研院機械所
計畫名稱	超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫
專利發明人	翁志強 \| 徐瑞美 \| 杜陳忠 \| 蔡陳德
核准國家	中華民國
獲證日期	104/07/15
證書號碼	I486996
專利期間起	104/06/01
專利期間訖	122/12/03
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種電漿裝置包括一介電屏障、一第一電極結構、一第二電極結構以及一第三電極結構。介電屏障具有一上游端及一下游端，且定義出一空間。第一電極結構位於空間中。第一電極結構與介電屏障之間具有一多重寬度的間隙。介電屏障位於第一電極結構與第二電極結構之間。第二電極結構包括多個電極塊。這些電極塊由上游端向下游端依序排列。介電屏障、第一電極結構與第二電極結構都位於第三電極結構的同一側。第三電極結構位於介電屏障的下游端。這些電極塊與第三電極結構之間的最小距離不小於第一電極結構與第三電極結構之間的距離。一種電漿裝置包括一介電屏障、一第一電極結構、一第二電極結構以及一第三電極結構。介電屏障具有一上游端及一下游端，且定義出一空間。第一電極結構位於空間中。第一電極結構與介電屏障之間具有一多重寬度的間隙。介電屏障位於第一電極結構與第二電極結構之間。第二電極結構包括多個電極塊。這些電極塊由上游端向下游端依序排列。介電屏障、第一電極結構與第二電極結構都位於第三電極結構的同一側。第三電極結構位於介電屏障的下游端。這些電極塊與第三電極結構之間的最小距離不小於第一電極結構與第三電極結構之間的距離。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	https://www.itri.org.tw/
備註	無
特殊情形	(空)

序號

16550

產出年度

104

領域別

綠能科技

專利名稱-中文

電漿裝置及電漿裝置的操作方法

執行單位

工研院機械所

產出單位

工研院機械所

計畫名稱

超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫

專利發明人

翁志強 | 徐瑞美 | 杜陳忠 | 蔡陳德

核准國家

中華民國

獲證日期

104/07/15

證書號碼

I486996

專利期間起

104/06/01

專利期間訖

122/12/03

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種電漿裝置包括一介電屏障、一第一電極結構、一第二電極結構以及一第三電極結構。介電屏障具有一上游端及一下游端，且定義出一空間。第一電極結構位於空間中。第一電極結構與介電屏障之間具有一多重寬度的間隙。介電屏障位於第一電極結構與第二電極結構之間。第二電極結構包括多個電極塊。這些電極塊由上游端向下游端依序排列。介電屏障、第一電極結構與第二電極結構都位於第三電極結構的同一側。第三電極結構位於介電屏障的下游端。這些電極塊與第三電極結構之間的最小距離不小於第一電極結構與第三電極結構之間的距離。一種電漿裝置包括一介電屏障、一第一電極結構、一第二電極結構以及一第三電極結構。介電屏障具有一上游端及一下游端，且定義出一空間。第一電極結構位於空間中。第一電極結構與介電屏障之間具有一多重寬度的間隙。介電屏障位於第一電極結構與第二電極結構之間。第二電極結構包括多個電極塊。這些電極塊由上游端向下游端依序排列。介電屏障、第一電極結構與第二電極結構都位於第三電極結構的同一側。第三電極結構位於介電屏障的下游端。這些電極塊與第三電極結構之間的最小距離不小於第一電極結構與第三電極結構之間的距離。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

https://www.itri.org.tw/

備註

無

特殊情形

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電漿裝置及電漿裝置的操作方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 9,363,881 \| 專利期間起: 105/06/07 \| 專利期間訖: 123/11/18 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 105 \| 計畫名稱: 超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫 \| 專利發明人: 翁志強 \| 徐瑞美 \| 杜陳忠 \| 蔡陳德 @ 技術司專利資料集
電漿裝置及電漿裝置的操作方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 9363881 \| 專利期間起: 105/06/07 \| 專利期間訖: 123/11/18 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 105 \| 計畫名稱: 超細線寬轉印綠色製程與設備技術開發計畫 \| 專利發明人: 翁志強 \| 徐瑞美 \| 杜陳忠 \| 蔡陳德 @ 技術司專利資料集

電漿裝置及電漿裝置的操作方法

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揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810211084.8 \| 專利期間起: 102/01/23 \| 專利期間訖: 117/08/19 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 \| 劉昌和 @ 技術司專利資料集
晶圓級模封接合結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,384,215 \| 專利期間起: 102/02/26 \| 專利期間訖: 120/06/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陸蘇財 \| 莊敬業 \| 林育民 @ 技術司專利資料集
感測裝置及其掃描驅動方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,416,213 \| 專利期間起: 102/04/09 \| 專利期間訖: 120/03/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 沈煜棠 \| 葉紹興 @ 技術司專利資料集
揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 \| 專利期間起: 102/03/20 \| 專利期間訖: 116/10/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 \| 專利期間起: 102/04/03 \| 專利期間訖: 118/05/25 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,391,520 \| 專利期間起: 102/03/05 \| 專利期間訖: 120/12/15 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I402456 \| 專利期間起: 102/07/21 \| 專利期間訖: 119/03/16 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 \| 許詔開 @ 技術司專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,940,333 \| 專利期間起: 104/01/27 \| 專利期間訖: 116/05/11 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發 \| 張學曾 \| 陳進富 \| 張原嘉 \| 甘霈 \| 林才祐 @ 技術司專利資料集

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鈦金屬表面氧化層之清除方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195370 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 羅家軒
用於工件表面之具有低沾黏及低摩擦之鍍膜	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 199489 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文 \| 邱松茂 \| 羅萬中
非金屬基材表面之多層金屬鍍膜及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207037 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文 \| 劉伍健 \| 卓廷彬 \| 楊玉森
具有輔助磁極組之磁控靶源裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 210407 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 劉伍健 \| 楊玉森
鎳合金電鑄手指手套模具之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184907 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 張瑞模 \| 陳建仁 \| 蔡兆豐 \| 陳正義 \| 鄭勝元
球閥耐火結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211530 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱 \| 江文欽
模具內傳送機構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 214980 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林志浩 \| 蔡行知 \| 魏江銘
球閥結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220003 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 江文欽 \| 林庭凱
用於物理氣相沉積之金屬化銦錫氧化物靶	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195390 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 朱繼文 \| 楊玉森 \| 邱松茂
U形支架式具位置指示之閥手輪	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 222536 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 仲之豪 \| 林進順
球閥結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 634651 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 江文欽 \| 林庭凱
球閥防火結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 634266 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱 \| 江文欽
中空金屬套管成形方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201043 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 翁震杰 \| 賴逸林 \| 鄭勝元
U形支架式具位置指示之閥手輪	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 639900 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 仲之豪 \| 林進順
波紋管之製造方法及該波紋管之膜片組串接成型裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201861 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 \| 專利發明人: 謝興達 \| 曾光宏 \| 侯信男 \| 黃仁隆 \| 曾界彰

電漿裝置及電漿裝置的操作方法 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

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