具自清潔的超音波塗佈設備
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文具自清潔的超音波塗佈設備的核准國家是中華民國, 執行單位是精機中心, 產出年度是105, 專利性質是新型, 計畫名稱是先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫, 專利發明人是林建華;李佶峰;吳建霖;陳祈先, 證書號碼是M520418.

序號19135
產出年度105
領域別綠能科技
專利名稱-中文具自清潔的超音波塗佈設備
執行單位精機中心
產出單位精機中心
計畫名稱先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人林建華;李佶峰;吳建霖;陳祈先
核准國家中華民國
獲證日期105/04/21
證書號碼M520418
專利期間起105/04/21
專利期間訖114/11/24
專利性質新型
技術摘要-中文一種具自清潔的超音波塗佈設備,用於對一工件進行噴塗作業,其包含一機體、一超音波噴塗模組、一清潔模組與一輸送單元,其中該超音波噴塗模組設置於該機體上,該超音波噴塗模組具有一進行噴塗作業的噴塗作業區,該清潔模組設置於該機體上,該清潔模組具有一進行清潔作業的清潔作業區,該輸送單元依序經過該噴塗作業區與該清潔作業區,且該輸送單元乘載該工件經過該噴塗作業區進行噴塗作業,據此該輸送單元經過該噴塗作業區所沾附的殘漆,在進入該清潔作業區之後,即可以藉由該清潔模組清潔乾淨,避免汙染待加工的工件,滿足使用上的需求。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳建霖
電話05-2919925#6102
傳真05-2351732
電子信箱e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

19135

產出年度

105

領域別

綠能科技

專利名稱-中文

具自清潔的超音波塗佈設備

執行單位

精機中心

產出單位

精機中心

計畫名稱

先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫

專利發明人

林建華;李佶峰;吳建霖;陳祈先

核准國家

中華民國

獲證日期

105/04/21

證書號碼

M520418

專利期間起

105/04/21

專利期間訖

114/11/24

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種具自清潔的超音波塗佈設備,用於對一工件進行噴塗作業,其包含一機體、一超音波噴塗模組、一清潔模組與一輸送單元,其中該超音波噴塗模組設置於該機體上,該超音波噴塗模組具有一進行噴塗作業的噴塗作業區,該清潔模組設置於該機體上,該清潔模組具有一進行清潔作業的清潔作業區,該輸送單元依序經過該噴塗作業區與該清潔作業區,且該輸送單元乘載該工件經過該噴塗作業區進行噴塗作業,據此該輸送單元經過該噴塗作業區所沾附的殘漆,在進入該清潔作業區之後,即可以藉由該清潔模組清潔乾淨,避免汙染待加工的工件,滿足使用上的需求。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

吳建霖

電話

05-2919925#6102

傳真

05-2351732

電子信箱

e10139@mail.pmc.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

根據識別碼 M520418 找到的相關資料

無其他 M520418 資料。

[ 搜尋所有 M520418 ... ]

根據名稱 具自清潔的超音波塗佈設備 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 具自清潔的超音波塗佈設備 ...)

