雷射干涉微影技術搭配光電化學法製作多重通道氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率場效電晶體之研究
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論文名稱雷射干涉微影技術搭配光電化學法製作多重通道氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率場效電晶體之研究的作者是卓虹吟, 指導教授是李清庭, 學位類別是碩士, 畢業學年度是105, 論文名稱(外文)是Investigation of Multi-Channel AlGaN/GaN MOS-HEMTs Fabricated Using Laser Interference Photolithography Method and Photoelectrochemical Method, 系所名稱是微電子工程研究所, 學校名稱是國立成功大學.

論文名稱	雷射干涉微影技術搭配光電化學法製作多重通道氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率場效電晶體之研究
論文名稱(外文)	Investigation of Multi-Channel AlGaN/GaN MOS-HEMTs Fabricated Using Laser Interference Photolithography Method and Photoelectrochemical Method
學校名稱	國立成功大學
系所名稱	微電子工程研究所
畢業學年度	105
學位類別	碩士
作者	卓虹吟
指導教授	李清庭
博碩士論文網址	https://hdl.handle.net/11296/5jyt2a

論文名稱

雷射干涉微影技術搭配光電化學法製作多重通道氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率場效電晶體之研究

論文名稱(外文)

Investigation of Multi-Channel AlGaN/GaN MOS-HEMTs Fabricated Using Laser Interference Photolithography Method and Photoelectrochemical Method

學校名稱

國立成功大學

系所名稱

微電子工程研究所

畢業學年度

105

學位類別

碩士

作者

卓虹吟

指導教授

李清庭

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/5jyt2a

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