使用氮氣中性粒子束電漿處理之大氣常壓電漿輔助化學氣相沉積製備高效能銦鎵鋅氧薄膜電晶體研究
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論文名稱使用氮氣中性粒子束電漿處理之大氣常壓電漿輔助化學氣相沉積製備高效能銦鎵鋅氧薄膜電晶體研究的作者是李銘川, 指導教授是張國明, 學位類別是碩士, 畢業學年度是105, 論文名稱(外文)是High-Performance AP-PECVD Fabricated InGaZnO Thin Film Transistors with Nitrogen Incorporation by Neutral Beam System, 系所名稱是電子研究所, 學校名稱是國立交通大學.

論文名稱使用氮氣中性粒子束電漿處理之大氣常壓電漿輔助化學氣相沉積製備高效能銦鎵鋅氧薄膜電晶體研究
論文名稱(外文)High-Performance AP-PECVD Fabricated InGaZnO Thin Film Transistors with Nitrogen Incorporation by Neutral Beam System
學校名稱國立交通大學
系所名稱電子研究所
畢業學年度105
學位類別碩士
作者李銘川
指導教授張國明
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/7h7v8h

論文名稱

使用氮氣中性粒子束電漿處理之大氣常壓電漿輔助化學氣相沉積製備高效能銦鎵鋅氧薄膜電晶體研究

論文名稱(外文)

High-Performance AP-PECVD Fabricated InGaZnO Thin Film Transistors with Nitrogen Incorporation by Neutral Beam System

學校名稱

國立交通大學

系所名稱

電子研究所

畢業學年度

105

學位類別

碩士

作者

李銘川

指導教授

張國明

博碩士論文網址

https://hdl.handle.net/11296/7h7v8h

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桃園市桃園區民生里廣文街40號1樓
李銘川41436324核准設立 - 獨資 (核准文號: 1069013681)

登記地址: 桃園市桃園區民生里廣文街40號1樓 | 負責人: 李銘川 | 統編: 41436324 | 核准設立 - 獨資 (核准文號: 1069013681)

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