主動式張力調控方法
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專利名稱-中文主動式張力調控方法的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL201010218276.9, 專利期間起是105/06/08, 專利期間訖是119/06/29, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是105, 計畫名稱是智慧手持裝置核心技術攻堅計畫, 專利發明人是劉冠志.林崇田.

序號	18719
產出年度	105
領域別	智慧科技
專利名稱-中文	主動式張力調控方法
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	智慧手持裝置核心技術攻堅計畫
專利發明人	劉冠志.林崇田
核准國家	中國大陸
獲證日期	105/06/08
證書號碼	ZL201010218276.9
專利期間起	105/06/08
專利期間訖	119/06/29
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種主動式張力調控方法，其係調控該張力擺動輪組之轉矩，以控制張力感測輪量測該薄膜材料之張力接近於一張力設定值，在調控張力擺動輪組之轉速及轉矩，以並使張力擺動輪組之線速度接近於送料輪之線速度的一半，且張力感測輪量測該薄膜材料之張力仍接近於張力設定值，之後反覆進行該薄膜材料之放料及送料。本發明之主動式張力調控方法可解決放料輪、張力擺動輪組及送料輪走走停停所造成的張力不均勻現象。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉冠志
電話	07-3513121
傳真	07-3533982
電子信箱	kenny-liu@mail.mirdc.org.tw
參考網址	http://ttp://www.mirdc.org.tw/
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

18719

產出年度

105

領域別

智慧科技

專利名稱-中文

主動式張力調控方法

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

智慧手持裝置核心技術攻堅計畫

專利發明人

劉冠志.林崇田

核准國家

中國大陸

獲證日期

105/06/08

證書號碼

ZL201010218276.9

專利期間起

105/06/08

專利期間訖

119/06/29

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種主動式張力調控方法，其係調控該張力擺動輪組之轉矩，以控制張力感測輪量測該薄膜材料之張力接近於一張力設定值，在調控張力擺動輪組之轉速及轉矩，以並使張力擺動輪組之線速度接近於送料輪之線速度的一半，且張力感測輪量測該薄膜材料之張力仍接近於張力設定值，之後反覆進行該薄膜材料之放料及送料。本發明之主動式張力調控方法可解決放料輪、張力擺動輪組及送料輪走走停停所造成的張力不均勻現象。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉冠志

電話

07-3513121

傳真

07-3533982

電子信箱

kenny-liu@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://ttp://www.mirdc.org.tw/

備註

(空)

特殊情形

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主動式張力調控方法

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定張力捲繞裝置及其調控模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I409207 \| 專利期間起: 102/09/21 \| 專利期間訖: 119/11/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 劉冠志,林崇田 @ 技術司專利資料集
兩段式上下板影像精密對位方法及其裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I388945 \| 專利期間起: 102/03/11 \| 專利期間訖: 117/10/01 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉冠志、林崇田、張成仲 @ 技術司專利資料集
定張力捲繞裝置及其調控模組	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL201010582539.4 \| 專利期間起: 119/12/09 \| 專利期間訖: 捲繞系統在紡織、印染、造紙、冶金、軟性電子等行業應用很廣泛。多數情況下，會要求加工過程中保持張力恆定。但是捲繞過程則不同，隨著卷徑的增大，張力逐漸變小，如果伺服控制（變頻）器無法得知目前正確捲徑就會造... \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 \| 專利發明人: 劉冠志.林崇田 @ 技術司專利資料集
兩段式上下板影像精密對位方法及裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810176471.2 \| 專利期間起: 100/06/22 \| 專利期間訖: 117/11/13 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 林崇田、劉冠志、張成仲 @ 技術司專利資料集
可調變長週期光纖光柵之製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I484232 \| 專利期間起: 104/05/11 \| 專利期間訖: 122/12/08 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 張浩禎、林世偉、林崇田、劉冠志 @ 技術司專利資料集
微動模組及包含該微動模組之多軸向微調裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M354773 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 98 \| 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱/劉冠志/林崇田 @ 技術司專利資料集

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財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）	機構電話: (07)3513121 \| 有效期間: 至113.7.31\|至113.6.15編號：001 \| 機構住址: 高雄市楠梓區高楠公路1001號 \| 認可範圍: 1.動力衝剪機械。\|2.木材加工用圓盤鋸。\|3.研磨機。\|4.研磨輪。\|5.動力堆高機。\|6.交流電焊機之自動電擊防止裝置。 @ 勞動部認可型式檢定機構清單
氣體擴散室	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 101146066 \| 專利期間起: 104/07/17 \| 專利期間訖: 121/07/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳春森 @ 技術司專利資料集
具阻尼限速功能之助行器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I344362 \| 專利期間起: 100/07/01 \| 專利期間訖: 116/12/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 崔海平、林大裕、紀青迪、邱冠智 @ 技術司專利資料集
放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810185135.4 \| 專利期間起: 100/07/20 \| 專利期間訖: 117/12/09 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂育廷、楊忠義、莊殷、許富銓 @ 技術司專利資料集
超精密壓電定位平台	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249593.4 \| 專利期間起: 101/07/18 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱、游源成、劉冠志、黃加助 @ 技術司專利資料集
一種人體植入物及其製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249594.9 \| 專利期間起: 102/07/03 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 @ 技術司專利資料集
水解纖維素系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400248 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 118/12/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄧育庭、郭子禎、洪俊宏、 @ 技術司專利資料集
醫療器材與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400100 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 119/09/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王鍏晴、施威任、陳維德、周金龍 @ 技術司專利資料集

財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）

@ 勞動部認可型式檢定機構清單

氣體擴散室

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具阻尼限速功能之助行器

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放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置

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超精密壓電定位平台

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一種人體植入物及其製造方法

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水解纖維素系統及方法

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醫療器材與其製造方法

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光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00129763.5 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜
動態減震系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206772 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊志軒, 謝政揚, 黃振源, 張啟伸
聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00108097.0 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 朱良謙, 張志吉
可調整的鏡群裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195758 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 涂銀發, 姜皇成, 陳志文, 張耿智
雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201010 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林明慧, 劉通發
環場影像接圖器及其方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,798,923 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝君偉, 江政欽, 魏德樂
取紙傳動模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 215325 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林智堅, 陳英棋, 鄭兆凱, 張惠珍
噴墨印頭的封裝方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98106298.9 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 藍元亮, 吳義勇, 邱紹玲, 劉克明, 鄭淑娟
噴墨印頭結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98116196.0 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文
墨水通道設計	核准國家: 德國 \| 證書號碼: 19914700 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文
墨水通道製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98115179.5 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 王介文, 吳義勇, 胡鴻烈, 李明玲
噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98118397.2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳
噴墨印頭的結構與製作方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL98124126.3 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨
一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00100896.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超
可精確測量加熱元件溫度的噴墨打印頭及其測量方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00100897.8 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 張智超, 王介文, 蘇士豪

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