原子層沉積技術臨場摻鋁氧化鋅薄膜之製備與應用研究
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論文名稱原子層沉積技術臨場摻鋁氧化鋅薄膜之製備與應用研究的作者是黃政銘, 指導教授是李信義陳三元, 學位類別是博士, 畢業學年度是104, 論文名稱(外文)是Preparation and Applications of In-situ Al-doped ZnO Films by Atomic Layer Deposition, 系所名稱是工學院加速器光源科技與應用碩士學位學程, 學校名稱是國立交通大學.

論文名稱	原子層沉積技術臨場摻鋁氧化鋅薄膜之製備與應用研究
論文名稱(外文)	Preparation and Applications of In-situ Al-doped ZnO Films by Atomic Layer Deposition
學校名稱	國立交通大學
系所名稱	工學院加速器光源科技與應用碩士學位學程
畢業學年度	104
學位類別	博士
作者	黃政銘
指導教授	李信義陳三元
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/43ycmn

論文名稱

原子層沉積技術臨場摻鋁氧化鋅薄膜之製備與應用研究

論文名稱(外文)

Preparation and Applications of In-situ Al-doped ZnO Films by Atomic Layer Deposition

學校名稱

國立交通大學

系所名稱

工學院加速器光源科技與應用碩士學位學程

畢業學年度

104

學位類別

博士

作者

黃政銘

指導教授

李信義陳三元

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/43ycmn

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黃政銘

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振芳藥房南投縣埔里鎮同聲里東榮路４３號	黃政銘	61800145	核准設立 - 獨資 (核准文號: 1110002012)
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