以磁控濺鍍製作氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用
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論文名稱以磁控濺鍍製作氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用的作者是張立揚, 指導教授是張守進, 學位類別是碩士, 畢業學年度是105, 論文名稱(外文)是Investigation of Indium Gallium Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications, 系所名稱是微電子工程研究所, 學校名稱是國立成功大學.

論文名稱	以磁控濺鍍製作氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用
論文名稱(外文)	Investigation of Indium Gallium Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications
學校名稱	國立成功大學
系所名稱	微電子工程研究所
畢業學年度	105
學位類別	碩士
作者	張立揚
指導教授	張守進
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/c73kb4

論文名稱

以磁控濺鍍製作氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用

論文名稱(外文)

Investigation of Indium Gallium Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications

學校名稱

國立成功大學

系所名稱

微電子工程研究所

畢業學年度

105

學位類別

碩士

作者

張立揚

指導教授

張守進

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/c73kb4

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