一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法
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專利名稱-中文一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I548591, 專利期間起是105/09/11, 專利期間訖是124/03/02, 專利性質是發明, 執行單位是中科院化學研究所, 產出年度是105, 計畫名稱是ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫, 專利發明人是賴冠廷、許志雄、楊旻諭.

序號18481
產出年度105
領域別綠能科技
專利名稱-中文一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法
執行單位中科院化學研究所
產出單位中科院化學研究所
計畫名稱ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫
專利發明人賴冠廷 | 許志雄 | 楊旻諭
核准國家中華民國
獲證日期104/05/25
證書號碼I548591
專利期間起105/09/11
專利期間訖124/03/02
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係關於一種備製氮化鋁粉體的方法,特別是一種氣氛控制碳熱還原備製氮化鋁粉體的方法,經由氣氛控制的碳熱還原法備製氮化鋁粉末可用較少的碳含量,在較低的溫度下合成氮化鋁。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員郭養國
電話03-4712201#358172
傳真03-4116381
電子信箱ykkuo2002@yahoo.com.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)

序號

18481

產出年度

105

領域別

綠能科技

專利名稱-中文

一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法

執行單位

中科院化學研究所

產出單位

中科院化學研究所

計畫名稱

ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫

專利發明人

賴冠廷 | 許志雄 | 楊旻諭

核准國家

中華民國

獲證日期

104/05/25

證書號碼

I548591

專利期間起

105/09/11

專利期間訖

124/03/02

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係關於一種備製氮化鋁粉體的方法,特別是一種氣氛控制碳熱還原備製氮化鋁粉體的方法,經由氣氛控制的碳熱還原法備製氮化鋁粉末可用較少的碳含量,在較低的溫度下合成氮化鋁。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

郭養國

電話

03-4712201#358172

傳真

03-4116381

電子信箱

ykkuo2002@yahoo.com.tw

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一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 105 | 產出單位: | 計畫名稱: ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: 可製備出高純度氮化鋁粉體 | 潛力預估: 可製備出高純度氮化鋁粉體

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一種氣氛控制碳熱還原製備氮化鋁粉末的方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 105 | 產出單位: | 計畫名稱: ICT應用關鍵材料及元件技術開發計畫 | 領域: 綠能科技 | 技術規格: 可製備出高純度氮化鋁粉體 | 潛力預估: 可製備出高純度氮化鋁粉體

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基板之熱均壓成型法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I 432274 | 專利期間起: 119/08/03 | 專利期間訖: 一種基板之熱均壓成型法,係取一金屬容器,於金屬容器中填滿欲成型粉末,且將裝有欲成型粉末之金屬容器設置於一密閉爐體中,使爐體對金屬容器進行加溫及加壓之熱均壓處理,讓金屬容器產生形變而向內均勻對欲成型粉末... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 專利發明人: 郭養國 | 向嘉頤 | 姜林靜惠 | 黃福興

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LED驅動晶片之整合裝置

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氮化鋁碳素除氧法

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天線成形之製作方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 領域: 智慧科技 | 技術規格: 一種利用多軸機械加工之立體天線線路成型技術。 | 潛力預估: 加工過程不需使用任何光罩,並以控制基板表面粗糙度等方式提升銅線覆蓋品質,是一種低成本與快速的加工方法。

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非平面立體天線成型之製作方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 領域: 智慧科技 | 技術規格: 非平面絕緣基板製作技術、立體微影技術技術等。 | 潛力預估: 提高天線低頻的性能,同時對於天線的微小化亦有相當程度的幫助,有助於搭載之天線載具降低重量與能源的使用。

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非平面天線嵌入式封裝結構及其製作方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 領域: 智慧科技 | 技術規格: 穿孔技術以及金屬填孔與接合技術。 | 潛力預估: 此技術能避開金屬線路裸露、線路封裝焊接點誘發之干擾,以減少天線共振頻率與雜訊。

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非平面立體天線成型之製作方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 領域: 智慧科技 | 技術規格: 非平面絕緣基板製作技術、立體微影技術技術等。 | 潛力預估: 提高天線低頻的性能,同時對於天線的微小化亦有相當程度的幫助,有助於搭載之天線載具降低重量與能源的使用。

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非平面天線嵌入式封裝結構及其製作方法

執行單位: 中科院化學研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 | 領域: 智慧科技 | 技術規格: 穿孔技術以及金屬填孔與接合技術。 | 潛力預估: 此技術能避開金屬線路裸露、線路封裝焊接點誘發之干擾,以減少天線共振頻率與雜訊。

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一種具抗菌性的不銹鋼

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光碟薄膜用相變化靶材之回收及再利用技術

核准國家: 美國 | 證書號碼: US 6,635,219 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 溫志中 | 賴明雄 | 李秉璋

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 192043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠 | 李鴻坤 | 翁榮洲

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 197245 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢 | 陳俊沐 | 蘇健忠 | 范元昌 | 黃振東 | 呂明生 | 吳清勳

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具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185492 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎 | 陳永志 | 王先毅 | 鄭龍正 | 陳俊昇

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以氣噴粉末製作鋁合金濺鍍靶材之方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01134646.9 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄 | 邱思議 | 鄭楚丕 | 溫志中

銅箔微瘤化處理方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 185721 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕 | 翁榮洲 | 劉金耀

一種具抗菌性的不銹鋼

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 189417 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 孫道中 | 于作浩

光碟薄膜用相變化靶材之回收及再利用技術

核准國家: 美國 | 證書號碼: US 6,635,219 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 溫志中 | 賴明雄 | 李秉璋

高高溫伸長率電解銅箔之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 192043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠 | 李鴻坤 | 翁榮洲

含細微化組織之合金靶材製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 197245 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢 | 陳俊沐 | 蘇健忠 | 范元昌 | 黃振東 | 呂明生 | 吳清勳

電子連接器之後端電磁遮蔽元件

核准國家: 美國 | 證書號碼: US 6,705,897 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳立生 | 章本華 | 陳炤祖

具耐折性之電解銅箔的製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 200903 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠 | 李鴻坤 | 翁榮洲

具散熱結構之連接器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 206075 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 章本華 | 林欣衛 | 廖子昌

軟性印刷電路板用壓延銅箔表面處理製程

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 206917 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕 | 翁榮洲 | 劉金耀

廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW 207333 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄 | 溫志中 | 鄭楚丕

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: TW I224352 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂 | 郭鐘亮 | 張光榮 | 賴詩文 | 栗愛綱 | 賴宏仁 | 橫山明聰

液晶面板及其製造方

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 182317 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 溫俊祥 | 吳耀庭 | 鄭淑惠 | 詹明香 | 安川淳一 | 桑原一

具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185492 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎 | 陳永志 | 王先毅 | 鄭龍正 | 陳俊昇

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