表面處理對氮化鎵高電子遷移率電晶體特性影響之研究
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論文名稱表面處理對氮化鎵高電子遷移率電晶體特性影響之研究的作者是洪明賢, 指導教授是洪瑞華, 學位類別是碩士, 畢業學年度是102, 論文名稱(外文)是Study on the Characteristics of GaN-Based High Electron Mobility Transistor with Various Surface Treatment, 系所名稱是精密工程學系所, 學校名稱是國立中興大學.

論文名稱表面處理對氮化鎵高電子遷移率電晶體特性影響之研究
論文名稱(外文)Study on the Characteristics of GaN-Based High Electron Mobility Transistor with Various Surface Treatment
學校名稱國立中興大學
系所名稱精密工程學系所
畢業學年度102
學位類別碩士
作者洪明賢
指導教授洪瑞華
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/pv5s6a

論文名稱

表面處理對氮化鎵高電子遷移率電晶體特性影響之研究

論文名稱(外文)

Study on the Characteristics of GaN-Based High Electron Mobility Transistor with Various Surface Treatment

學校名稱

國立中興大學

系所名稱

精密工程學系所

畢業學年度

102

學位類別

碩士

作者

洪明賢

指導教授

洪瑞華

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/pv5s6a

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洪明賢

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總機電話: (02)2218-9868 | 公司代號: 2761 | 住址: 新北市新店區中正路四維巷2弄5號2樓 | 成立日期: 20110628 | 橘焱胡同國際股份有限公司

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洪明賢

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洪明賢82942520核准設立

臺北市中正區忠孝西路1段7號5樓之1
洪明賢12781542核准設立

桃園縣龜山鄉中興村壽德街19號
洪明賢  02632679核准設立 - 獨資

高雄市三民區建國2路50號1樓
洪明賢06980044核准設立 - 獨資

臺北市信義區基隆路2段39巷9號
洪明賢12749179核准設立

臺南市東山區東中里達雲路一段46號1樓(營業面積限12■03平方公尺)
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高雄市小港區中安路392號1樓
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