# 具自清潔的超音波塗佈設備 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號8716
產出年度105
技術名稱-中文薄膜塗佈設備技術開發
執行單位精機中心
產出單位(空)
計畫名稱先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
領域綠能科技
已申請專利之國家中華民國;中國大陸
已獲得專利之國家中華民國;中國大陸
技術現況敘述-中文1.本設備技術主要藉由精機中心發展多年的超音波噴塗技術為基礎,整合關鍵技術開發設備,並擴展至R2R、單機型、實驗型等領域及用途,其最大特點為具有可以在非真空狀態下,將漿料均勻塗佈於基材上,來達到連續精密鍍膜,實現大面積量產功能性薄膜產品之目標,符合產業界需求。此技術包含「導氣流場應用技術」、「低脈衝穩壓供料系統」、「狹縫供料系統內部流道開發技術」、「非真空製程整合技術」及「自清式噴塗設備技術」。 2.中華民國「超音波噴塗模組」、中華民國及中國大陸「複合型的超音波塗佈龍門機構」,共3案已取得申請案號。 3.中華民國「桌上立型噴塗機」、「壓力供料閉迴路控制系統」、「具自清潔的超音波塗佈設備」、中國大陸「具有自清潔的超聲波塗佈設備」、「環形供料導流裝置」,共5案已取得證號。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.28kHz超音波模組一型 2.14W功率驅動器 3.設備可噴塗區域:100cm 4.材料利用率95%以上 5.自動清潔噴塗模組設計 6.PLC人機介面
技術成熟度雛型
可應用範圍廣泛應用於多種功能性之漿料噴塗如CIGS薄膜、易潔膜、節能隔熱膜、透明導電膜、抗UV漿料、防霧(AF)、抗污(AS)以及無線射頻辨識等,可大面積量產製作,有效提高產能。
潛力預估非真空超音波噴塗設備不但可用來取代昂貴的真空製程,大幅降低設備建置成本,藉由均勻噴塗製程,有效提高產能,從而增加廠商投入發展意願以活化整體產業鏈。
聯絡人員李佶峰
電話05-2919925#8873
傳真05-2351732 05-2351732
電子信箱e10116@mail.pmc.org.tw
參考網址http://www.pmc.org.tw/achievement.aspx
所須軟硬體設備粒子影像測速儀(PIV)、結構力學分析軟體、流體模擬分析軟體、3D繪圖軟體、可程式控制(PLC)
需具備之專業人才機械工程師、熱流工程師、機電整合工程師、自動控制工程師、軟體工程師
序號: 8716
產出年度: 105
技術名稱-中文: 薄膜塗佈設備技術開發
執行單位: 精機中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
領域: 綠能科技
已申請專利之國家: 中華民國;中國大陸
已獲得專利之國家: 中華民國;中國大陸
技術現況敘述-中文: 1.本設備技術主要藉由精機中心發展多年的超音波噴塗技術為基礎,整合關鍵技術開發設備,並擴展至R2R、單機型、實驗型等領域及用途,其最大特點為具有可以在非真空狀態下,將漿料均勻塗佈於基材上,來達到連續精密鍍膜,實現大面積量產功能性薄膜產品之目標,符合產業界需求。此技術包含「導氣流場應用技術」、「低脈衝穩壓供料系統」、「狹縫供料系統內部流道開發技術」、「非真空製程整合技術」及「自清式噴塗設備技術」。 2.中華民國「超音波噴塗模組」、中華民國及中國大陸「複合型的超音波塗佈龍門機構」,共3案已取得申請案號。 3.中華民國「桌上立型噴塗機」、「壓力供料閉迴路控制系統」、「具自清潔的超音波塗佈設備」、中國大陸「具有自清潔的超聲波塗佈設備」、「環形供料導流裝置」,共5案已取得證號。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 1.28kHz超音波模組一型 2.14W功率驅動器 3.設備可噴塗區域:100cm 4.材料利用率95%以上 5.自動清潔噴塗模組設計 6.PLC人機介面
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 廣泛應用於多種功能性之漿料噴塗如CIGS薄膜、易潔膜、節能隔熱膜、透明導電膜、抗UV漿料、防霧(AF)、抗污(AS)以及無線射頻辨識等,可大面積量產製作,有效提高產能。
潛力預估: 非真空超音波噴塗設備不但可用來取代昂貴的真空製程,大幅降低設備建置成本,藉由均勻噴塗製程,有效提高產能,從而增加廠商投入發展意願以活化整體產業鏈。
聯絡人員: 李佶峰
電話: 05-2919925#8873
傳真: 05-2351732 05-2351732
電子信箱: e10116@mail.pmc.org.tw
參考網址: http://www.pmc.org.tw/achievement.aspx
所須軟硬體設備: 粒子影像測速儀(PIV)、結構力學分析軟體、流體模擬分析軟體、3D繪圖軟體、可程式控制(PLC)
需具備之專業人才: 機械工程師、熱流工程師、機電整合工程師、自動控制工程師、軟體工程師

