以射頻磁控濺鍍製作氧化銦鎢薄膜特性及其元件應用
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論文名稱以射頻磁控濺鍍製作氧化銦鎢薄膜特性及其元件應用的作者是陳冠吟, 指導教授是張守進, 學位類別是碩士, 畢業學年度是106, 論文名稱(外文)是Investigation of Indium Tungsten Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications, 系所名稱是奈米積體電路工程碩士學位學程, 學校名稱是國立成功大學.
論文名稱 | 以射頻磁控濺鍍製作氧化銦鎢薄膜特性及其元件應用 |
論文名稱(外文) | Investigation of Indium Tungsten Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications |
學校名稱 | 國立成功大學 |
系所名稱 | 奈米積體電路工程碩士學位學程 |
畢業學年度 | 106 |
學位類別 | 碩士 |
作者 | 陳冠吟 |
指導教授 | 張守進 |
博碩士論文網址 | https://hdl.handle.net/11296/8nvwrk |
論文名稱以射頻磁控濺鍍製作氧化銦鎢薄膜特性及其元件應用 |
論文名稱(外文)Investigation of Indium Tungsten Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications |
學校名稱國立成功大學 |
系所名稱奈米積體電路工程碩士學位學程 |
畢業學年度106 |
學位類別碩士 |
作者陳冠吟 |
指導教授張守進 |
博碩士論文網址https://hdl.handle.net/11296/8nvwrk |