可調變長週期光纖光柵之製作方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文可調變長週期光纖光柵之製作方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I484232, 專利期間起是104/05/11, 專利期間訖是122/12/08, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是104, 計畫名稱是金屬中心產業技術環境建構計畫, 專利發明人是張浩禎、林世偉、林崇田、劉冠志.

序號	16832
產出年度	104
領域別	製造精進
專利名稱-中文	可調變長週期光纖光柵之製作方法
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	金屬中心產業技術環境建構計畫
專利發明人	張浩禎 \| 林世偉 \| 林崇田 \| 劉冠志
核准國家	中華民國
獲證日期	104/05/11
證書號碼	I484232
專利期間起	104/05/11
專利期間訖	122/12/08
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種可調變長週期光纖光柵的製作方法
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	張浩禎
電話	07-3513121
傳真	07-3533982
電子信箱	haojhen@mail.mirdc.org.tw
參考網址	http://www.mirdc.org.tw
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

16832

產出年度

104

領域別

製造精進

專利名稱-中文

可調變長週期光纖光柵之製作方法

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

金屬中心產業技術環境建構計畫

專利發明人

張浩禎 | 林世偉 | 林崇田 | 劉冠志

核准國家

中華民國

獲證日期

104/05/11

證書號碼

I484232

專利期間起

104/05/11

專利期間訖

122/12/08

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種可調變長週期光纖光柵的製作方法

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

張浩禎

電話

07-3513121

傳真

07-3533982

電子信箱

haojhen@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw

備註

(空)

特殊情形

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財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）	機構電話: (07)3513121 \| 有效期間: 至113.7.31\|至113.6.15編號：001 \| 機構住址: 高雄市楠梓區高楠公路1001號 \| 認可範圍: 1.動力衝剪機械。\|2.木材加工用圓盤鋸。\|3.研磨機。\|4.研磨輪。\|5.動力堆高機。\|6.交流電焊機之自動電擊防止裝置。 @ 勞動部認可型式檢定機構清單
氣體擴散室	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 101146066 \| 專利期間起: 104/07/17 \| 專利期間訖: 121/07/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳春森 @ 技術司專利資料集
具阻尼限速功能之助行器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I344362 \| 專利期間起: 100/07/01 \| 專利期間訖: 116/12/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 崔海平、林大裕、紀青迪、邱冠智 @ 技術司專利資料集
放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810185135.4 \| 專利期間起: 100/07/20 \| 專利期間訖: 117/12/09 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂育廷、楊忠義、莊殷、許富銓 @ 技術司專利資料集
超精密壓電定位平台	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249593.4 \| 專利期間起: 101/07/18 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱、游源成、劉冠志、黃加助 @ 技術司專利資料集
一種人體植入物及其製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249594.9 \| 專利期間起: 102/07/03 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 @ 技術司專利資料集
水解纖維素系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400248 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 118/12/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄧育庭、郭子禎、洪俊宏、 @ 技術司專利資料集
醫療器材與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400100 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 119/09/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王鍏晴、施威任、陳維德、周金龍 @ 技術司專利資料集

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可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6683469 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 李明林, 徐欽山
子母貫通孔結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6717071 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 張慧如, 李明林, 何宗哲
一種GAMMA校正驅動系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193940 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王博文, 陳明道, 陳尚立
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低溫多晶矽的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206403 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林憲信, 李介文, 鄭紹良, 陳力俊, 彭遠清, 王文通
控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6750834 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁
奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6811457 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭華琦, 李正中, 廖貞慧, 張悠揚, 許志榮, 何家充
具低切換雜訊之構裝結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6683781 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 何宗哲, 李明林, 張慧如, 賴信助
低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6670224 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李啟聖, 常鼎國, 陳丕夫, 康育銘, 戴遠東
傾斜散射反射板的製造方法與結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692902 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 翁逸君, 魏明達, 張上文
低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692791 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張悠揚, 許志榮, 李鈞道, 李正中
無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6656772 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃元璋
使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6605491 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 謝有德, 張世明, 林文迪
可調式電容及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185849 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 林瑞進, 吳家宏, 周坤和
具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 3533205 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁, 陳仲竹

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執行單位

產出單位

計畫名稱

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