# 具自清潔的超音波塗佈設備 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號19136
產出年度105
領域別綠能科技
專利名稱-中文具有自清潔的超聲波塗佈設備
執行單位精機中心
產出單位精機中心
計畫名稱先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人林建華;李佶峰;吳建霖;陳祈先
核准國家中國大陸
獲證日期105/05/25
證書號碼201521033500.1
專利期間起104/12/11
專利期間訖114/12/11
專利性質新型
技術摘要-中文一種具自清潔的超音波塗佈設備,用於對一工件進行噴塗作業,其包含一機體、一超音波噴塗模組、一清潔模組與一輸送單元,其中該超音波噴塗模組設置於該機體上,該超音波噴塗模組具有一進行噴塗作業的噴塗作業區,該清潔模組設置於該機體上,該清潔模組具有一進行清潔作業的清潔作業區,該輸送單元依序經過該噴塗作業區與該清潔作業區,且該輸送單元乘載該工件經過該噴塗作業區進行噴塗作業,據此該輸送單元經過該噴塗作業區所沾附的殘漆,在進入該清潔作業區之後,即可以藉由該清潔模組清潔乾淨,避免汙染待加工的工件,滿足使用上的需求。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳建霖
電話05-2919925#6102
傳真05-2351732
電子信箱e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 19136
產出年度: 105
領域別: 綠能科技
專利名稱-中文: 具有自清潔的超聲波塗佈設備
執行單位: 精機中心
產出單位: 精機中心
計畫名稱: 先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人: 林建華;李佶峰;吳建霖;陳祈先
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 105/05/25
證書號碼: 201521033500.1
專利期間起: 104/12/11
專利期間訖: 114/12/11
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種具自清潔的超音波塗佈設備,用於對一工件進行噴塗作業,其包含一機體、一超音波噴塗模組、一清潔模組與一輸送單元,其中該超音波噴塗模組設置於該機體上,該超音波噴塗模組具有一進行噴塗作業的噴塗作業區,該清潔模組設置於該機體上,該清潔模組具有一進行清潔作業的清潔作業區,該輸送單元依序經過該噴塗作業區與該清潔作業區,且該輸送單元乘載該工件經過該噴塗作業區進行噴塗作業,據此該輸送單元經過該噴塗作業區所沾附的殘漆,在進入該清潔作業區之後,即可以藉由該清潔模組清潔乾淨,避免汙染待加工的工件,滿足使用上的需求。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 吳建霖
電話: 05-2919925#6102
傳真: 05-2351732
電子信箱: e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 具自清潔的超音波塗佈設備 ... ]

根據姓名 林建華 李佶峰 吳建霖 陳祈先 找到的相關資料

無其他 林建華 李佶峰 吳建霖 陳祈先 資料。

[ 搜尋所有 林建華 李佶峰 吳建霖 陳祈先 ... ]

根據電話 05-2919925 6102 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 05-2919925 6102 ...)

# 05-2919925 6102 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號17200
產出年度104
領域別綠能科技
專利名稱-中文卷對卷超音波噴塗設備
執行單位精機中心
產出單位精機中心
計畫名稱先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人吳建霖;陳祈先;羅偉仁;劉旺林
核准國家中華民國
獲證日期104/04/01
證書號碼M498057
專利期間起104/04/01
專利期間訖113/11/11
專利性質新型
技術摘要-中文一種卷對卷超音波噴塗設備,其係用以對一卷材進行超音波噴塗製程,該卷對卷超音波噴塗設備包含一放卷模組、一超音波噴塗模組、一固化模組以及一收卷模組,該放卷模組用以釋放該卷材為一待處理連續片材,該超音波噴塗模組承接該待處理連續片材且經過超音波噴塗製程而形成一具有液化表面的半成品連續片材,該固化模組承接該半成品連續片材而使該半成品連續片材形成一具有均勻表面的完成品連續片材,最後該收卷模組承接該完成品連續片材並將該完成品連續片材捲繞回收。藉由卷對卷超音波噴塗設備,可提升製程的產率,減少人力資源的消耗,進而降低整體成本。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳建霖
電話05-2919925#6102
傳真05-2351732
電子信箱e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 17200
產出年度: 104
領域別: 綠能科技
專利名稱-中文: 卷對卷超音波噴塗設備
執行單位: 精機中心
產出單位: 精機中心
計畫名稱: 先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人: 吳建霖;陳祈先;羅偉仁;劉旺林
核准國家: 中華民國
獲證日期: 104/04/01
證書號碼: M498057
專利期間起: 104/04/01
專利期間訖: 113/11/11
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種卷對卷超音波噴塗設備,其係用以對一卷材進行超音波噴塗製程,該卷對卷超音波噴塗設備包含一放卷模組、一超音波噴塗模組、一固化模組以及一收卷模組,該放卷模組用以釋放該卷材為一待處理連續片材,該超音波噴塗模組承接該待處理連續片材且經過超音波噴塗製程而形成一具有液化表面的半成品連續片材,該固化模組承接該半成品連續片材而使該半成品連續片材形成一具有均勻表面的完成品連續片材,最後該收卷模組承接該完成品連續片材並將該完成品連續片材捲繞回收。藉由卷對卷超音波噴塗設備,可提升製程的產率,減少人力資源的消耗,進而降低整體成本。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 吳建霖
電話: 05-2919925#6102
傳真: 05-2351732
電子信箱: e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 05-2919925 6102 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號17202
產出年度104
領域別綠能科技
專利名稱-中文超音波噴塗模組及其變幅桿
執行單位精機中心
產出單位精機中心
計畫名稱先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人卓浩江;吳建霖;羅偉仁;劉旺林;劉憲鋒
核准國家中華民國
獲證日期104/12/01
證書號碼I510297
專利期間起104/12/01
專利期間訖122/11/13
專利性質發明
技術摘要-中文超音波噴塗模組包含一基座、一安裝於基座的壓電換能器、一變幅桿及一供料單元,該變幅桿包括一安裝於壓電換能器下方的本體、一與本體一體成型向朝下延伸的下端部及一供氣單元,下端部的徑寬朝下漸縮且底緣呈長條形,供氣單元具有一連接一高壓氣源且形成於變幅桿中的氣流道,及一形成於下端部底緣的噴氣出口,噴氣出口徑寬大於氣流道徑寬,供料單元包括一安裝於基座上的底座、一與底座共同界定出出料口的出口元件,及一設置於出口元件上且用於控制出料口的控制元件,本發明能簡化機構與提供寬幅式的精密噴塗,而能增加噴塗速度。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳建霖
電話05-2919925#6102
傳真05-2351732
電子信箱e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 17202
產出年度: 104
領域別: 綠能科技
專利名稱-中文: 超音波噴塗模組及其變幅桿
執行單位: 精機中心
產出單位: 精機中心
計畫名稱: 先進薄膜塗佈整線製程技術暨設備技術開發計畫
專利發明人: 卓浩江;吳建霖;羅偉仁;劉旺林;劉憲鋒
核准國家: 中華民國
獲證日期: 104/12/01
證書號碼: I510297
專利期間起: 104/12/01
專利期間訖: 122/11/13
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 超音波噴塗模組包含一基座、一安裝於基座的壓電換能器、一變幅桿及一供料單元,該變幅桿包括一安裝於壓電換能器下方的本體、一與本體一體成型向朝下延伸的下端部及一供氣單元,下端部的徑寬朝下漸縮且底緣呈長條形,供氣單元具有一連接一高壓氣源且形成於變幅桿中的氣流道,及一形成於下端部底緣的噴氣出口,噴氣出口徑寬大於氣流道徑寬,供料單元包括一安裝於基座上的底座、一與底座共同界定出出料口的出口元件,及一設置於出口元件上且用於控制出料口的控制元件,本發明能簡化機構與提供寬幅式的精密噴塗,而能增加噴塗速度。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 吳建霖
電話: 05-2919925#6102
傳真: 05-2351732
電子信箱: e10139@mail.pmc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)
[ 搜尋所有 05-2919925 6102 ... ]

