電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討
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論文名稱電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討的作者是柳耀翔, 指導教授是方昭訓, 學位類別是碩士, 畢業學年度是102, 論文名稱(外文)是Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection, 系所名稱是材料科學與綠色能源工程研究所, 學校名稱是國立虎尾科技大學.

論文名稱	電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討
論文名稱(外文)	Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection
學校名稱	國立虎尾科技大學
系所名稱	材料科學與綠色能源工程研究所
畢業學年度	102
學位類別	碩士
作者	柳耀翔
指導教授	方昭訓
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/65m42k

論文名稱

電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討

論文名稱(外文)

Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection

學校名稱

國立虎尾科技大學

系所名稱

材料科學與綠色能源工程研究所

畢業學年度

102

學位類別

碩士

作者

柳耀翔

指導教授

方昭訓

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/65m42k

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