內視鏡操控裝置
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文內視鏡操控裝置的核准國家是中華民國, 執行單位是金屬中心, 產出年度是104, 專利性質是發明, 計畫名稱是金屬中心創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是林成文, 證書號碼是101148443.

序號16793
產出年度104
領域別製造精進
專利名稱-中文內視鏡操控裝置
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱金屬中心創新前瞻技術研究計畫
專利發明人林成文
核准國家中華民國
獲證日期104/05/01
證書號碼101148443
專利期間起104/05/01
專利期間訖121/12/18
專利性質發明
技術摘要-中文內視鏡操控裝置
技術摘要-英文(空)
聯絡人員張世明
電話07-3513121
傳真07-3516597
電子信箱cerestin@mail.mirdc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

16793

產出年度

104

領域別

製造精進

專利名稱-中文

內視鏡操控裝置

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

金屬中心創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

林成文

核准國家

中華民國

獲證日期

104/05/01

證書號碼

101148443

專利期間起

104/05/01

專利期間訖

121/12/18

專利性質

發明

技術摘要-中文

內視鏡操控裝置

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

張世明

電話

07-3513121

傳真

07-3516597

電子信箱

cerestin@mail.mirdc.org.tw

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特殊情形

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2019-07-24

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人工血管注射座製程技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: (1)可承受之最大注射壓力為8psi | 潛力預估: 建置產品預期達成增加產值200萬元/年。

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

人工血管注射座製程技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: (1)可承受之最大注射壓力為8psi | 潛力預估: 建置產品預期達成增加產值200萬元/年。

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氣體擴散室

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳春森 | 證書號碼: 101146066

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

METHOD FOR MANUFACTURING A GRAPHENE LAYER

核准國家: 美國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邱松茂 | 證書號碼: US9,359,210B2

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

避障自走車之感測架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 薛博文.葉育杰.何書豪.楊舜欽 | 證書號碼: I327119

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

具阻尼限速功能之助行器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 崔海平、林大裕、紀青迪、邱冠智 | 證書號碼: I344362

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 呂育廷、楊忠義、莊殷、許富銓 | 證書號碼: ZL200810185135.4

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

超精密壓電定位平台

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪國凱、游源成、劉冠志、黃加助 | 證書號碼: ZL200910249593.4

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

一種人體植入物及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 | 專利發明人: 邱松茂 | 證書號碼: ZL200910249594.9

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

水解纖維素系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄧育庭、郭子禎、洪俊宏、 | 證書號碼: I400248

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氣體擴散室

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳春森 | 證書號碼: 101146066

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METHOD FOR MANUFACTURING A GRAPHENE LAYER

核准國家: 美國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邱松茂 | 證書號碼: US9,359,210B2

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避障自走車之感測架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 薛博文.葉育杰.何書豪.楊舜欽 | 證書號碼: I327119

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具阻尼限速功能之助行器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 崔海平、林大裕、紀青迪、邱冠智 | 證書號碼: I344362

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放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 呂育廷、楊忠義、莊殷、許富銓 | 證書號碼: ZL200810185135.4

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超精密壓電定位平台

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪國凱、游源成、劉冠志、黃加助 | 證書號碼: ZL200910249593.4

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一種人體植入物及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 | 專利發明人: 邱松茂 | 證書號碼: ZL200910249594.9

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水解纖維素系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄧育庭、郭子禎、洪俊宏、 | 證書號碼: I400248

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姓名 林成文 找到的公司登記或商業登記

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公司地址負責人統一編號狀態

桃園縣中壢市後寮里電信一村11號
林成文  45162697核准設立 - 獨資

金門縣金寧鄉安美村西堡38號
林成文41147773核准設立 - 獨資 (核准文號: 1040012502)

臺北市萬華區萬大路227號
林成文10340507歇業 - 獨資

臺北市萬華區萬大路219號
林成文17773802歇業 - 獨資

登記地址: 桃園縣中壢市後寮里電信一村11號 | 負責人: 林成文   | 統編: 45162697 | 核准設立 - 獨資

登記地址: 金門縣金寧鄉安美村西堡38號 | 負責人: 林成文 | 統編: 41147773 | 核准設立 - 獨資 (核准文號: 1040012502)

登記地址: 臺北市萬華區萬大路227號 | 負責人: 林成文 | 統編: 10340507 | 歇業 - 獨資

登記地址: 臺北市萬華區萬大路219號 | 負責人: 林成文 | 統編: 17773802 | 歇業 - 獨資

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熱性能量測系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝 | 證書號碼: 191653

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝 | 證書號碼: 6663278

接合支撐柱於場發射顯示器中的陽極板上之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 楊學安, 李正中, 蕭名君, 黃榮堂 | 證書號碼: 200260

形成彩色濾光片於畫素驅動元件上的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑 | 證書號碼: 6692983

可撓式薄膜電晶體顯示器的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 王文通, 戴遠東, 林炯暐, 陳麒麟, 廖宗能, 李啟聖 | 證書號碼: 184717

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中 | 證書號碼: 220265

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中 | 證書號碼: 6769945

場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚, 何家充, 王右武 | 證書號碼: 206590

主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)之畫素結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒 | 證書號碼: 202661

主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒 | 證書號碼: 6753655

形成具有分子排列之有機半導體層的方法,以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋 | 證書號碼: 6737303

薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源 | 證書號碼: 189563

具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲 | 證書號碼: 200395

具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲 | 證書號碼: 6642595

液柱衝擊式液體佈著方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝 | 證書號碼: 188234

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝 | 證書號碼: 191653

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝 | 證書號碼: 6663278

接合支撐柱於場發射顯示器中的陽極板上之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 楊學安, 李正中, 蕭名君, 黃榮堂 | 證書號碼: 200260

形成彩色濾光片於畫素驅動元件上的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑 | 證書號碼: 6692983

可撓式薄膜電晶體顯示器的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 王文通, 戴遠東, 林炯暐, 陳麒麟, 廖宗能, 李啟聖 | 證書號碼: 184717

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中 | 證書號碼: 220265

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中 | 證書號碼: 6769945

場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚, 何家充, 王右武 | 證書號碼: 206590

主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)之畫素結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒 | 證書號碼: 202661

主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒 | 證書號碼: 6753655

形成具有分子排列之有機半導體層的方法,以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋 | 證書號碼: 6737303

薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源 | 證書號碼: 189563

具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲 | 證書號碼: 200395

具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲 | 證書號碼: 6642595

液柱衝擊式液體佈著方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝 | 證書號碼: 188234

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