與具自清潔的超音波塗佈設備同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

晶圓電鍍裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠, 蔣邦民, 王致誠, 黃振榮 | 證書號碼: 195797

晶片取放翻轉機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 林宏毅, 曾柏蒼 | 證書號碼: 215880

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 210192

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 6782883

臥式線型馬達工具機封閉型框架結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張恩生, 林清源, 許晉謀, 龔宣任 | 證書號碼: 209952

光準直器中透鏡之夾持機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱顯森, 黃相宇, 劉松河 | 證書號碼: 214550

光準直器自動組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃相宇, 劉松河, 邱顯森 | 證書號碼: 210229

光纖準直器自動化組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉松河, 黃相宇, 邱顯森 | 證書號碼: 219577

用于納米轉印的平行度調整裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: ZL03257537.8

用於奈米轉印之平行度調整裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: 217025

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

均光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑 | 證書號碼: M243671

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 | 證書號碼: 216653

函數曲線型透鏡光柵之光源調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲, 姚柏宏, 鮑友南, 潘奕凱 | 證書號碼: 207005

晶圓電鍍裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠, 蔣邦民, 王致誠, 黃振榮 | 證書號碼: 195797

晶片取放翻轉機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 林宏毅, 曾柏蒼 | 證書號碼: 215880

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 210192

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 6782883

臥式線型馬達工具機封閉型框架結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張恩生, 林清源, 許晉謀, 龔宣任 | 證書號碼: 209952

光準直器中透鏡之夾持機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱顯森, 黃相宇, 劉松河 | 證書號碼: 214550

光準直器自動組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃相宇, 劉松河, 邱顯森 | 證書號碼: 210229

光纖準直器自動化組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉松河, 黃相宇, 邱顯森 | 證書號碼: 219577

用于納米轉印的平行度調整裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: ZL03257537.8

用於奈米轉印之平行度調整裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: 217025

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

均光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑 | 證書號碼: M243671

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 | 證書號碼: 216653

函數曲線型透鏡光柵之光源調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲, 姚柏宏, 鮑友南, 潘奕凱 | 證書號碼: 207005

 |