利用原子層沉積技術改質牙科植體表面及其表現之研究
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論文名稱利用原子層沉積技術改質牙科植體表面及其表現之研究的作者是林煒峻, 指導教授是曾琬瑜, 學位類別是碩士, 畢業學年度是103, 論文名稱(外文)是Research on the Dental Implant Surface Properties and Performances Using Atomic Layer Deposition Technique, 系所名稱是臨床牙醫學研究所, 學校名稱是國立臺灣大學.

論文名稱利用原子層沉積技術改質牙科植體表面及其表現之研究
論文名稱(外文)Research on the Dental Implant Surface Properties and Performances Using Atomic Layer Deposition Technique
學校名稱國立臺灣大學
系所名稱臨床牙醫學研究所
畢業學年度103
學位類別碩士
作者林煒峻
指導教授曾琬瑜
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/8w25pe

論文名稱

利用原子層沉積技術改質牙科植體表面及其表現之研究

論文名稱(外文)

Research on the Dental Implant Surface Properties and Performances Using Atomic Layer Deposition Technique

學校名稱

國立臺灣大學

系所名稱

臨床牙醫學研究所

畢業學年度

103

學位類別

碩士

作者

林煒峻

指導教授

曾琬瑜

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/8w25pe

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林煒峻

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合悦美學牙醫診所(林煒峻)

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合悦美學牙醫診所(林煒峻)

處分日期: 20240604 | 處分金額或滯納金: 20000 | 公告日期: 20240812 | 處分字號: 勞局費字第11301807660號 | 違反法規內容: 投保薪資金額以多報少或以少報多,或未於期限內通知月投保薪資之調整。

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林煒峻

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